-
公开(公告)号：CN102300802A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200980155613.X
申请日：2009-12-02
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: C25D1/006 , B82Y20/00 , C25D1/003 , C25D5/02 , C25D5/028 , G02B5/3025 , G02B2207/101
Abstract: 本发明提供了一种制造连续纳米结构化材料的方法，所述连续纳米结构化材料具有电沉积表面层。导电母版筒被浸入到镀槽中，所述导电母版筒在其表面具有浮雕图案，所述浮雕图案使导电母版筒表面仅有一部分露出。可电沉积材料涂覆在所述母版筒的露出表面上。支承材料涂覆在所述沉积层和所述浮雕结构上。从所述母版筒上移除而得到所述纳米结构化材料。
-
公开(公告)号：CN100523885C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200580044484.9
申请日：2005-11-04
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 利文特·伯耶克勒 , 杰罗姆·C·波尔凯 , 詹姆士·M·巴蒂亚托 , 大卫·B·斯特高尔
IPC: G02B6/02
CPC classification number: G02B6/02138 , G02B6/02133 , G02B6/02152
Abstract: 一种用于制造光学衬底(54)中的结构(52)的系统和方法。光学元件(80)产生第一和第二写光束(110，112)，其在光学衬底(54)的第一相交位置(112)处相交。第一相交位置(118)包括由第一和第二写光束(110，112)所产生的条纹图(52)。该光学元件(80)也产生第一和第二参考光束(114，116)，其在与第一相交位置(118)基本上同一平面内的第二相交位置(119)处相交并重新组合。然后，控制器基于从重组第一和第二参考光束(114，116)得到的信号来控制在光学衬底(54)和条纹图之间的相对定位。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104698515A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201510040817.6
申请日：2008-10-14
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: G02B6/1225 , B82Y15/00 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , G01N21/658 , G02B6/107 , G02B3/0012 , G01N21/65 , G02B3/0031 , G02B6/122
Abstract: 本发明涉及制造微阵列的方法。具体地，本发明提供了一种制备微阵列的方法，其包括：为基底提供具有第一轮廓的离散的第一微观特征；以及将气相涂覆的材料沉积到所述第一微观特征上，以形成具有与所述第一轮廓基本不同的第二轮廓的第二微观特征。本发明还提供了一种将复制材料添加到所述气相涂覆的微观特征上以形成模具的方法。通过该方法制备的微阵列可用作用于表面增强拉曼光谱分析(SERS)的基底。
-
公开(公告)号：CN101827783A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200880103985.3
申请日：2008-05-23
Applicant: 3M创新有限公司
IPC: B82B3/00 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0002 , B81B2203/0361 , B81C99/009 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供了制备含有纳米特征和微结构的层次制品的方法。所述方法包括提供包括纳米特征的基材，和然后制造微结构，添加层，除去所述层的至少一部分以露出所述基材的至少一部分。本发明还提供了制备含有纳米特征和微结构的层次结构的方法，其中该方法包括利用纳米粒子作为蚀刻掩模向已存在的微结构添加所述纳米特征。
-
公开(公告)号：CN101910829A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200880123717.8
申请日：2008-10-14
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: G02B6/1225 , B82Y15/00 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , G01N21/658 , G02B6/107
Abstract: 本发明提供了一种制备微阵列的方法，其包括：为基底提供具有第一轮廓的离散的第一微观特征；以及将气相涂覆的材料沉积到所述第一微观特征上，以形成具有与所述第一轮廓基本不同的第二轮廓的第二微观特征。本发明还提供了一种将复制材料添加到所述气相涂覆的微观特征上以形成模具的方法。通过该方法制备的微阵列可用作用于表面增强拉曼光谱分析(SERS)的基底。
-
公开(公告)号：CN101903976A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200880122040.6
申请日：2008-12-02
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 杰罗姆·C·波尔凯
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/20 , G03B27/52 , G03F7/2035
Abstract: 本发明提供了用于制造具有微米或亚微米特征的三维(3D)结构的方法和系统。该方法包括提供连续地形成的浮雕结构化材料，浮雕结构化材料具有第一层，第一层包含具有在其第一表面上形成的浮雕结构图案的材料。结构化材料包括在第一层上设置的含有光敏材料的第二层。使浮雕结构化材料曝光于穿过第一层的辐射，其中在第一层的第一表面上形成的浮雕结构图案产生在第二层上入射的辐射的三维光强图案。将曝光材料显影，其中显影材料包括多个具有微米或亚微米特征的3D结构。
-
公开(公告)号：CN101088036A
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200580044484.9
申请日：2005-11-04
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 利文特·伯耶克勒 , 杰罗姆·C·波尔凯 , 詹姆士·M·巴蒂亚托 , 大卫·B·斯特高尔
IPC: G02B6/02
CPC classification number: G02B6/02138 , G02B6/02133 , G02B6/02152
Abstract: 一种用于制造光学衬底(54)中的结构(52)的系统和方法。光学元件(80)产生第一和第二写光束(110，112)，其在光学衬底(54)的第一相交位置(112)处相交。第一相交位置(118)包括由第一和第二写光束(110，112)所产生的条纹图(52)。该光学元件(80)也产生第一和第二参考光束(114，116)，其在与第一相交位置(118)基本上同一平面内的第二相交位置(119)处相交并重新组合。然后，控制器基于从重组第一和第二参考光束(114，116)得到的信号来控制在光学衬底(54)和条纹图之间的相对定位。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.024 seconds)
