公开(公告)号：CN115698865A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202180041323.3

申请日：2021-06-08

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·范德查尔 ,  帕特里克·华纳 ,  F·G·C·比基恩 ,  O·V·兹维尔

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 公开了一种目标布置，所述目标布置包括第一目标区域和第二目标区域，所述第一目标区域至少具有第一节距且至少具有第二节距，所述第二目标区域至少具有第三节距，其中，所述第一目标区域的具有第二节距的部分与所述第二目标区域的一部分重叠。

公开(公告)号：CN101458458A

公开(公告)日：2009-06-17

申请号：CN200810136697.X

申请日：2008-10-09

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： E·C·摩斯 ,  A·J·登勃夫 ,  M·范德查尔 ,  S·C·J·A·凯吉

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G02F1/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7049 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7088

Abstract: 本发明涉及对准方法和装置、光刻装置、计量装置和器件的制造方法。一种包括空间相干的辐射源的对准传感器，该辐射源可以为角度分解的散射仪提供辐射束。通过检测在相对于散射仪的衬底扫描过程中的散射仪波谱的差拍来执行对准操作。