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公开(公告)号：CN101598906A
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200910203129.1
申请日：2009-06-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707
Abstract: 本发明涉及一种衬底台、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述衬底台在使用期间采用多种方法在台和支撑在台上的物体的边缘之间进行密封。尤其是，在位于台上的物体和台本身之间形成毛细通路。在毛细通路径向向内侧处过压的存在和/或弯液面钉扎特征将液体保持在所述通道内，并且帮助阻止液体进一步径向向内前进。实现这种功能的所述特征可以与围绕所述物体的部件相关联或形成在所述部件内。所述部件可以与所述台的一部分热隔离。
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公开(公告)号：CN102072742A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN201010544831.7
申请日：2010-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·A·F·范德帕斯卡 , E·J·M·尤森 , E·R·鲁普斯卓
CPC classification number: G03F7/70775 , G01D5/38
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。具体地，公开了一种位置测量系统，用以测量可移动物体相对于另一物体的位置，所述系统包括：两个或更多个一维(1D)编码器头，其安装在可移动物体和所述另一物体中的一个上，并且每一个配置成沿测量方向发射测量束；一个或更多个参照目标，其安装在可移动物体和另一物体中的另一个上，每个所述参照目标包括具有栅格或光栅的平面表面、以与所述两个或更多个一维(1D)编码器头协作；和处理器，配置成基于所述两个或更多个一维编码器头的输出计算可移动物体的位置，其中所述两个或更多个一维编码器头的每一个的测量方向不垂直于相应的所述参照目标的平面表面。
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公开(公告)号：CN101713929A
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200910178543.1
申请日：2009-09-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·T·P·考姆彭 , M·M·P·A·沃梅尤恩 , A·B·杰尤恩克 , E·R·鲁普斯卓 , J·J·奥腾斯 , P·斯密特斯 , H·J·M·凡阿毕伦 , A·A·梅尤恩迪杰克斯 , M·霍本 , R·W·A·H·理纳尔斯
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70775
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备包括：照射系统，其配置用于调节辐射束；支撑结构，其构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予所述辐射束，以形成图案化的辐射束；反射镜块，其设置有构造用以保持衬底的衬底台；和投影系统，其配置用以将所述图案化的辐射束投射到所述衬底的目标部分上，其中所述反射镜块构造并布置用以减小所述反射镜块和所述衬底台之间的滑动。如果反射镜块的加速度大且衬底台相对于反射镜块局部地滑动，会发生滑动。滑动会导致曝光误差，因为衬底的位置不再由所需的精确度来确定。
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公开(公告)号：CN101598906B
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN200910203129.1
申请日：2009-06-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707
Abstract: 本发明涉及一种衬底台、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述衬底台在使用期间采用多种方法在台和支撑在台上的物体的边缘之间进行密封。尤其是，在位于台上的物体和台本身之间形成毛细通路。在毛细通路径向向内侧处过压的存在和/或弯液面钉扎特征将液体保持在所述通道内，并且帮助阻止液体进一步径向向内前进。实现这种功能的所述特征可以与围绕所述物体的部件相关联或形成在所述部件内。所述部件可以与所述台的一部分热隔离。
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公开(公告)号：CN102566308A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110442480.3
申请日：2011-12-21
Applicant: ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： M·W·M·范德维基斯特 , 汉斯·巴特勒 , E·R·鲁普斯卓 , 伯哈德·古普特 , M·H·H·奥德尼惠斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , F16F15/022 , F16F15/08 , G03F7/708 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了光刻设备和器件制造方法，其中装置被提供用于降低在投影系统的第一元件和投影系统的第二元件之间传播的振动的程度。所公开的方法包括使用多个串联的弹性构件作为振动隔离系统的一部分，使用多个隔离框架分离地支撑第一投影系统框架和第二投影系统框架，和使用用于第一投影系统框架和第二投影系统框架与隔离框架之间的相互作用的修改的连接位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101446771A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200810170899.6
