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公开(公告)号：CN102072742B
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201010544831.7
申请日：2010-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·A·F·范德帕斯卡 , E·J·M·尤森 , E·R·鲁普斯卓
CPC classification number: G03F7/70775 , G01D5/38
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。具体地，公开了一种位置测量系统，用以测量可移动物体相对于另一物体的位置，所述系统包括：两个或更多个一维(1D)编码器头，其安装在可移动物体和所述另一物体中的一个上，并且每一个配置成沿测量方向发射测量束；一个或更多个参照目标，其安装在可移动物体和另一物体中的另一个上，每个所述参照目标包括具有栅格或光栅的平面表面、以与所述两个或更多个一维(1D)编码器头协作；和处理器，配置成基于所述两个或更多个一维编码器头的输出计算可移动物体的位置，其中所述两个或更多个一维编码器头的每一个的测量方向不垂直于相应的所述参照目标的平面表面。
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公开(公告)号：CN102954761B
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201210305329.X
申请日：2012-08-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： W·H·G·A·考恩 , E·J·M·尤森 , E·A·F·范德帕斯奇 , R·E·范莱文 , A·H·考沃埃特斯
CPC classification number: H01L23/544 , G03F7/70 , G03F7/70775 , G03F9/7019 , H01L21/682 , H01L2223/5442 , H01L2223/54426 , H01L2223/54453 , H01L2223/5446 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明公开了位置测量系统、光刻设备和器件制造方法。所述位置测量系统包括：第一部分和第二部分，用于通过提供表示第一部分相对于第二部分的位置的位置信号来确定第一构件相对于第二构件的位置；和计算单元，包括用于接收所述位置信号的输入端子。所述计算单元配置成在使用时对位置信号应用转换以获得表示第一构件相对于第二构件的位置的信号，和对所述转换应用调整以至少部分地补偿第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的漂移。所述调整是分别基于第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的预定的漂移特性。所述预定的漂移特性包括第一部分和/或第二部分的一个或多个基础形状。
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公开(公告)号：CN102681352A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210056867.X
申请日：2012-03-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 , J·J·奥坦斯 , E·J·M·尤森 , J·H·W·雅各布斯 , W·P·范德兰特 , F·斯塔尔斯 , L·J·曼彻特 , E·W·博高特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70833 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。衬底台参考元件在基本上平行于衬底台上的衬底的保持平面的测量平面内延伸。保持平面布置在测量平面的一侧并且第一传感器头布置在测量平面的相对侧。投影系统位置测量系统包括一个或多个投影系统参考元件和传感器组件。传感器头和传感器组件或相关的投影系统测量元件安装在传感器框架上。
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公开(公告)号：CN102163003A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110048628.5
申请日：2011-02-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , E·J·M·尤森 , W·H·G·A·考恩 , E·A·F·范德帕斯卡 , H·K·范德斯考特 , M·W·M·范德维基斯特 , M·M·P·A·沃梅尤恩 , C·A·L·德霍恩
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70516 , G03F7/70758 , G03F7/70783
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种用于校正光刻设备的台的位置的方法。所述光刻设备包括：用以保持物体的台，所述台在运动范围内相对于参照结构是可移动的；磁体结构，用以在所述运动范围的至少一部分内提供空间变化的磁场，所述磁体结构相对于参照结构和所述台是可移动的；第一位置测量系统，用以提供第一测量信号，所述第一测量信号对应于所述台和/或所述物体在测量方向上相对于参照结构的位置；第二位置测量系统，用以提供第二测量信号，所述第二测量信号对应于台相对于磁体结构的位置；和数据处理器，用依赖于第二测量信号的值校正第一测量信号，以提供表示所述台和/或所述物体相对于参照结构在测量方向上的位置的校正的第一测量信号。
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公开(公告)号：CN102163003B
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201110048628.5
申请日：2011-02-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , E·J·M·尤森 , W·H·G·A·考恩 , E·A·F·范德帕斯卡 , H·K·范德斯考特 , M·W·M·范德维基斯特 , M·M·P·A·沃梅尤恩 , C·A·L·德霍恩
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70516 , G03F7/70758 , G03F7/70783
