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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113227899B
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN201980086926.8
申请日：2019-11-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文描述一种方法，所述方法用于产生待用于图案化过程中的掩模图案。所述方法包括：(P301)获得(i)第一特征片段和(ii)第二特征片段，所述第一特征片段包括初始掩模图案的第一多边形部分，所述第二特征片段(P302)包括所述初始掩模图案的第二多边形部分；(P303)调整位于所述第一特征片段与所述第二构件片段之间的片段边界处的所述第二多边形部分，使得所述第一多边形部分与所述第二多边形部分之间在所述片段边界处的差减小；以及(P305)在所述片段边界处组合所述第一多边形部分与调整后的第二多边形部分，以形成所述掩模图案(330)。
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公开(公告)号：CN114972056A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210164259.4
申请日：2022-02-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 描述了用于使用目标图案和参考层图案为掩模生成光学邻近校正(OPC)后结果的实施例。所述目标图案和参考层的图像被提供为机器学习(ML)模型的输入，以生成OPC后图像。所述图像可以被单独输入，或者被组合为复合图像(例如使用线性函数)并且输入到所述ML模型。所述图像是从图案数据渲染的。例如，目标图案图像是从要在衬底上印刷的目标图案渲染的，并且诸如虚拟图案图像等参考层图像是从虚拟图案渲染的。所述ML模型被训练，以使用与目标图案和参考层相关联的多个图像并且使用所述目标图案的参考OPC后图像来生成所述OPC后图像。所述OPC后图像可以被用于生成OPC后掩模。
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公开(公告)号：CN118829944A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202380029077.9
申请日：2023-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了用于确定与光刻过程一起使用的掩模图案的方法、系统和计算机软件。一种方法包括：基于目标图案指派二维元件的部位；基于关联准则使所述二维元件相关联以形成表示掩模特征的簇；以及调整所述簇的所述二维元件以改变所述掩模特征。
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公开(公告)号：CN119828410A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202510116087.7
申请日：2019-11-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F1/36 , G03F1/70 , G03F7/20 , G06F30/398 , G06F119/18
Abstract: 本文描述一种方法，所述方法用于产生待用于图案化过程中的掩模图案。所述方法包括：（P301）获得（i）第一特征片段和（ii）第二特征片段，所述第一特征片段包括初始掩模图案的第一多边形部分，所述第二特征片段（P302）包括所述初始掩模图案的第二多边形部分；（P303）调整位于所述第一特征片段与所述第二构件片段之间的片段边界处的所述第二多边形部分，使得所述第一多边形部分与所述第二多边形部分之间在所述片段边界处的差减小；以及（P305）在所述片段边界处组合所述第一多边形部分与调整后的第二多边形部分，以形成所述掩模图案（330）。
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公开(公告)号：CN113227899A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201980086926.8
申请日：2019-11-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文描述一种方法，所述方法用于产生待用于图案化过程中的掩模图案。所述方法包括：(P301)获得(i)第一特征片段和(ii)第二特征片段，所述第一特征片段包括初始掩模图案的第一多边形部分，所述第二特征片段(P302)包括所述初始掩模图案的第二多边形部分；(P303)调整位于所述第一特征片段与所述第二构件片段之间的片段边界处的所述第二多边形部分，使得所述第一多边形部分与所述第二多边形部分之间在所述片段边界处的差减小；以及(P305)在所述片段边界处组合所述第一多边形部分与调整后的第二多边形部分，以形成所述掩模图案(330)。
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