制造光学衬底中的结构
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100523885C

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200580044484.9

    申请日:2005-11-04

    CPC classification number: G02B6/02138 G02B6/02133 G02B6/02152

    Abstract: 一种用于制造光学衬底(54)中的结构(52)的系统和方法。光学元件(80)产生第一和第二写光束(110,112),其在光学衬底(54)的第一相交位置(112)处相交。第一相交位置(118)包括由第一和第二写光束(110,112)所产生的条纹图(52)。该光学元件(80)也产生第一和第二参考光束(114,116),其在与第一相交位置(118)基本上同一平面内的第二相交位置(119)处相交并重新组合。然后,控制器基于从重组第一和第二参考光束(114,116)得到的信号来控制在光学衬底(54)和条纹图之间的相对定位。

    对基底进行感光成像的方法和设备

    公开(公告)号:CN102460306A

    公开(公告)日:2012-05-16

    申请号:CN201080032175.0

    申请日:2010-05-13

    CPC classification number: G03B27/54 G03F7/70791

    Abstract: 本发明公开了一种方法,其包括提供具有感光材料层的基底以及具有邻接的第一、第二和第三部分的掩模;并顺序地:i)用光束以第一速率扫描所述第一部分,随后入射在曝光区处的感光材料上;ii)在所述第二部分内固定扫描;iii)重新开始穿过所述第三部分的扫描。在整个工艺过程中,所述基底经过所述曝光区移动。本发明还公开一种执行所述工艺的设备,其包括光束源、掩模安装座、掩模台、输送组件以及用于将光束调控为矩形光束的至少一个光学元件。

    对基底进行感光成像的方法和设备

    公开(公告)号:CN102460306B

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201080032175.0

    申请日:2010-05-13

    CPC classification number: G03B27/54 G03F7/70791

    Abstract: 本发明公开了一种方法,其包括提供具有感光材料层的基底以及具有邻接的第一、第二和第三部分的掩模;并顺序地:i)用光束以第一速率扫描所述第一部分,随后入射在曝光区处的感光材料上;ii)在所述第二部分内固定扫描;iii)重新开始穿过所述第三部分的扫描。在整个工艺过程中,所述基底经过所述曝光区移动。本发明还公开一种执行所述工艺的设备,其包括光束源、掩模安装座、掩模台、输送组件以及用于将光束调控为矩形光束的至少一个光学元件。

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