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公开(公告)号：CN111727407B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201980011519.0
申请日：2019-01-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·V·梅德韦久瓦 , A·齐亚托马斯 , H·A·J·克瑞姆 , M·H·M·范维尔特 , B·O·夫艾格金格奥尔 , 尚晓昕 , J·M·范博克斯梅尔 , B·韦斯特拉特恩
Abstract: 本发明公开确定最佳聚焦高度的方法。在一种布置中，获得来自所述量测过程至目标的多次应用的测量数据。所述量测过程的每次应用包括利用辐射斑来照射所述目标并检测由所述目标改变方向的辐射。所述量测过程的所述应用包括在不同名义聚焦高度处的应用。针对所述量测过程的每次应用，所述测量数据包含被改变方向的辐射的光学特性在光瞳平面中的检测到的光瞳表示的至少一个分量。所述方法包括使用所获得的测量数据来确定所述量测过程的最佳聚焦高度。
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公开(公告)号：CN111279268B
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN201880069926.2
申请日：2018-10-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 周子理 , G·范德祖克 , N·潘迪 , M·G·M·M·范卡拉埃吉 , M·H·M·范维尔特 , A·齐亚托马斯 , S·塔拉布林 , H·D·博斯
Abstract: 本公开涉及确定图案化过程的所关注的参数的值和清除包含关于所述所关注的参数的信息的信号的方法。在一种布置中，获得辐射的检测到的第一表示与第二表示。所述辐射由通过结构对偏振后的入射辐射的重引导提供。分别从重引导后的辐射的第一偏振分量与第二偏振分量导出检测到的所述第一表示与第二表示。检测到的所述第一表示的不对称性包括来自所述所关注的参数的贡献和来自不对称性的一个或更多个其它来源的贡献。相比于检测到的所述第一表示的不对称性，检测到的所述第二表示的不对称性包括相对于来自所述所关注的参数的贡献更大的来自不对称性的所述一个或更多个其它来源的贡献。检测到的所述第一表示与第二表示的组合用于确定所述所关注的参数的值。
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公开(公告)号：CN111727407A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201980011519.0
申请日：2019-01-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·V·梅德韦久瓦 , A·齐亚托马斯 , H·A·J·克瑞姆 , M·H·M·范维尔特 , B·O·夫艾格金格奥尔 , 尚晓昕 , J·M·范博克斯梅尔 , B·韦斯特拉特恩
Abstract: 本发明公开确定最佳聚焦高度的方法。在一种布置中，获得来自所述量测过程至目标的多次应用的测量数据。所述量测过程的每次应用包括利用辐射斑来照射所述目标并检测由所述目标改变方向的辐射。所述量测过程的所述应用包括在不同名义聚焦高度处的应用。针对所述量测过程的每次应用，所述测量数据包含被改变方向的辐射的光学特性在光瞳平面中的检测到的光瞳表示的至少一个分量。所述方法包括使用所获得的测量数据来确定所述量测过程的最佳聚焦高度。
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公开(公告)号：CN111279268A
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201880069926.2
申请日：2018-10-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 周子理 , G·范德祖克 , N·潘迪 , M·G·M·M·范卡拉埃吉 , M·H·M·范维尔特 , A·齐亚托马斯 , S·塔拉布林 , H·D·博斯
Abstract: 本公开涉及确定图案化过程的所关注的参数的值和清除包含关于所述所关注的参数的信息的信号的方法。在一种布置中，获得辐射的检测到的第一表示与第二表示。所述辐射由通过结构对偏振后的入射辐射的重引导提供。分别从重引导后的辐射的第一偏振分量与第二偏振分量导出检测到的所述第一表示与第二表示。检测到的所述第一表示的不对称性包括来自所述所关注的参数的贡献和来自不对称性的一个或更多个其它来源的贡献。相比于检测到的所述第一表示的不对称性，检测到的所述第二表示的不对称性包括相对于来自所述所关注的参数的贡献更大的来自不对称性的所述一个或更多个其它来源的贡献。检测到的所述第一表示与第二表示的组合用于确定所述所关注的参数的值。
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