公开(公告)号：CN1311259C

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：CN01822287.0

申请日：2001-11-28

Applicant: 株式会社藤仓

Inventor： 石井裕 ,  和田朗 ,  木村直树 ,  斋藤伸

IPC: G02B6/10 ,  G02B6/02

CPC classification number: G02B6/02109 ,  G02B6/02123 ,  G02B6/02138 ,  G02B6/02147 ,  G02B6/02152 ,  G02B6/105

Abstract: 本发明以改善紫外线感应型光纤光栅中的插入损失的偏振波依存性(PDL)为目的。在本发明中，在一种通过从具备由因特定波长的光照射而折射率上升的材料组成的部位的光纤侧面沿该光纤的长度方向按规定周期照射上述特定波长的光，使该照射部分的折射率上升，来制造具有沿长度方向按规定周期间断排列的多个光栅部的光纤光栅的方法中，在光纤中沿其圆周方向均匀地照射光，形成上述折射率上升部。

公开(公告)号：CN1555503A

公开(公告)日：2004-12-15

申请号：CN02817961.7

申请日：2002-08-29

Applicant: 纳幕尔杜邦公司

Inventor： L·埃尔达达

IPC: G02B6/34

CPC classification number: G02B6/138 ,  G02B6/02033 ,  G02B6/02138 ,  G02B6/02152 ,  G02B6/1221 ,  G02B6/124 ,  G02B2006/1219

Abstract: 本发明提供一种用于在光敏性平面线性波导中制造切趾布喇格光栅的方法。在基片(2)的表面上设置光敏性平面线性波导(4)。带有图案的相位掩模(6)设置在波导与激光束(8)之间。波导通过相位掩模曝光于激光束，其中激光束以基本恒定的速度相对基片和相位掩模移动，或者基片和相位掩模以基本恒定的速度相对激光束移动。光束具有平滑改变的强度分布，在足以引起波导折射率改变，并在波导中附加与相位掩模图案相应的切趾布喇格光栅的条件下，以相对纵轴大于0且小于90(度)的角度执行曝光。

公开(公告)号：CN1493012A

公开(公告)日：2004-04-28

申请号：CN01823036.9

申请日：2001-06-26

Applicant: 3M创新有限公司

Inventor： A·加蒂卡 ,  D·L·拉布拉克

IPC: G02B6/36 ,  G02B6/16 ,  G02B6/245 ,  G02B6/44

CPC classification number: G02B6/02152 ,  G02B6/245 ,  G02B6/3616 ,  G02B6/3652 ,  G02B6/4453 ,  G02B6/4457 ,  G02B6/4497

Abstract: 一种细丝组织器(10)，具有邻接于支承(12)的第一表面(14)的一可锁定线轴(16)和一旋转线轴(18)。一拉紧器(58)安装在支承的第二侧面，并包括附接至旋转线轴上的一拉力线(62)。这样可以施加拉力于旋转线轴，该线轴将拉力传递到设置于可锁定线轴和旋转线轴之间的一细丝上。细丝组织器特别是用来在诸如剥离和重涂覆的制造和加工处理操作中和在诸如光纤光栅组件的功能组件中处理光纤。一堆叠结构(68)包括若干间隔块(70)和若干组织器安装座(72)，以对齐诸细丝组织器(10)。

公开(公告)号：CN106772782A

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201710042159.3

申请日：2017-01-19

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 孙琪真 ,  张威 ,  闫志君 ,  向阳 ,  艾凡 ,  汪静逸 ,  刘德明

IPC: G02B6/02

CPC classification number: G02B6/02133 ,  G02B6/02152 ,  G02B6/02295 ,  G02B2006/02166

Abstract: 本发明公开了一种多功能光纤微结构连续刻写装置及方法，该装置包括，放纤模块，用于以由所刻写光纤微结构类型而确定的速度放出光纤，光纤进入光纤清洗模块进行清洗后放出清洁光纤，清洁光纤进入光纤调节模块，由光纤调节模块调整位于刻写区域的清洁光纤的位置与倾斜角度，激光发生模块与光纤调节模块相对放置，激光发生模块在光纤上刻写光纤微结构，通过改变光纤的速度和脉冲激光的起止时间，实现在光纤上刻写不同的微结构，收纤模块用于收纳刻写有微结构的光纤，本装置相较于普通的光栅刻写平台，由于光纤相对于脉冲干涉激光光源可独立精确移动，同时通过调整发射脉冲干涉激光的时间和终止发射脉冲干涉激光的时间，可以在光纤上任意刻写光栅结构，实现不同的光纤微结构的刻写，大幅提高生产效率以及刻写的光纤微结构质量。

公开(公告)号：CN106353852A

公开(公告)日：2017-01-25

申请号：CN201611023017.4

申请日：2016-11-18

Applicant: 安徽蓝海之光科技有限公司

Inventor： 徐峰 ,  魏常 ,  徐俊屿 ,  蔡长辉 ,  王元杰 ,  田春雨 ,  王振荣

IPC: G02B6/02

CPC classification number: G02B6/02123 ,  G02B6/02152

Abstract: 本发明公开了一种低成本的长周期光纤光栅制作方法，其特征是：设置密闭容器，通过盖板将密闭容器分割为上、下两部分，下部分装入刻蚀溶液，在上部分的侧壁上开设光纤插入孔，在盖板上设置微孔；将光纤上需写入光栅的区域的包层裸露，然后插入密闭容器中，将光纤的一端固定在线性移动平台上；刻蚀溶液通过挥发从微孔释放气体，光纤上位于微孔正上方的包层与气体发生刻蚀反应，形成刻蚀深槽；通过线性移动平台周期性移动光纤的水平位置，最终在光纤表面形成周期性分布的刻蚀深槽，从而形成了长周期光纤光栅。本发明长周期光纤光栅的制作方法具有无需光栅刻蚀掩膜版、制作成本低廉的优点，适合批量制作，适用于各种光纤。

