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公开(公告)号：CN113661447B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202080026837.7
申请日：2020-03-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 斯科特·安德森·米德尔布鲁克斯 , 安卓尼斯·科内利斯·马修斯·科普曼 , M·G·M·M·范卡拉埃吉 , M·皮萨连科 , 斯蒂芬·亨斯克
Abstract: 本文中描述了一种用于训练机器学习模型的方法，所述机器学习模型被配置成预测对应于如经由量测工具所测量的衬底的印制图案的衬底图像，所述方法包括：获得训练数据集合，所述训练数据集合包括(i)用于对所述衬底的所述印制图案进行测量的所述量测工具的量测数据，和(ii)用于将所述印制图案成像到所述衬底上的掩模图案；以及基于所述训练数据集合来训练机器学习模型，以预测如由所述量测工具所测量的所述衬底的所述衬底图像，使得成本函数被改善；其中所述成本函数包括预测衬底图像与所述量测数据之间的关系。
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公开(公告)号：CN113376976B
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202110789512.0
申请日：2018-05-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： D·哈诺坦耶 , 贾飞 , F·斯塔尔斯 , 王富明 , H·T·洛耶斯汀 , C·J·赖恩尼瑟 , M·皮萨连科 , R·沃克曼 , T·希尤维斯 , T·范赫默特 , V·巴斯塔尼 , J·S·威尔登伯格 , 埃维哈德斯·康尼利斯·摩斯 , E·J·M·沃勒伯斯
Abstract: 一种用于确定参数的指纹的方法、系统和程序。所述方法包括确定出自多个装置中的装置对参数的指纹的贡献。所述方法包括：获得参数数据和使用数据，其中所述参数数据基于对已由所述多个装置处理的多个衬底的测量结果，所述使用数据指示出自所述多个装置中的哪些所述装置用于每个衬底的所述处理；和使用所述使用数据和所述参数数据确定所述贡献。
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公开(公告)号：CN114341885A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080062551.4
申请日：2020-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·皮萨连科 , 斯科特·安德森·米德尔布鲁克斯 , C·A·维索尔伦
Abstract: 描述了一种用于增加参数化模型预测的确定性的方法。方法包括：将与参数化模型相关联的潜在空间中的维度数据聚类为集群。不同集群对应于给定输入的不同部分。方法包括：利用参数化模型，基于潜在空间中的维度数据来预测输出。方法包括：利用参数化模型，将潜在空间中的维度数据变换为与集群中的一个或多个相对应的给定输入的恢复版本。在一些实施例中，方法包括：确定哪些集群对应于具有更高方差的预测输出，并且通过增加潜在空间的维度来使参数化模型更具描述性，和/或利用与关联于更高方差的经确定的集群或集群部分中的一个或多个相关联的更多样化的训练数据来训练参数化模型。
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公开(公告)号：CN114026500A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202080047195.9
申请日：2020-06-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·皮萨连科 , M·范德斯卡 , 张怀辰 , 玛丽亚-克莱尔·范拉尔
Abstract: 描述了一种在半导体制造过程中应用沉积模型的方法。该方法包括：使用沉积模型预测衬底的沉积轮廓；并且使用预测沉积轮廓来增强量测目标设计。使用来自物理晶片的层的经验横截面轮廓信息来校准沉积模型。在一些实施例中，沉积模型是机器学习模型，并且校准沉积模型包括训练机器学习模型。量测目标设计可包括对准量测目标设计或重叠量测目标设计。
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公开(公告)号：CN113366390A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202080011275.9
申请日：2020-01-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·胡包克斯 , J·F·M·贝克尔斯 , D·J·D·戴维斯 , J·G·C·昆尼 , W·R·彭格斯 , A·R·戴韦尔 , 李忠勳 , G·齐萝扬尼斯 , H·C·A·博格 , F·E·德荣格 , J·M·冈萨雷斯韦斯卡 , A·V·霍洛德 , M·皮萨连科
IPC: G03F7/20 , G05B23/02 , G05B19/418
