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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112352202B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN201980042725.8
申请日：2019-05-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 阿尔伯托·达科斯特阿萨法劳 , M·哈伊赫曼达
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种确定衬底上的目标的特性的方法和用于确定衬底上的目标的特性的相关联的量测设备。所述方法包括：获得多个强度不对称性测量结果，每个强度不对称性测量结果与形成于所述衬底上的目标有关；和根据所述多个强度不对称性测量结果，确定与每个目标对应的敏感度系数。使用这些敏感度系数，确定所述多个目标的代表性敏感度系数或确定所述多个目标中的多于一个目标的子集的代表性敏感度系数。然后，使用所述代表性敏感度系数，确定所述目标的特性。
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公开(公告)号：CN110249268B
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN201880010063.1
申请日：2018-01-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/47 , H01L21/66 , G01N21/956
Abstract: 公开了一种过程监测方法和一种关联的量测设备。该方法包括：将与实际目标(1000)的测量响应有关的测量到的目标响应光谱序列数据(1010)和与如所设计的目标的测量响应有关的等效参考目标响应序列数据(1030)进行比较(1020)；以及基于所述测量到的目标响应序列数据与参考目标响应序列数据的所述比较来执行(1040)过程监测动作。该方法还可以包括根据测量到的目标响应光谱序列数据和参考目标响应光谱序列数据来确定(1050)叠层参数。
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公开(公告)号：CN108700829A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780013518.0
申请日：2017-02-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 帕特里克·华纳 , 西蒙·飞利浦·斯宾塞·哈斯廷斯 , 阿尔伯托·达科斯特阿萨法劳 , 卢卡斯·杰吉·马赫特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70133 , G03F7/70616
Abstract: 检查设备(140)测量通过光刻工艺形成在衬底上的目标结构(T)的不对称性或其他属性。对于一组给定照射条件，所述测量的精度受到跨越整个衬底上和/或在衬底之间的工艺变化的强烈影响。该设备被配置成在所述照射条件的两个或更多个变量(p1‑，p1，p1+；λ1‑，λ1，λ1+)下收集由多个结构所散射的辐射。处理系统(PU)被配置为使用针对所述结构中的不同结构的所述变量的不同选择或组合的情况下所收集的辐射来导出所述属性的所述测量结果。变量可以是例如波长、或角度分布、或者照射条件的任何特征。参考在不同变量中观察到的信号品质(302，Q，A)进行变量的选择和/或组合。
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公开(公告)号：CN108700829B
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN201780013518.0
申请日：2017-02-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 帕特里克·华纳 , 西蒙·飞利浦·斯宾塞·哈斯廷斯 , 阿尔伯托·达科斯特阿萨法劳 , 卢卡斯·杰吉·马赫特
IPC: G03F7/20
Abstract: 检查设备(140)测量通过光刻工艺形成在衬底上的目标结构(T)的不对称性或其他属性。对于一组给定照射条件，所述测量的精度受到跨越整个衬底上和/或在衬底之间的工艺变化的强烈影响。该设备被配置成在所述照射条件的两个或更多个变量(p1‑，p1，p1+；λ1‑，λ1，λ1+)下收集由多个结构所散射的辐射。处理系统(PU)被配置为使用针对所述结构中的不同结构的所述变量的不同选择或组合的情况下所收集的辐射来导出所述属性的所述测量结果。变量可以是例如波长、或角度分布、或者照射条件的任何特征。参考在不同变量中观察到的信号品质(302，Q，A)进行变量的选择和/或组合。
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公开(公告)号：CN112352202A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN201980042725.8
申请日：2019-05-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 阿尔伯托·达科斯特阿萨法劳 , M·哈伊赫曼达
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种确定衬底上的目标的特性的方法和用于确定衬底上的目标的特性的相关联的量测设备。所述方法包括：获得多个强度不对称性测量结果，每个强度不对称性测量结果与形成于所述衬底上的目标有关；和根据所述多个强度不对称性测量结果，确定与每个目标对应的敏感度系数。使用这些敏感度系数，确定所述多个目标的代表性敏感度系数或确定所述多个目标中的多于一个目标的子集的代表性敏感度系数。然后，使用所述代表性敏感度系数，确定所述目标的特性。
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