公开(公告)号：CN1425929A

公开(公告)日：2003-06-25

申请号：CN02149903.9

申请日：2002-10-30

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 桥本孝志

IPC: G02B6/124

CPC classification number: G02B6/02138 ,  G02B6/02152 ,  G02B6/3636 ,  G02B6/3664

Abstract: 本发明所要解决的课题是：局部地给光纤施加大的夹持力，会给光纤带来损伤。其解决手段是：被空开一定的间隔放置，其上螺旋状开有槽3的两个圆筒型卷轮6a、6b，同时，沿着这两个圆筒型卷轮6a、6b的槽3将光纤1的一端与另一端分别缠绕，将两个圆筒型卷轮6a、6b向互为相反的方向移动，直到在光纤1上施加了所希望的张力为止。

公开(公告)号：CN107045158A

公开(公告)日：2017-08-15

申请号：CN201710188727.0

申请日：2017-03-27

Applicant: 邵洪峰

Inventor： 邵洪峰

IPC: G02B6/02

CPC classification number: G02B6/02123 ,  G02B6/02152 ,  G02B2006/02161

Abstract: 本申请涉及一种光纤，包括纤芯、包层和外涂层，外涂层材料为紫外光透明材料。紫外光透明材料允许紫外激光透过涂层材料，从而可直接在石英玻璃光纤芯部刻写光栅。本申请还涉及该光纤的制备方法，以及使用该光纤刻写的各种结构类型的光纤光栅阵列。本申请的光纤光栅阵列无需在刻写前除去外涂层，不仅减少了工艺步骤，而且避免了在去除外涂层的期间，芯层容易受外界的空气和水影响导致光纤强度下降的问题。而且，本申请能够直接在光纤上进行紫外光刻写得到光纤光栅阵列，提高了光纤光栅阵列的可靠性，简化了光纤光栅阵列的制作工艺。

公开(公告)号：CN106802450A

公开(公告)日：2017-06-06

申请号：CN201611177743.1

申请日：2016-12-19

Applicant: 湖北工业大学

Inventor： 陶青 ,  刘顿 ,  王珏 ,  陈列 ,  娄德元 ,  杨奇彪 ,  彼得·贝内特 ,  翟中生 ,  郑重

IPC: G02B6/02

CPC classification number: G02B6/02138 ,  G02B6/02152

Abstract: 本发明涉及一种自动多波长全同光纤光栅串的制备装置与方法以及多波长全同光纤光栅串，本发明采用自动化生产装置并设计有在线实时监测模块，旨在解决光纤光栅制造中效率低、品质一致性差的问题。该制备装置延光纤运动方向依次包括：放纤模块、热剥除模块、刻写模块、收紧模块、涂覆模块、固化模块、喷涂模块、收纤模块；该制备方法完成放纤、热剥除、光栅刻制、涂覆层的涂覆、涂覆层的固化、彩色喷涂标记、收纤等主要制备工序。

公开(公告)号：CN100523885C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200580044484.9

申请日：2005-11-04

Applicant: 3M创新有限公司

Inventor： 利文特·伯耶克勒 ,  杰罗姆·C·波尔凯 ,  詹姆士·M·巴蒂亚托 ,  大卫·B·斯特高尔

IPC: G02B6/02

CPC classification number: G02B6/02138 ,  G02B6/02133 ,  G02B6/02152

Abstract: 一种用于制造光学衬底(54)中的结构(52)的系统和方法。光学元件(80)产生第一和第二写光束(110，112)，其在光学衬底(54)的第一相交位置(112)处相交。第一相交位置(118)包括由第一和第二写光束(110，112)所产生的条纹图(52)。该光学元件(80)也产生第一和第二参考光束(114，116)，其在与第一相交位置(118)基本上同一平面内的第二相交位置(119)处相交并重新组合。然后，控制器基于从重组第一和第二参考光束(114，116)得到的信号来控制在光学衬底(54)和条纹图之间的相对定位。

公开(公告)号：CN1692295A

公开(公告)日：2005-11-02

申请号：CN03819991.2

申请日：2003-06-27

Applicant: 布朗大学研究基金会

Inventor： D·莱夫纳 ,  M·F·费 ,  J·徐

IPC: G02B6/34

CPC classification number: G02B6/29323 ,  G02B6/02061 ,  G02B6/02085 ,  G02B6/02147 ,  G02B6/02152 ,  G02B6/02195 ,  G02B6/12007 ,  G02B6/29319 ,  G02B6/29322 ,  G02B6/29334 ,  G02B6/29383 ,  G02B6/29391 ,  G02B6/29395 ,  G02F1/025 ,  G02F1/065 ,  G02F2201/307

Abstract: 执行在各种波长上的多个功能的光栅是通过各种保存波长带内的谱信息的方法来形成的，所述功能包括：把辐射从一个波导耦合到另一个，可控制的光栅在不同波长上工作以响应于外部控制信号。