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公开(公告)号：CN103154301B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201280003230.2
申请日：2012-05-02
Applicant: 韩国生产技术研究院
CPC classification number: H01G9/2036 , C23C14/022 , C23C14/042 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/205 , C23C14/352 , C23C28/32 , C23C28/322 , C23C28/345 , H01B1/08 , H01G9/2031 , H01G9/204 , H01L51/442 , Y02E10/542 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 本发明涉及用于染料敏化太阳能电池的柔性透明电极及其制造方法，更具体地，涉及用于染料敏化太阳能电池的柔性Ti-In-Zn-O透明电极及其制造方法，并且涉及利用了柔性透明电极的具有高电导率的插入有金属的三层透明电极及其制造方法，其中，与具有高沉积温度的常规的掺氟氧化锡（FTO）和氧化铟锡（ITO）透明电极相比，尽管在室温下或低温下被沉积，但是柔性透明电极仍具有低表面电阻、高电导率和透射率、对外部弯曲的优异抵抗度、提高的表面特性以及更好的表面粗糙度性能。
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公开(公告)号：CN103154301A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201280003230.2
申请日：2012-05-02
Applicant: 韩国生产技术研究院
CPC classification number: H01G9/2036 , C23C14/022 , C23C14/042 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/205 , C23C14/352 , C23C28/32 , C23C28/322 , C23C28/345 , H01B1/08 , H01G9/2031 , H01G9/204 , H01L51/442 , Y02E10/542 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 本发明涉及用于染料敏化太阳能电池的柔性透明电极及其制造方法，更具体地，涉及用于染料敏化太阳能电池的柔性Ti-In-Zn-O透明电极及其制造方法，并且涉及利用了柔性透明电极的具有高电导率的插入有金属的三层透明电极及其制造方法，其中，与具有高沉积温度的常规的掺氟氧化锡（FTO）和氧化铟锡（ITO）透明电极相比，尽管在室温下或低温下被沉积，但是柔性透明电极仍具有低表面电阻、高电导率和透射率、对外部弯曲的优异抵抗度、提高的表面特性以及更好的表面粗糙度性能。
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公开(公告)号：CN107003614B
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201580063124.7
申请日：2015-09-11
Applicant: 韩国生产技术研究院
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种利用背面曝光技术的保护微细图案及沉积金属层的方法，其在透明基板和金属层上形成有预定图案的状态下，为了附加工艺，不使用光元件掩模(mask)，并在保护已形成的图案的同时，无对准误差地沉积光致抗蚀剂金属层，并且，对加工在透明基板上的图案执行附加刻蚀(etch)时，可进行后加工，以与现有图案孔一致，由此可实现精密的后加工。如上所述，本发明的特征在于，包括：刻蚀步骤，对于在透明基板上形成的金属层，利用包括预定图案的光致抗蚀剂刻蚀金属层和透明基板，从而在金属层和透明基板上形成图案孔，或者通过刻蚀金属层而在金属层上形成图案孔；背面曝光准备步骤，在通过刻蚀形成预定图案的图案孔和金属层上部涂布感光材料；以及背面曝光步骤，在透明基板侧进行背面曝光，去除部分感光材料，其中，所述感光材料由正性光致抗蚀剂组成，且通过所述背面曝光步骤去除预定图案孔的感光材料，所述背面曝光之后，还包括附加刻蚀步骤，对去除感光材料的预定图案孔部分的透明基板进行刻蚀。
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公开(公告)号：CN107003614A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580063124.7
申请日：2015-09-11
Applicant: 韩国生产技术研究院
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种利用背面曝光技术的保护微细图案及沉积金属层的方法，其在透明基板和金属层上形成有预定图案的状态下，为了附加工艺，不使用光元件掩模(mask)，并在保护已形成的图案的同时，无对准误差地沉积光致抗蚀剂金属层，并且，对加工在透明基板上的图案执行附加刻蚀(etch)时，可进行后加工，以与现有图案孔一致，由此可实现精密的后加工。如上所述，本发明的特征在于，包括：刻蚀步骤，对于在透明基板上形成的金属层，利用包括预定图案的光致抗蚀剂刻蚀金属层和透明基板，从而在金属层和透明基板上形成图案孔，或者通过刻蚀金属层而在金属层上形成图案孔；背面曝光准备步骤，在通过刻蚀形成预定图案的图案孔和金属层上部涂布感光材料；以及背面曝光步骤，在透明基板侧进行背面曝光，去除部分感光材料，其中，所述感光材料由正性光致抗蚀剂组成，且通过所述背面曝光步骤去除预定图案孔的感光材料，所述背面曝光之后，还包括附加刻蚀步骤，对去除感光材料的预定图案孔部分的透明基板进行刻蚀。
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