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公开(公告)号：CN101713929A
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200910178543.1
申请日：2009-09-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·T·P·考姆彭 , M·M·P·A·沃梅尤恩 , A·B·杰尤恩克 , E·R·鲁普斯卓 , J·J·奥腾斯 , P·斯密特斯 , H·J·M·凡阿毕伦 , A·A·梅尤恩迪杰克斯 , M·霍本 , R·W·A·H·理纳尔斯
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70775
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备包括：照射系统，其配置用于调节辐射束；支撑结构，其构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予所述辐射束，以形成图案化的辐射束；反射镜块，其设置有构造用以保持衬底的衬底台；和投影系统，其配置用以将所述图案化的辐射束投射到所述衬底的目标部分上，其中所述反射镜块构造并布置用以减小所述反射镜块和所述衬底台之间的滑动。如果反射镜块的加速度大且衬底台相对于反射镜块局部地滑动，会发生滑动。滑动会导致曝光误差，因为衬底的位置不再由所需的精确度来确定。
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公开(公告)号：CN111566565A
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201880085060.4
申请日：2018-11-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： W·F·J·西蒙斯 , D·布拉卡玛 , H·巴特勒 , H·H·M·考克西 , R·W·A·H·理纳尔斯 , S·C·Q·利布雷尔 , M·范杜伊霍温 , M·W·J·E·威吉克曼斯
Abstract: 本发明涉及一种定位系统，包括：第一致动器，在可移动体上施加致动力，所述第一致动器耦接至平衡质量块，所述平衡质量块被配置为吸收所述致动力所产生的反作用力，所述致动力提供所述可移动体的加速度，所述反作用力提供所述平衡质量块的加速度，其中，由所述可移动体的加速度产生的力与由所述平衡质量块的加速度产生的力一起产生平衡质量块转矩；平衡质量块支撑件，将所述平衡质量块支撑到框架上，所述平衡质量块支撑件在支撑位置处接合所述框架；和转矩补偿器；其中所述转矩补偿器施加补偿力以补偿所述平衡质量块转矩，和其中所述转矩补偿器在所述支撑位置处将所述补偿力施加到所述框架上。
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公开(公告)号：CN101713929B
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN200910178543.1
申请日：2009-09-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·T·P·考姆彭 , M·M·P·A·沃梅尤恩 , A·B·杰尤恩克 , E·R·鲁普斯卓 , J·J·奥腾斯 , P·斯密特斯 , H·J·M·凡阿毕伦 , A·A·梅尤恩迪杰克斯 , M·霍本 , R·W·A·H·理纳尔斯
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70775
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备包括：照射系统，其配置用于调节辐射束；支撑结构，其构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予所述辐射束，以形成图案化的辐射束；反射镜块，其设置有构造用以保持衬底的衬底台；和投影系统，其配置用以将所述图案化的辐射束投射到所述衬底的目标部分上，其中所述反射镜块构造并布置用以减小所述反射镜块和所述衬底台之间的滑动。如果反射镜块的加速度大且衬底台相对于反射镜块局部地滑动，会发生滑动。滑动会导致曝光误差，因为衬底的位置不再由所需的精确度来确定。
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