公开(公告)号：CN107710076B

公开(公告)日：2020-09-18

申请号：CN201680034671.7

申请日：2016-04-18

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·J·M·巴塞曼斯 ,  P·B·A·德巴克 ,  N·范鲁瑟 ,  G·艾姆波内特 ,  R·J·W·斯塔斯 ,  C·考尔 ,  J·R·唐斯

IPC: G03F7/20 ,  G01M11/02

Abstract: 一种方法，包括：照射包括多个图案化区(15a‑15c)的图案形成装置(MA')，各图案化区使测量射束(17a‑17c)图案化；用投影系统(PL)将测量射束投影到包括多个检测器区(25a‑25c)的传感器设备(21)上；当图案形成装置和传感器设备被定位处于第一相对配置时进行辐射的第一测量；使图案形成装置和传感器设备中的至少一个移动以便将图案形成装置的相对配置改变为第二相对配置；当图案形成装置和传感器设备被定位处于第二相对配置时进行辐射的第二测量，在第二相对配置中多个检测器区中的至少一些接收与在第一相对配置中在相应检测器区处接收到的测量射束不同的测量射束；和确定由投影系统引起的像差。

公开(公告)号：CN107710076A

公开(公告)日：2018-02-16

申请号：CN201680034671.7

申请日：2016-04-18

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·J·M·巴塞曼斯 ,  P·B·A·德巴克 ,  N·范鲁瑟 ,  G·艾姆波内特 ,  R·J·W·斯塔斯 ,  C·考尔 ,  J·R·唐斯

IPC: G03F7/20 ,  G01M11/02

Abstract: 一种方法，包括：照射包括多个图案化区(15a-15c)的图案形成装置(MA')，各图案化区使测量射束(17a-17c)图案化；用投影系统(PL)将测量射束投影到包括多个检测器区(25a-25c)的传感器设备(21)上；当图案形成装置和传感器设备被定位处于第一相对配置时进行辐射的第一测量；使图案形成装置和传感器设备中的至少一个移动以便将图案形成装置的相对配置改变为第二相对配置；当图案形成装置和传感器设备被定位处于第二相对配置时进行辐射的第二测量，在第二相对配置中多个检测器区中的至少一些接收与在第一相对配置中在相应检测器区处接收到的测量射束不同的测量射束；和确定由投影系统引起的像差。