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公开(公告)号：CN111065974B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN201880057808.X
申请日：2018-08-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·O·夫艾格金格奥尔 , P·C·赫因恩 , H·A·J·克瑞姆 , A·齐亚托马斯 , M·V·梅德韦久瓦
Abstract: 此处公开了一种形成在衬底上的目标，所述目标包括：对准结构；和量测结构；其中所述对准结构包括被布置成当用源辐射照射所述对准结构时产生拍频图案的结构。有利地，当照射所述目标时，在所述目标的图像中出现的拍频图案允许使用图案识别技术容易地识别出所述目标。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111684360B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN201980011373.X
申请日：2019-01-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种优化量测过程的方法。在一种布置中，通过对衬底上的第一目标多次应用量测过程来获得测量数据。量测过程的每次应用包括利用辐射斑照射第一目标并检测由第一目标改变方向的辐射。量测过程的应用包括以下应用中的任一种或两种：a)辐射斑相对于第一目标的多个位置处的应用；和b)辐射斑的多个聚焦高度处的应用。针对量测过程的每次应用，测量数据包括被改变方向的辐射的光学特性在光瞳平面中的检测到的光瞳表示。该方法包括基于测量数据中的检测到的光瞳表示与参考光瞳表示之间的比较来确定最佳对准和最佳聚焦高度中的任一个或两个。
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公开(公告)号：CN111727407B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201980011519.0
申请日：2019-01-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·V·梅德韦久瓦 , A·齐亚托马斯 , H·A·J·克瑞姆 , M·H·M·范维尔特 , B·O·夫艾格金格奥尔 , 尚晓昕 , J·M·范博克斯梅尔 , B·韦斯特拉特恩
Abstract: 本发明公开确定最佳聚焦高度的方法。在一种布置中，获得来自所述量测过程至目标的多次应用的测量数据。所述量测过程的每次应用包括利用辐射斑来照射所述目标并检测由所述目标改变方向的辐射。所述量测过程的所述应用包括在不同名义聚焦高度处的应用。针对所述量测过程的每次应用，所述测量数据包含被改变方向的辐射的光学特性在光瞳平面中的检测到的光瞳表示的至少一个分量。所述方法包括使用所获得的测量数据来确定所述量测过程的最佳聚焦高度。
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公开(公告)号：CN111065974A
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201880057808.X
申请日：2018-08-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·O·夫艾格金格奥尔 , P·C·赫因恩 , H·A·J·克瑞姆 , A·齐亚托马斯 , M·V·梅德韦久瓦
Abstract: 此处公开了一种形成在衬底上的目标，所述目标包括：对准结构；和量测结构；其中所述对准结构包括被布置成当用源辐射照射所述对准结构时产生拍频图案的结构。有利地，当照射所述目标时，在所述目标的图像中出现的拍频图案允许使用图案识别技术容易地识别出所述目标。
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公开(公告)号：CN111727407A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201980011519.0
申请日：2019-01-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·V·梅德韦久瓦 , A·齐亚托马斯 , H·A·J·克瑞姆 , M·H·M·范维尔特 , B·O·夫艾格金格奥尔 , 尚晓昕 , J·M·范博克斯梅尔 , B·韦斯特拉特恩
Abstract: 本发明公开确定最佳聚焦高度的方法。在一种布置中，获得来自所述量测过程至目标的多次应用的测量数据。所述量测过程的每次应用包括利用辐射斑来照射所述目标并检测由所述目标改变方向的辐射。所述量测过程的所述应用包括在不同名义聚焦高度处的应用。针对所述量测过程的每次应用，所述测量数据包含被改变方向的辐射的光学特性在光瞳平面中的检测到的光瞳表示的至少一个分量。所述方法包括使用所获得的测量数据来确定所述量测过程的最佳聚焦高度。
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公开(公告)号：CN111684360A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201980011373.X
申请日：2019-01-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种优化量测过程的方法。在一种布置中，通过对衬底上的第一目标多次应用量测过程来获得测量数据。量测过程的每次应用包括利用辐射斑照射第一目标并检测由第一目标改变方向的辐射。量测过程的应用包括以下应用中的任一种或两种：a)辐射斑相对于第一目标的多个位置处的应用；和b)辐射斑的多个聚焦高度处的应用。针对量测过程的每次应用，测量数据包括被改变方向的辐射的光学特性在光瞳平面中的检测到的光瞳表示。该方法包括基于测量数据中的检测到的光瞳表示与参考光瞳表示之间的比较来确定最佳对准和最佳聚焦高度中的任一个或两个。
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