申请日：2008-10-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/709 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种具有主动阻尼组件的光刻设备，包括用以将图案化的辐射束投影到衬底的投影系统，和用于衰减至少一部分该投影系统的振动的阻尼系统，所述阻尼系统包括界面阻尼块体和用以衰减至少一部分该界面阻尼块体振动的主动阻尼子系统，所述界面阻尼块体连接到该投影系统，而所述主动阻尼子系统连接到所述界面阻尼块体，所述主动阻尼子系统包括用于检测所述界面阻尼块体位置的量的传感器和用于根据所述传感器提供的信号施加作用力到界面阻尼块体的致动器。所述阻尼系统还包括连接到界面阻尼块体上并构造成阻滞所述界面阻尼块体以界面阻尼块体的本征频率移动的界面阻尼装置。
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公开(公告)号：CN102072742B
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201010544831.7
申请日：2010-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·A·F·范德帕斯卡 , E·J·M·尤森 , E·R·鲁普斯卓
CPC classification number: G03F7/70775 , G01D5/38
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。具体地，公开了一种位置测量系统，用以测量可移动物体相对于另一物体的位置，所述系统包括：两个或更多个一维(1D)编码器头，其安装在可移动物体和所述另一物体中的一个上，并且每一个配置成沿测量方向发射测量束；一个或更多个参照目标，其安装在可移动物体和另一物体中的另一个上，每个所述参照目标包括具有栅格或光栅的平面表面、以与所述两个或更多个一维(1D)编码器头协作；和处理器，配置成基于所述两个或更多个一维编码器头的输出计算可移动物体的位置，其中所述两个或更多个一维编码器头的每一个的测量方向不垂直于相应的所述参照目标的平面表面。
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公开(公告)号：CN101713929B
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN200910178543.1
申请日：2009-09-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·T·P·考姆彭 , M·M·P·A·沃梅尤恩 , A·B·杰尤恩克 , E·R·鲁普斯卓 , J·J·奥腾斯 , P·斯密特斯 , H·J·M·凡阿毕伦 , A·A·梅尤恩迪杰克斯 , M·霍本 , R·W·A·H·理纳尔斯
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70775
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备包括：照射系统，其配置用于调节辐射束；支撑结构，其构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予所述辐射束，以形成图案化的辐射束；反射镜块，其设置有构造用以保持衬底的衬底台；和投影系统，其配置用以将所述图案化的辐射束投射到所述衬底的目标部分上，其中所述反射镜块构造并布置用以减小所述反射镜块和所述衬底台之间的滑动。如果反射镜块的加速度大且衬底台相对于反射镜块局部地滑动，会发生滑动。滑动会导致曝光误差，因为衬底的位置不再由所需的精确度来确定。
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公开(公告)号：CN101446771B
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN200810170899.6
申请日：2008-10-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/709 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种具有主动阻尼组件的光刻设备，包括用以将图案化的辐射束投影到衬底的投影系统，和用于衰减至少一部分该投影系统的振动的阻尼系统，所述阻尼系统包括界面阻尼块体和用以衰减至少一部分该界面阻尼块体振动的主动阻尼子系统，所述界面阻尼块体连接到该投影系统，而所述主动阻尼子系统连接到所述界面阻尼块体，所述主动阻尼子系统包括用于检测所述界面阻尼块体位置的量的传感器和用于根据所述传感器提供的信号施加作用力到界面阻尼块体的致动器。所述阻尼系统还包括连接到界面阻尼块体上并构造成阻滞所述界面阻尼块体以界面阻尼块体的本征频率移动的界面阻尼装置。
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公开(公告)号：CN102566308B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201110442480.3
申请日：2011-12-21
Applicant: ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： M·W·M·范德维基斯特 , 汉斯·巴特勒 , E·R·鲁普斯卓 , 伯哈德·古普特 , M·H·H·奥德尼惠斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , F16F15/022 , F16F15/08 , G03F7/708 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了光刻设备和器件制造方法，其中装置被提供用于降低在投影系统的第一元件和投影系统的第二元件之间传播的振动的程度。所公开的方法包括使用多个串联的弹性构件作为振动隔离系统的一部分，使用多个隔离框架分离地支撑第一投影系统框架和第二投影系统框架，和使用用于第一投影系统框架和第二投影系统框架与隔离框架之间的相互作用的修改的连接位置。
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