针对碳化硅超结功率装置的有源区设计

    公开(公告)号:CN115241270A

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202210490401.4

    申请日:2016-06-24

    Abstract: 本说明书中公开的主题涉及碳化硅(SiC)功率装置,并且更确切地说,涉及SiC超结(SJ)功率装置的有源区设计。SiC‑SJ装置包括具有一个或多个电荷平衡(CB)层有源区。每个CB层包括具有第一导电型的半导体层和设置在所述半导体层表面中具有第二导电型的多个浮置区。所述多个浮置区和所述半导体层均被配置成大体上耗尽以在反偏压施加至所述SiC‑SJ装置时提供来自离子掺杂剂的大体上等量的电荷。

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