公开(公告)号：CN108885414B

公开(公告)日：2021-07-06

申请号：CN201780022917.3

申请日：2017-02-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·E·切克利 ,  M·伊什巴士 ,  L·P·范迪克 ,  R·J·F·范哈伦 ,  柳星兰 ,  R·M·琼格布拉特 ,  C·M·阿芬陶诗艾格 ,  R·H·J·奥腾

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 一种光刻处理，包括：将衬底(W)夹持(CL)到衬底支持件(WT)上；跨被夹持衬底测量(AS)标记的位置；以及使用测量的位置向被夹持衬底施加图案。基于跨衬底测量的位置中的弯曲诱发特性(402、404、406)的识别，在衬底的局部区域中向所施加图案的定位应用校正(WCOR)。在一个实施例中，通过首先使用测量的位置和其他信息(CDAT)推断弯曲衬底(FFW)的一个或多个形状特性来生成校正。然后，基于推断的形状特性，响应于夹持向弯曲衬底的仿真变形应用夹持模型。第三，基于仿真的变形计算所述校正(LCOR)。一些或所有这些步骤可以集成和/或通过查找表来实施。

公开(公告)号：CN108885414A

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201780022917.3

申请日：2017-02-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·E·切克利 ,  M·伊什巴士 ,  L·P·范迪克 ,  R·J·F·范哈伦 ,  柳星兰 ,  R·M·琼格布拉特 ,  C·M·阿芬陶诗艾格 ,  R·H·J·奥腾

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F9/7034 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70783 ,  G03F9/7011

Abstract: 一种光刻处理，包括：将衬底(W)夹持(CL)到衬底支持件(WT)上；跨被夹持衬底测量(AS)标记的位置；以及使用测量的位置向被夹持衬底施加图案。基于跨衬底测量的位置中的弯曲诱发特性(402、404、406)的识别，在衬底的局部区域中向所施加图案的定位应用校正(WCOR)。在一个实施例中，通过首先使用测量的位置和其他信息(CDAT)推断弯曲衬底(FFW)的一个或多个形状特性来生成校正。然后，基于推断的形状特性，响应于夹持向弯曲衬底的仿真变形应用夹持模型。第三，基于仿真的变形计算所述校正(LCOR)。一些或所有这些步骤可以集成和/或通过查找表来实施。