-
公开(公告)号：CN102405560A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201080017184.2
申请日：2010-01-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01R13/03
CPC classification number: H01R13/53 , G03F7/70708 , G03F7/70991
Abstract: 一种电连接器，适于例如在低压强环境中连接高电压承载电缆，电连接器包括：具有导电表面的壳体和多个电缆插入部分，每一个电缆插入部分包括：导电体，配置用以连接至电缆；和绝缘套管，围绕所述导电体，其中所述壳体围绕所述多个电缆插入部分。
-
公开(公告)号：CN115668719A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180036427.5
申请日：2021-04-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： G·G·A·德格西姆 , R·F·M·M·哈梅林克 , J·范杜凡波第
Abstract: 本发明提供一种用于平面电磁马达的磁体组件，所述磁体组件包括：‑多个第一超导(SC)线圈，所述多个第一SC线圈位于外周边内并被布置成诸如矩形图案之类的平面图案；‑多个第二SC线圈，所述多个第二SC线圈沿所述平面图案的外边界布置，所述多个第一SC线圈中的线圈具有第一平面内形状并且所述多个第二SC线圈中的线圈具有不同于所述第一平面内形状的第二平面内形状，其中，所述多个第二SC线圈至少部分地被布置在所述外周边内。
-
公开(公告)号：CN115280243A
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202180020908.7
申请日：2021-02-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·L·W·M·范德文 , J·B·C·恩格伦 , A·W·诺滕博姆 , J·V·奥沃卡姆普 , K·G·H·詹森 , J·A·C·M·皮耶宁堡 , J·范杜凡波第 , E·J·聂文辉 , K·范贝尔克
IPC: G03F7/20 , H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 一种被配置成支撑物体的物体保持器，所述物体保持器包括：芯体，所述芯体包括多个突节，所述多个突节具有位于支撑平面中以用于支撑所述物体的远端；和静电片，所述静电片位于所述突节之间，所述静电片包括被夹在介电层之间的电极；其中，所述静电片通过具有至少100nm的厚度的结合材料结合至所述芯体。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119493333A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202411590650.6
申请日：2019-11-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种用于从隔膜移除粒子的隔膜清洁设备，包括：隔膜支撑件；以及电场生成机构。所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜。所述电场生成机构用于当所述隔膜由所述隔膜支撑件支撑时在所述隔膜附近生成电场。所述电场生成机构可以包括：一个或更多个集电极；和用于跨越由所述隔膜支撑件支撑的所述隔膜和所述一个或更多个集电极中的一个或每个集电极施加电压的机构。
-
公开(公告)号：CN113168088A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980079386.0
申请日：2019-11-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种用于从隔膜移除粒子的隔膜清洁设备，包括：隔膜支撑件；以及电场生成机构。所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜。所述电场生成机构用于当所述隔膜由所述隔膜支撑件支撑时在所述隔膜附近生成电场。所述电场生成机构可以包括：一个或更多个集电极；和用于跨越由所述隔膜支撑件支撑的所述隔膜和所述一个或更多个集电极中的一个或每个集电极施加电压的机构。
-
公开(公告)号：CN119422312A
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202380049493.5
申请日：2023-07-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·F·M·M·哈梅林克 , G·G·A·德格西姆 , J·范杜凡波第 , E·A·范德芬 , R·J·H·韦瑟林克
Abstract: 本发明提供一种用于平面马达的超导（SC）磁体组件，所述超导磁体组件包括：‑超导线圈的二维（2D）阵列，所述超导线圈的二维阵列被配置成产生二维的空间交变磁场；‑屏蔽件，所述屏蔽件被布置在超导线圈的所述二维阵列的在使用期间面向所述平面马达的动子的一侧上，所述屏蔽件被配置成减缓由超导线圈的所述二维阵列所经历的磁场变化；其中，所述屏蔽件包括导电材料层，所述层横跨大致覆盖超导线圈的所述二维阵列的区域，所述导电材料层具有横跨所述区域的厚度变化，横跨所述区域的所述厚度变化与超导线圈的所述二维阵列的几何参数相关联。
-
公开(公告)号：CN113168088B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN201980079386.0
申请日：2019-11-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种用于从隔膜移除粒子的隔膜清洁设备，包括：隔膜支撑件；以及电场生成机构。所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜。所述电场生成机构用于当所述隔膜由所述隔膜支撑件支撑时在所述隔膜附近生成电场。所述电场生成机构可以包括：一个或更多个集电极；和用于跨越由所述隔膜支撑件支撑的所述隔膜和所述一个或更多个集电极中的一个或每个集电极施加电压的机构。
-
公开(公告)号：CN102405560B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201080017184.2
申请日：2010-01-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01R13/03
CPC classification number: H01R13/53 , G03F7/70708 , G03F7/70991
Abstract: 一种电连接器，适于例如在低压强环境中连接高电压承载电缆，电连接器包括：具有导电表面的壳体和多个电缆插入部分，每一个电缆插入部分包括：导电体，配置用以连接至电缆；和绝缘套管，围绕所述导电体，其中所述壳体围绕所述多个电缆插入部分。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.025 seconds)
