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公开(公告)号：CN113227899B
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN201980086926.8
申请日：2019-11-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文描述一种方法，所述方法用于产生待用于图案化过程中的掩模图案。所述方法包括：(P301)获得(i)第一特征片段和(ii)第二特征片段，所述第一特征片段包括初始掩模图案的第一多边形部分，所述第二特征片段(P302)包括所述初始掩模图案的第二多边形部分；(P303)调整位于所述第一特征片段与所述第二构件片段之间的片段边界处的所述第二多边形部分，使得所述第一多边形部分与所述第二多边形部分之间在所述片段边界处的差减小；以及(P305)在所述片段边界处组合所述第一多边形部分与调整后的第二多边形部分，以形成所述掩模图案(330)。
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公开(公告)号：CN115087925A
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202180014147.4
申请日：2021-02-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文中描述一种用于确定掩模图案的方法和一种用于训练机器学习模型的方法。所述用于确定掩模图案的方法包括：经由使用待印制于衬底上的目标图案作为输入图案而执行模型来获得光学邻近效应校正后(OPC后)图案；基于OPC后图案来确定将被印制于所述衬底上的模拟图案；和基于所述模拟图案与所述目标图案之间的差异来确定所述掩模图案。对所述掩模图案的所述确定包括：基于所述差异来修改被输入至所述模型的所述输入图案以使得所述差异减小；以及使用经修改的输入图案来执行所述模型以产生经修改的OPC后图案，能够从所述经修改的OPC后图案导出所述掩模图案。
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公开(公告)号：CN113168085A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980078606.8
申请日：2019-10-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文描述了一种用于确定图案形成装置图案的方法。所述方法包括：获得(i)具有至少一个特征的初始图案形成装置图案，以及(ii)所述至少一个特征的期望特征尺寸；基于图案化过程模型、所述初始图案化设备图案形成装置图案和针对衬底的目标图案，获得由所述初始图案形成装置得到的所述衬底图像的预测图案与针对所述衬底的所述目标图案之间的差异值；确定与所述至少一个特征的所述可制造性相关的惩罚值，其中所述惩罚值根据所述至少一个特征的所述尺寸变化；以及基于所述初始图案形成装置图案和所述期望特征尺寸来确定所述图案形成装置图案，使得所述差异值和所述惩罚值的总和被减小。
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公开(公告)号：CN119024650A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202411030603.6
申请日：2019-10-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文描述了一种用于确定图案形成装置图案的方法。所述方法包括：获得具有至少一个特征的初始图案形成装置图案，对所述初始图案形成装置图案应用斑点检测；以及使用基于所述斑点检测的结果的成本函数，确定所述图案形成装置图案。还公开包括机器可读指令的非暂态计算机程序产品。
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公开(公告)号：CN118829944A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202380029077.9
申请日：2023-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了用于确定与光刻过程一起使用的掩模图案的方法、系统和计算机软件。一种方法包括：基于目标图案指派二维元件的部位；基于关联准则使所述二维元件相关联以形成表示掩模特征的簇；以及调整所述簇的所述二维元件以改变所述掩模特征。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117706864A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202410029569.4
申请日：2019-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文描述了一种用于确定图案形成装置的曲线图案的方法，所述方法包括：获得(i)对应于待印制于经受图案化过程的衬底上的目标图案的所述图案形成装置的初始图像和(ii)配置成根据所述初始图像预测所述衬底的上的图案的过程模型；通过硬件计算机系统从所述初始图像生成增强型图像；通过所述硬件计算机系统使用所述增强型图像生成水平集图像；通过所述硬件计算机系统基于所述水平集图像、所述过程模型和成本函数迭代地确定所述图案形成装置的曲线图案，其中所述成本函数(例如，EPE)确定所预测的图案与所述目标图案之间的差，其中所述差被迭代地减小。
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公开(公告)号：CN110692017A
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201880034754.5
申请日：2018-05-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种方法，包括：获得设计布局的一部分(505)；基于所述部分或所述部分的特性(510)确定(520)辅助特征的特性(530)；和使用包括样本的训练数据(540)来训练(550)机器学习模型，所述样本的特征向量包括所述部分的特性(510)且所述样本的标签包括所述辅助特征的特性(530)。所述机器学习模型可以用于确定(560)设计布局的任何部分的辅助特征的特性，即使所述部分并不是所述训练数据的部分。
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公开(公告)号：CN113168085B
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN201980078606.8
申请日：2019-10-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文描述了一种用于确定图案形成装置图案的方法。所述方法包括：获得(i)具有至少一个特征的初始图案形成装置图案，以及(ii)所述至少一个特征的期望特征尺寸；基于图案化过程模型、所述初始图案化设备图案形成装置图案和针对衬底的目标图案，获得由所述初始图案形成装置得到的所述衬底图像的预测图案与针对所述衬底的所述目标图案之间的差异值；确定与所述至少一个特征的所述可制造性相关的惩罚值，其中所述惩罚值根据所述至少一个特征的所述尺寸变化；以及基于所述初始图案形成装置图案和所述期望特征尺寸来确定所述图案形成装置图案，使得所述差异值和所述惩罚值的总和被减小。
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公开(公告)号：CN111868625B
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN201980020252.1
申请日：2019-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文描述了一种用于确定图案形成装置的曲线图案的方法，所述方法包括：获得(i)对应于待印制于经受图案化过程的衬底上的目标图案的所述图案形成装置的初始图像和(ii)配置成根据所述初始图像预测所述衬底的上的图案的过程模型；通过硬件计算机系统从所述初始图像生成增强型图像；通过所述硬件计算机系统使用所述增强型图像生成水平集图像；通过所述硬件计算机系统基于所述水平集图像、所述过程模型和成本函数迭代地确定所述图案形成装置的曲线图案，其中所述成本函数(例如，EPE)确定所预测的图案与所述目标图案之间的差，其中所述差被迭代地减小。
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公开(公告)号：CN114981724A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202080086061.8
申请日：2020-11-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文中描述了一种确定待印制在衬底上的目标图案的掩模图案的方法(400)。该方法包括：参考目标图案上的给定位置，将包括目标图案的设计布局(401)的一部分划分(P401)成多个单元(402)；在多个单元中的特定单元内分配(P403)多个变量(403)，特定单元包括目标图案或目标图案的一部分；以及基于多个变量的值，确定(P405)目标图案的掩模图案(405)，使得使用掩模图案的图案化过程的性能度量在期望的性能范围内。
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