-
公开(公告)号：CN102981370A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210292390.5
申请日：2012-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·G·C·昆尼 , J·H·W·雅各布斯 , C·C·W·沃斯帕盖特 , R·范德哈姆 , I·A·J·托马斯 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , G·M·M·考克兰 , R·H·M·J·布洛克斯 , G·彼得斯 , P·L·J·岗特尔 , M·J·里米 , S·C·R·德尔克斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了光刻设备、用于光刻设备的支撑台以及器件制造方法。所述支撑台被配置用于支撑衬底，所述支撑台具有：支撑部分，用于支撑衬底；以及调节系统，用于将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分去除热能，其中所述调节系统包括可独立控制的多个调节单元。
-
公开(公告)号：CN102193332A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110060027.6
申请日：2011-03-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·坦凯特 , J·J·奥腾斯 , B·A·W·H·柯拿伦 , R·J·伍德 , G·F·尼诺 , M·J·里米 , J·H·W·雅各布斯 , T·S·M·劳伦特 , J·G·C·昆尼
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/7085
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。
-
公开(公告)号：CN102193331A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110060026.1
申请日：2011-03-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·坦凯特 , J·J·奥腾斯 , B·A·W·H·柯拿伦 , R·J·伍德 , G·F·尼诺 , M·J·里米 , J·H·W·雅各布斯 , T·S·M·劳伦特 , J·G·C·昆尼
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/7085
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。
-
公开(公告)号：CN119487447A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202380050152.X
申请日：2023-11-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/00
Abstract: 一种在由光刻设备曝光衬底期间控制投影系统的方法，所述方法包括：获得跨所述光刻设备的投影系统的一个或多个透镜上的差压改变的测量信号；计算由于所述曝光期间测量的所述差压改变而引起的所述投影系统的一个或多个透镜元件的移动所引起的成像误差；计算补偿所计算的成像误差的透镜元件调节；应用所述透镜元件调节；识别在发生所述差压改变和应用所述透镜元件调节之间的延迟期间曝光所述衬底的哪些曝光区域；以及将所识别的曝光区域的信息与所计算的成像误差一起存储。
-
公开(公告)号：CN102193331B
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201110060026.1
申请日：2011-03-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·坦凯特 , J·J·奥腾斯 , B·A·W·H·柯拿伦 , R·J·伍德 , G·F·尼诺 , M·J·里米 , J·H·W·雅各布斯 , T·S·M·劳伦特 , J·G·C·昆尼
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/7085
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102193332B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201110060027.6
申请日：2011-03-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·坦凯特 , J·J·奥腾斯 , B·A·W·H·柯拿伦 , R·J·伍德 , G·F·尼诺 , M·J·里米 , J·H·W·雅各布斯 , T·S·M·劳伦特 , J·G·C·昆尼
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/7085
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。
-
公开(公告)号：CN115668058A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180033731.4
申请日：2021-05-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·S·希利詹姆斯 , J·G·C·昆尼 , M·A·P·范德赫乌维尔 , 朱巭㷡
IPC: G03F7/20 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 提供了一种衬底支撑系统，包括：支撑部件，支撑部件被配置为将衬底的底表面支撑在支撑平面上；可移动部件，可移动部件在可移动部件的顶端位于支撑平面下方的缩回位置与可移动部件的顶端位于支撑平面上方的延伸位置之间可移动，使得顶端将衬底的底表面支撑在处于延伸位置的支撑平面上方；以及测量系统，被配置为测量可移动部件从缩回位置移动到延伸位置所花费的时间，将所测量的时间与参考时间进行比较，并且当所测量的时间与参考时间偏离超过预定量时生成信号。
-
公开(公告)号：CN102955375A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201210292618.0
申请日：2012-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·G·C·昆尼 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , H·J·M·凡阿毕伦 , A·R·J·达森 , S·C·R·德尔克斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/707 , G03F7/70875 , H01L21/68 , H01L21/6875
Abstract: 本发明公开了用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及器件制造方法。所述支撑台包括：支撑部分和调节系统，其中支撑部分、调节系统或两者配置成使得由于调节系统的操作导致的至衬底或来自衬底的热传递在邻近衬底边缘的衬底区域中比在衬底中心处的衬底区域中的大。
-
公开(公告)号：CN113366390B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202080011275.9
申请日：2020-01-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·胡包克斯 , J·F·M·贝克尔斯 , D·J·D·戴维斯 , J·G·C·昆尼 , W·R·彭格斯 , A·R·戴韦尔 , 李忠勳 , G·齐萝扬尼斯 , H·C·A·博格 , F·E·德荣格 , J·M·冈萨雷斯韦斯卡 , A·V·霍洛德 , M·皮萨连科
IPC: G03F7/20 , G05B23/02 , G05B19/418
Abstract: 描述了一种用于对经历包括多个操作的半导体制造过程的衬底进行分类的方法，该方法包括：获得从在对衬底的多个操作中的一个或多个操作期间生成的数据中得出的功能指示器的值，功能指示器表征至少一个操作；将包括一个或多个阈值的决定模型应用于功能指示器的值以获得一个或多个分类指示器；以及基于一个或多个分类指示器为衬底分配类别。
-
公开(公告)号：CN102955372B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201210280770.7
申请日：2012-08-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·G·C·昆尼 , J·H·W·雅各布斯 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , F·J·J·范鲍克斯台尔 , S·C·R·德尔克斯 , S·N·L·唐德斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70875 , H01L21/683
Abstract: 本发明公开了一种衬底台组件、浸没光刻设备以及器件制造方法。所述衬底台组件包括：衬底台，用以支撑衬底；和气体处理系统，用以将气体提供至衬底台与安装在衬底台上的衬底之间的区域，其中由气体处理系统提供的气体的热导率在298K的条件下大于或等于100mW/(m.K)。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
16
records
(took 0.028 seconds)