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种用于校正光刻设备的台的位置的方法。所述光刻设备包括：用以保持物体的台，所述台在运动范围内相对于参照结构是可移动的；磁体结构，用以在所述运动范围的至少一部分内提供空间变化的磁场，所述磁体结构相对于参照结构和所述台是可移动的；第一位置测量系统，用以提供第一测量信号，所述第一测量信号对应于所述台和/或所述物体在测量方向上相对于参照结构的位置；第二位置测量系统，用以提供第二测量信号，所述第二测量信号对应于台相对于磁体结构的位置；和数据处理器，用依赖于第二测量信号的值校正第一测量信号，以提供表示所述台和/或所述物体相对于参照结构在测量方向上的位置的校正的第一测量信号。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101487979B
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN200810191143.X
申请日：2008-11-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： W·H·G·A·考恩 , E·J·M·尤森 , E·A·F·范德帕斯卡
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70508 , G03F7/7085
Abstract: 本发明公开了一种工作台系统、包括该工作台系统的光刻设备及一种校正方法。在本发明中，测量工作台位置的位置测量系统包括：参考板；多个传感器，其被设置成依据工作台相对于参考板的位置，多个传感器的至少一个子集与参考板协作，为子集内的每个传感器提供分别代表各个传感器相对于参考板的位置的各个传感器信号；和用来从传感器信号确定工作台位置的处理器，其配置成当工作台处于这样一个位置时，即在该位置上，由与参考板协作的传感器的至少一个子集提供超过确定用数目的传感器信号，(a)从超过确定用数目的传感器信号的子集确定工作台位置，并且(b)由确定的工作台位置与剩余的传感器信号之间的偏差，校正一个或多个传感器的传感器信号。
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公开(公告)号：CN102072742A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN201010544831.7
申请日：2010-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·A·F·范德帕斯卡 , E·J·M·尤森 , E·R·鲁普斯卓
CPC classification number: G03F7/70775 , G01D5/38
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。具体地，公开了一种位置测量系统，用以测量可移动物体相对于另一物体的位置，所述系统包括：两个或更多个一维(1D)编码器头，其安装在可移动物体和所述另一物体中的一个上，并且每一个配置成沿测量方向发射测量束；一个或更多个参照目标，其安装在可移动物体和另一物体中的另一个上，每个所述参照目标包括具有栅格或光栅的平面表面、以与所述两个或更多个一维(1D)编码器头协作；和处理器，配置成基于所述两个或更多个一维编码器头的输出计算可移动物体的位置，其中所述两个或更多个一维编码器头的每一个的测量方向不垂直于相应的所述参照目标的平面表面。
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公开(公告)号：CN102681352B
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201210056867.X
申请日：2012-03-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 , J·J·奥坦斯 , E·J·M·尤森 , J·H·W·雅各布斯 , W·P·范德兰特 , F·斯塔尔斯 , L·J·曼彻特 , E·W·博高特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70833 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。衬底台参考元件在基本上平行于衬底台上的衬底的保持平面的测量平面内延伸。保持平面布置在测量平面的一侧并且第一传感器头布置在测量平面的相对侧。投影系统位置测量系统包括一个或多个投影系统参考元件和传感器组件。传感器头和传感器组件或相关的投影系统测量元件安装在传感器框架上。
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公开(公告)号：CN100549834C
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200610126728.4
申请日：2006-09-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： W·O·普里尔 , E·J·M·尤森 , E·A·F·范德帕斯奇
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775
Abstract: 本发明描述了用于测量目标位置的位置测量系统，该系统包括：第一增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距中第一间距步长的第一数量，其中所述第一数量等于第一整数值加第一小数部分，以及第二增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距中第二间距步长的第二数量，其中所述第二数量等于第二整数值加第二小数部分，其中所述位置测量系统构造和布置成根据第一数量和第二小数部分初始化第二增量测量单元。
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公开(公告)号：CN101487979A
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200810191143.X
申请日：2008-11-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： W·H·G·A·考恩 , E·J·M·尤森 , E·A·F·范德帕斯卡
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70508 , G03F7/7085
Abstract: 本发明公开了一种工作台系统、包括该工作台系统的光刻设备及一种校正方法。在本发明中，测量工作台位置的位置测量系统包括：参考板；多个传感器，其被设置成依据工作台相对于参考板的位置，多个传感器的至少一个子集与参考板协作，为子集内的每个传感器提供分别代表各个传感器相对于参考板的位置的各个传感器信号；和用来从传感器信号确定工作台位置的处理器，其配置成当工作台处于这样一个位置时，即在该位置上，由与参考板协作的传感器的至少一个子集提供超过确定用数目的传感器信号，(a)从超过确定用数目的传感器信号的子集确定工作台位置，并且(b)由确定的工作台位置与剩余的传感器信号之间的偏差，校正一个或多个传感器的传感器信号。
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