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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110249268B
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN201880010063.1
申请日：2018-01-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/47 , H01L21/66 , G01N21/956
Abstract: 公开了一种过程监测方法和一种关联的量测设备。该方法包括：将与实际目标(1000)的测量响应有关的测量到的目标响应光谱序列数据(1010)和与如所设计的目标的测量响应有关的等效参考目标响应序列数据(1030)进行比较(1020)；以及基于所述测量到的目标响应序列数据与参考目标响应序列数据的所述比较来执行(1040)过程监测动作。该方法还可以包括根据测量到的目标响应光谱序列数据和参考目标响应光谱序列数据来确定(1050)叠层参数。
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公开(公告)号：CN118426265A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202410469033.4
申请日：2019-05-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 描述了一种用于确定针对经受图案化过程的衬底的叠层配置的方法，所述方法包括获得(i)具有在印制的衬底上的部位信息的叠层配置的测量数据，(ii)配置成基于所述衬底的部位来预测叠层特性的衬底模型，以及(iii)包括基于所述衬底模型的多个叠层配置的叠层图。所述方法基于所述测量数据与所述叠层图的多个叠层配置之间的拟合来迭代地确定所述衬底模型的模型参数的值；以及基于所述衬底模型使用所述模型参数的值来预测特定部位处的最优叠层配置。
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公开(公告)号：CN112352200B
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN201980035034.5
申请日：2019-05-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 描述了一种用于确定针对经受图案化过程的衬底的叠层配置的方法，所述方法包括获得(i)具有在印制的衬底上的部位信息的叠层配置的测量数据，(ii)配置成基于所述衬底的部位来预测叠层特性的衬底模型，以及(iii)包括基于所述衬底模型的多个叠层配置的叠层图。所述方法基于所述测量数据与所述叠层图的多个叠层配置之间的拟合来迭代地确定所述衬底模型的模型参数的值；以及基于所述衬底模型使用所述模型参数的值来预测特定部位处的最优叠层配置。
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公开(公告)号：CN112352200A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN201980035034.5
申请日：2019-05-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 描述了一种用于确定针对经受图案化过程的衬底的叠层配置的方法，所述方法包括获得(i)具有在印制的衬底上的部位信息的叠层配置的测量数据，(ii)配置成基于所述衬底的部位来预测叠层特性的衬底模型，以及(iii)包括基于所述衬底模型的多个叠层配置的叠层图。所述方法基于所述测量数据与所述叠层图的多个叠层配置之间的拟合来迭代地确定所述衬底模型的模型参数的值；以及基于所述衬底模型使用所述模型参数的值来预测特定部位处的最优叠层配置。
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公开(公告)号：CN110249268A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201880010063.1
申请日：2018-01-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/47 , H01L21/66 , G01N21/956
Abstract: 公开了一种过程监测方法和一种关联的量测设备。该方法包括：将与实际目标(1000)的测量响应有关的测量到的目标响应光谱序列数据(1010)和与如所设计的目标的测量响应有关的等效参考目标响应序列数据(1030)进行比较(1020)；以及基于所述测量到的目标响应序列数据与参考目标响应序列数据的所述比较来执行(1040)过程监测动作。该方法还可以包括根据测量到的目标响应光谱序列数据和参考目标响应光谱序列数据来确定(1050)叠层参数。
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