公开(公告)号：CN1770010B

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN200510118032.2

申请日：2005-10-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·A·拉勒曼特 ,  M·贝克斯 ,  W·F·G·M·赫托格 ,  D·T·W·范德普拉斯 ,  S·科伊林克 ,  R·詹森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70933

Abstract: 一种光刻设备包括用于提供辐射束的辐射系统，以及用于支撑构图装置的第一支撑件。该构图装置用于构图辐射束。该设备包括用于支撑基底的第二支撑件，用于将带图案的束投射到基底的靶部分上的投影系统，以及用于在投影系统下面延伸的气体的伸长的体积中提供沿着轴线延伸的干涉测量束的干涉仪测量系统。该设备还包括用于在该体积中提供调节的气体流的气体调节结构。该气体调节结构包括设置在该结构的出口处的多个气体导向叶片，用于将气体流导向到该体积。该气体导向叶片连续成形，且定向为离开该体积的轴线发散。

公开(公告)号：CN1702558A

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：CN200510075891.8

申请日：2005-05-16

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·A·拉勒曼特 ,  M·C·M·维哈根 ,  M·贝克斯 ,  R·斯图蒂恩斯 ,  P·A·斯米特斯 ,  W·F·G·M·赫托格 ,  D·T·W·范德普拉斯 ,  S·科伊林克 ,  H·克雷斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 一种光刻装置，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑图案成形装置的第一支撑结构，该图案成形装置用于使投影光束根据所需的图案来形成图案；用于支撑衬底的第二支撑结构；以及投影系统，其用于将已形成图案的光束投影到衬底的目标部分上；至少一个气体发生结构，其用于在投影系统和衬底的目标之间延伸的体积中产生经调节的气流。所述气体发生结构设置成可产生气流，其被引向大致位于投影系统下表面之上的上方体积。该结构还包括导向件，其用于将所述气流引导到大致定位在所述投影系统下表面之下的下方体积中。

公开(公告)号：CN100498538C

公开(公告)日：2009-06-10

申请号：CN200510075891.8

申请日：2005-05-16

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·A·拉勒曼特 ,  M·C·M·维哈根 ,  M·贝克斯 ,  R·斯图蒂恩斯 ,  P·A·斯米特斯 ,  W·F·G·M·赫托格 ,  D·T·W·范德普拉斯 ,  S·科伊林克 ,  H·克雷斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 一种光刻装置，包括：提供辐射投影光束的辐射系统；支撑图案成形装置的第一支撑结构，图案成形装置用于使投影光束根据所需的图案来形成图案；支撑衬底的第二支撑结构；投影系统，将已形成图案的光束投影到衬底的目标部分上，投影系统包括限定了到衬底的工作距离的下表面；和至少一个气体发生结构，在所述下表面和衬底之间延伸的体积中产生经调节的气流，其中，气体发生结构还包括导向件，其用于将气流引导到大致定位在投影系统下表面之下的下方体积中，导向件被构造为可将气流从大致向下的方向引导到大致平行于投影系统下表面的方向上。其中导向件是设置成可使气流朝向下方体积偏转的偏转面板。本发明还提供一种器件制造方法。

公开(公告)号：CN1770010A

公开(公告)日：2006-05-10

申请号：CN200510118032.2

申请日：2005-10-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·A·拉勒曼特 ,  M·贝克斯 ,  W·F·G·M·赫托格 ,  D·T·W·范德普拉斯 ,  S·科伊林克 ,  R·詹森

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70933

Abstract: 一种光刻设备包括用于提供辐射束的辐射系统，以及用于支撑构图装置的第一支撑件。该构图装置用于构图辐射束。该设备包括用于支撑基底的第二支撑件，用于将带图案的束投射到基底的靶部分上的投影系统，以及用于在投影系统下面延伸的气体的伸长的体积中提供沿着轴线延伸的干涉测量束的干涉仪测量系统。该设备还包括用于在该体积中提供调节的气体流的气体调节结构。该气体调节结构包括设置在该结构的出口处的多个气体导向叶片，用于将气体流导向到该体积。该气体导向叶片连续成形，且定向为离开该体积的轴线发散。