-
公开(公告)号：CN1746775B
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200510113235.2
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
-
公开(公告)号：CN1766739A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200510118070.8
申请日：2005-10-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67109 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70783 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括构成为支撑基底的基底支撑件，和构造为将带图案的辐射束投射到基底的靶部分上的投影系统。该基底支撑件布置为沿着基底的随后定靶的靶部分的预定的轨迹移动基底。该基底支撑件包括输送管构造，用于给基底提供热稳定性。该输送管构造布置为在支撑件中输送热稳定介质，以及经由支撑基底的前面定靶的部分的基底支撑件的部分将介质充分输送离开支撑靶部分的基底支撑件的一部分，使得保持随后定靶的靶部分热稳定。
-
公开(公告)号：CN113366390B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202080011275.9
申请日：2020-01-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·胡包克斯 , J·F·M·贝克尔斯 , D·J·D·戴维斯 , J·G·C·昆尼 , W·R·彭格斯 , A·R·戴韦尔 , 李忠勳 , G·齐萝扬尼斯 , H·C·A·博格 , F·E·德荣格 , J·M·冈萨雷斯韦斯卡 , A·V·霍洛德 , M·皮萨连科
IPC: G03F7/20 , G05B23/02 , G05B19/418
Abstract: 描述了一种用于对经历包括多个操作的半导体制造过程的衬底进行分类的方法，该方法包括：获得从在对衬底的多个操作中的一个或多个操作期间生成的数据中得出的功能指示器的值，功能指示器表征至少一个操作；将包括一个或多个阈值的决定模型应用于功能指示器的值以获得一个或多个分类指示器；以及基于一个或多个分类指示器为衬底分配类别。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101923290B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201010186587.1
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
-
公开(公告)号：CN100593133C
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：CN200510118070.8
申请日：2005-10-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67109 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70783 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括构成为支撑基底的基底支撑件，和构造为将带图案的辐射束投射到基底的靶部分上的投影系统。该基底支撑件布置为沿着基底的随后定靶的靶部分的预定的轨迹移动基底。该基底支撑件包括输送管构造，用于给基底提供热稳定性。该输送管构造布置为在支撑件中输送热稳定介质，以及经由支撑基底的前面定靶的部分的基底支撑件的部分将介质充分输送离开支撑靶部分的基底支撑件的一部分，使得保持随后定靶的靶部分热稳定。
-
公开(公告)号：CN113366390A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202080011275.9
申请日：2020-01-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·胡包克斯 , J·F·M·贝克尔斯 , D·J·D·戴维斯 , J·G·C·昆尼 , W·R·彭格斯 , A·R·戴韦尔 , 李忠勳 , G·齐萝扬尼斯 , H·C·A·博格 , F·E·德荣格 , J·M·冈萨雷斯韦斯卡 , A·V·霍洛德 , M·皮萨连科
IPC: G03F7/20 , G05B23/02 , G05B19/418
Abstract: 描述了一种用于对经历包括多个操作的半导体制造过程的衬底进行分类的方法，该方法包括：获得从在对衬底的多个操作中的一个或多个操作期间生成的数据中得出的功能指示器的值，功能指示器表征至少一个操作；将包括一个或多个阈值的决定模型应用于功能指示器的值以获得一个或多个分类指示器；以及基于一个或多个分类指示器为衬底分配类别。
-
公开(公告)号：CN101923290A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010186587.1
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
-
公开(公告)号：CN1746775A
公开(公告)日：2006-03-15
申请号：CN200510113235.2
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.022 seconds)