Abstract: 描述了一种用于对经历包括多个操作的半导体制造过程的衬底进行分类的方法，该方法包括：获得从在对衬底的多个操作中的一个或多个操作期间生成的数据中得出的功能指示器的值，功能指示器表征至少一个操作；将包括一个或多个阈值的决定模型应用于功能指示器的值以获得一个或多个分类指示器；以及基于一个或多个分类指示器为衬底分配类别。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117897661A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202280055229.8
申请日：2022-08-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·P·赫芬斯坦 , S·A·米德尔布鲁克斯 , M·G·M·M·范卡拉埃吉 , M·皮萨连科
Abstract: 描述了一种设计目标的方法，该方法包括：提供初始数据集，获得初始数据集的模型，使用该模型执行贝叶斯优化以提供改进的模型，使用该改进的模型执行对目标设计的优化。
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公开(公告)号：CN114766012A
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN202080082760.5
申请日：2020-09-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·A·米德莱布鲁克斯 , 帕特里克·沃纳阿 , P·P·赫芬斯坦 , A·P·康宁贝格 , M·皮萨连科 , M·G·M·M·范卡拉埃吉
Abstract: 描述了用于用参数化模型预测复电场图像的方法和系统。针对至所述参数化模型的给定输入，基于所述参数化模型的潜在空间中的维度数据来确定复电场图像的潜在空间表示。所述给定输入可以是与所述复电场图像相关联的测量的振幅(例如强度)。基于所述复电场图像的所述潜在空间表示来预测所述复电场图像。所预测的复电场图像包括振幅和相位。所述参数化模型包括编码器‑解码器架构。在一些实施例中，确定所述电场图像的所述潜在空间表示包括最小化受电场图像的集合约束的函数，所述电场图像的集合可以通过所述参数化模型基于所述潜在空间中的所述维度数据和所述给定输入来被预测。
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公开(公告)号：CN110088687B
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN201780078139.X
申请日：2017-11-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 斯科特·安德森·米德尔布鲁克斯 , 安卓尼斯·科内利斯·马修斯·科普曼 , M·G·M·M·范卡拉埃吉 , M·皮萨连科
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法包括：获得逻辑数学模型，所述逻辑数学模型预测使用图案形成过程产生的实体结构的形成；评估所述逻辑数学模型，以预测所述实体结构的一部分的形成并产生一输出；以及基于所述输出来调适所述图案形成过程的一方面。
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公开(公告)号：CN110168447A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201880006505.5
申请日：2018-05-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： D·哈诺坦耶 , 贾飞 , F·斯塔尔斯 , 王富明 , H·T·洛耶斯汀 , C·J·赖恩尼瑟 , M·皮萨连科 , R·沃克曼 , T·希尤维斯 , T·范赫默特 , V·巴斯塔尼 , J·S·威尔登伯格 , 埃维哈德斯·康尼利斯·摩斯 , E·J·M·沃勒伯斯
IPC: G03F7/20 , G05B13/04 , G05B19/418 , H01L21/66
Abstract: 一种用于确定参数的指纹的方法、系统和程序。所述方法包括确定出自多个装置中的装置对参数的指纹的贡献。所述方法包括：获得参数数据和使用数据，其中所述参数数据基于对已由所述多个装置处理的多个衬底的测量结果，所述使用数据指示出自所述多个装置中的哪些所述装置用于每个衬底的所述处理；和使用所述使用数据和所述参数数据确定所述贡献。
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公开(公告)号：CN110088687A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201780078139.X
申请日：2017-11-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 斯科特·安德森·米德尔布鲁克斯 , 安卓尼斯·科内利斯·马修斯·科普曼 , M·G·M·M·范卡拉埃吉 , M·皮萨连科
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法包括：获得逻辑数学模型，所述逻辑数学模型预测使用图案形成过程产生的实体结构的形成；评估所述逻辑数学模型，以预测所述实体结构的一部分的形成并产生一输出；以及基于所述输出来调适所述图案形成过程的一方面。
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