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公开(公告)号：CN118829944A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202380029077.9
申请日：2023-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了用于确定与光刻过程一起使用的掩模图案的方法、系统和计算机软件。一种方法包括：基于目标图案指派二维元件的部位；基于关联准则使所述二维元件相关联以形成表示掩模特征的簇；以及调整所述簇的所述二维元件以改变所述掩模特征。
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