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公开(公告)号：CN110998449B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN201880051260.8
申请日：2018-07-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法包括：针对使用图案化过程产生的衬底的器件图案的多个特征中的每个特定特征，获得在所述衬底的测量目标与所述特定特征之间的所述图案化过程的参数的模型化或模拟关系；和基于所述关系和来自量测目标的所述参数的测量值，产生针对所述特征中的每个特征的横跨所述衬底的至少一部分的所述参数的分布，所述分布用于设计、控制或修改所述图案化过程。
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公开(公告)号：CN111670445A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201980011358.5
申请日：2019-01-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 在过程步骤之前，基于与衬底相关联的预处理数据(404)来对待处理衬底(402)进行分割。使用分割规则(410、412、414)来对数据进行分割，并且根据通过分割而获得的数据的子集将衬底分割为子集(G1-G4)。应用了针对每个子集特定的校正(COR1-COR4)。使用对衬底的训练集(502)的决策树分析来获得分割规则(图5)。所述决策树分析使用在处理前与所述训练衬底相关联的预处理数据(256、260)，以及在经受所述过程步骤之后与训练衬底相关联的后处理数据(262)。基于后处理数据的子集的特性，从多个分割规则(512)中选择出限定所述决策树的分割规则(506)。同时隐含地获得相关联的校正(508)。
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公开(公告)号：CN110036347A
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201780074864.X
申请日：2017-11-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·J·F·范哈恩 , V·E·卡拉多 , L·P·范戴克 , R·沃克曼 , E·C·摩斯 , J·S·威尔登伯格 , M·乔詹姆森 , B·拉贾塞克兰 , E·詹森 , A·J·乌尔班奇克
Abstract: 一种改变衬底蚀刻过程的蚀刻参数的方法，所述方法包括：在蚀刻之前进行与衬底上的结构相关的第一度量的第一测量；在蚀刻之后进行与衬底上的结构相关的第二度量的第二测量；以及基于所述第一测量与所述第二测量之间的差改变所述蚀刻参数。
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公开(公告)号：CN109891324A
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201780066481.8
申请日：2017-10-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于改善光刻过程的成品率的方法，所述方法包括：确定整个衬底的性能参数的参数指纹，所述参数指纹包括与所述性能参数的不确定性相关的信息；确定整个所述衬底的性能参数的过程窗口指纹，过程窗口与所述性能参数的可允许范围相关联；以及确定与所述性能参数在可允许范围之外的概率相关联的概率度量。可选地，基于所述概率度量来确定对所述光刻过程的校正。
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公开(公告)号：CN114585970B
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202080072295.7
申请日：2020-10-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 阿利亚斯加尔·基瓦尼詹巴汉 , 弗兰斯·雷尼尔·斯皮林 , J·S·威尔登伯格 , E·C·摩斯
Abstract: 披露了一种将测量数据拟合至模型的方法。该方法包括：获得与衬底的至少一部分的性能参数相关联的测量数据；以及通过在不允许测量数据与被拟合的模型之间的偏差超过阈值的同时使应用于模型的拟合参数的复杂性指标最小化，以将测量数据拟合至模型。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111670445B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN201980011358.5
申请日：2019-01-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 在过程步骤之前，基于与衬底相关联的预处理数据(404)来对待处理衬底(402)进行分割。使用分割规则(410、412、414)来对数据进行分割，并且根据通过分割而获得的数据的子集将衬底分割为子集(G1‑G4)。应用了针对每个子集特定的校正(COR1‑COR4)。使用对衬底的训练集(502)的决策树分析来获得分割规则(图5)。所述决策树分析使用在处理前与所述训练衬底相关联的预处理数据(256、260)，以及在经受所述过程步骤之后与训练衬底相关联的后处理数据(262)。基于后处理数据的子集的特性，从多个分割规则(512)中选择出限定所述决策树的分割规则(506)。同时隐含地获得相关联的校正(508)。
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公开(公告)号：CN114137803A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202111513976.5
申请日：2017-11-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·J·F·范哈恩 , V·E·卡拉多 , L·P·范戴克 , R·沃克曼 , E·C·摩斯 , J·S·威尔登伯格 , M·乔詹姆森 , B·拉贾塞克兰 , E·詹森 , A·J·乌尔班奇克
IPC: G03F7/20 , H01L21/3065 , H01L21/66
Abstract: 一种改变衬底蚀刻过程的蚀刻参数的方法，所述方法包括：在蚀刻之前进行与衬底上的结构相关的第一度量的第一测量；在蚀刻之后进行与衬底上的结构相关的第二度量的第二测量；以及基于所述第一测量与所述第二测量之间的差改变所述蚀刻参数。
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公开(公告)号：CN109891324B
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201780066481.8
申请日：2017-10-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于改善光刻过程的成品率的方法，所述方法包括：确定整个衬底的性能参数的参数指纹，所述参数指纹包括与所述性能参数的不确定性相关的信息；确定整个所述衬底的性能参数的过程窗口指纹，过程窗口与所述性能参数的可允许范围相关联；以及确定与所述性能参数在可允许范围之外的概率相关联的概率度量。可选地，基于所述概率度量来确定对所述光刻过程的校正。
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公开(公告)号：CN113946105B
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202111221202.5
申请日：2018-02-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： W·T·特尔 , B·P·B·西哥斯 , E·C·摩斯 , 埃米尔·皮特·斯克米特-威沃 , 张祎晨 , 柳星兰 , 赖纳·玛丽亚·琼伯鲁特 , 刘贤优 , P·G·范里 , M·基利蒂齐拉基
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法包括确定在执行器件制造过程时与误差或残差关联的第一参数的第一分布；确定在执行所述器件制造过程时与误差或残差关联的第二参数的第二分布；和使用对所述第一分布和第二分布进行运算的函数确定与所述器件制造过程关联的感兴趣的参数的分布。所述函数可以包括相关性。
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公开(公告)号：CN110036347B
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN201780074864.X
申请日：2017-11-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·J·F·范哈恩 , V·E·卡拉多 , L·P·范戴克 , R·沃克曼 , E·C·摩斯 , J·S·威尔登伯格 , M·乔詹姆森 , B·拉贾塞克兰 , E·詹森 , A·J·乌尔班奇克
Abstract: 一种改变衬底蚀刻过程的蚀刻参数的方法，所述方法包括：在蚀刻之前进行与衬底上的结构相关的第一度量的第一测量；在蚀刻之后进行与衬底上的结构相关的第二度量的第二测量；以及基于所述第一测量与所述第二测量之间的差改变所述蚀刻参数。
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