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公开(公告)号：CN102566308B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201110442480.3
申请日：2011-12-21
Applicant: ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： M·W·M·范德维基斯特 , 汉斯·巴特勒 , E·R·鲁普斯卓 , 伯哈德·古普特 , M·H·H·奥德尼惠斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , F16F15/022 , F16F15/08 , G03F7/708 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了光刻设备和器件制造方法，其中装置被提供用于降低在投影系统的第一元件和投影系统的第二元件之间传播的振动的程度。所公开的方法包括使用多个串联的弹性构件作为振动隔离系统的一部分，使用多个隔离框架分离地支撑第一投影系统框架和第二投影系统框架，和使用用于第一投影系统框架和第二投影系统框架与隔离框架之间的相互作用的修改的连接位置。
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公开(公告)号：CN101446771B
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN200810170899.6
申请日：2008-10-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/709 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种具有主动阻尼组件的光刻设备，包括用以将图案化的辐射束投影到衬底的投影系统，和用于衰减至少一部分该投影系统的振动的阻尼系统，所述阻尼系统包括界面阻尼块体和用以衰减至少一部分该界面阻尼块体振动的主动阻尼子系统，所述界面阻尼块体连接到该投影系统，而所述主动阻尼子系统连接到所述界面阻尼块体，所述主动阻尼子系统包括用于检测所述界面阻尼块体位置的量的传感器和用于根据所述传感器提供的信号施加作用力到界面阻尼块体的致动器。所述阻尼系统还包括连接到界面阻尼块体上并构造成阻滞所述界面阻尼块体以界面阻尼块体的本征频率移动的界面阻尼装置。
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公开(公告)号：CN101504511B
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN200910003815.4
申请日：2009-02-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70516
Abstract: 本发明提供一种台系统校准方法，其包括：响应设定点信号相对于编码器栅格移动所述台，并且通过传感器头与所述编码器栅格协作操作测量所述台的位置。台的位置通过台控制器进行控制。寄存表示设定点信号和由所述传感器头所测的台的位置之间的差异的信号。通过表示所述差异的寄存信号校准所述台系统。
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公开(公告)号：CN101441420B
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN200810191103.5
申请日：2008-10-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , M·W·M·范德维基斯特 , C·A·L·德霍恩
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/709 , G05D19/02
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备以及器件制造方法，尤其涉及一种用于控制物体的位置或位置相关量的控制系统，该系统包括：构造为测量该物体的位置或位置相关量的测量系统；构造为基于所测量的位置或位置相关量提供控制信号的控制器；以及构造为基于该控制信号驱动该物体的致动器，其中该控制系统还包括至少一个构造为对所测量的位置或位置相关量进行滤波的滤波器单元，其中该至少一个滤波器单元是不完整阶滤波器单元。
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公开(公告)号：CN102566308A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110442480.3
申请日：2011-12-21
Applicant: ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： M·W·M·范德维基斯特 , 汉斯·巴特勒 , E·R·鲁普斯卓 , 伯哈德·古普特 , M·H·H·奥德尼惠斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , F16F15/022 , F16F15/08 , G03F7/708 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了光刻设备和器件制造方法，其中装置被提供用于降低在投影系统的第一元件和投影系统的第二元件之间传播的振动的程度。所公开的方法包括使用多个串联的弹性构件作为振动隔离系统的一部分，使用多个隔离框架分离地支撑第一投影系统框架和第二投影系统框架，和使用用于第一投影系统框架和第二投影系统框架与隔离框架之间的相互作用的修改的连接位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102163003A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110048628.5
申请日：2011-02-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , E·J·M·尤森 , W·H·G·A·考恩 , E·A·F·范德帕斯卡 , H·K·范德斯考特 , M·W·M·范德维基斯特 , M·M·P·A·沃梅尤恩 , C·A·L·德霍恩
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70516 , G03F7/70758 , G03F7/70783
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种用于校正光刻设备的台的位置的方法。所述光刻设备包括：用以保持物体的台，所述台在运动范围内相对于参照结构是可移动的；磁体结构，用以在所述运动范围的至少一部分内提供空间变化的磁场，所述磁体结构相对于参照结构和所述台是可移动的；第一位置测量系统，用以提供第一测量信号，所述第一测量信号对应于所述台和/或所述物体在测量方向上相对于参照结构的位置；第二位置测量系统，用以提供第二测量信号，所述第二测量信号对应于台相对于磁体结构的位置；和数据处理器，用依赖于第二测量信号的值校正第一测量信号，以提供表示所述台和/或所述物体相对于参照结构在测量方向上的位置的校正的第一测量信号。
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公开(公告)号：CN101446771A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200810170899.6
申请日：2008-10-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/709 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种具有主动阻尼组件的光刻设备，包括用以将图案化的辐射束投影到衬底的投影系统，和用于衰减至少一部分该投影系统的振动的阻尼系统，所述阻尼系统包括界面阻尼块体和用以衰减至少一部分该界面阻尼块体振动的主动阻尼子系统，所述界面阻尼块体连接到该投影系统，而所述主动阻尼子系统连接到所述界面阻尼块体，所述主动阻尼子系统包括用于检测所述界面阻尼块体位置的量的传感器和用于根据所述传感器提供的信号施加作用力到界面阻尼块体的致动器。所述阻尼系统还包括连接到界面阻尼块体上并构造成阻滞所述界面阻尼块体以界面阻尼块体的本征频率移动的界面阻尼装置。
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公开(公告)号：CN102163003B
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201110048628.5
申请日：2011-02-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , E·J·M·尤森 , W·H·G·A·考恩 , E·A·F·范德帕斯卡 , H·K·范德斯考特 , M·W·M·范德维基斯特 , M·M·P·A·沃梅尤恩 , C·A·L·德霍恩
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70516 , G03F7/70758 , G03F7/70783
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种用于校正光刻设备的台的位置的方法。所述光刻设备包括：用以保持物体的台，所述台在运动范围内相对于参照结构是可移动的；磁体结构，用以在所述运动范围的至少一部分内提供空间变化的磁场，所述磁体结构相对于参照结构和所述台是可移动的；第一位置测量系统，用以提供第一测量信号，所述第一测量信号对应于所述台和/或所述物体在测量方向上相对于参照结构的位置；第二位置测量系统，用以提供第二测量信号，所述第二测量信号对应于台相对于磁体结构的位置；和数据处理器，用依赖于第二测量信号的值校正第一测量信号，以提供表示所述台和/或所述物体相对于参照结构在测量方向上的位置的校正的第一测量信号。
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公开(公告)号：CN101504511A
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200910003815.4
申请日：2009-02-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70516
Abstract: 本发明提供一种台系统校准方法，其包括：响应设定点信号相对于编码器栅格移动所述台，并且通过传感器头与所述编码器栅格协作操作测量所述台的位置。台的位置通过台控制器进行控制。寄存表示设定点信号和由所述传感器头所测的台的位置之间的差异的信号。通过表示所述差异的寄存信号校准所述台系统。
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公开(公告)号：CN101441420A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200810191103.5
申请日：2008-10-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , M·W·M·范德维基斯特 , C·A·L·德霍恩
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/709 , G05D19/02
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备以及器件制造方法，尤其涉及一种用于控制物体的位置或位置相关量的控制系统，该系统包括：构造为测量该物体的位置或位置相关量的测量系统；构造为基于所测量的位置或位置相关量提供控制信号的控制器；以及构造为基于该控制信号驱动该物体的致动器，其中该控制系统还包括至少一个构造为对所测量的位置或位置相关量进行滤波的滤波器单元，其中该至少一个滤波器单元是不完整阶滤波器单元。
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