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公开(公告)号：CN114430875B
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202080061680.1
申请日：2020-08-20
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： 彼得·马克西米兰·戈茨 , 塞巴斯蒂安·托马斯·鲍尔思科米特 , 帕特里克·塞巴斯蒂安·于贝尔 , 罗纳德·弗兰西斯克斯·赫尔曼·休格斯 , J·A·波尔 , E·J·C·博斯 , A·J·A·布朗兹 , V·普洛斯因特索夫 , 保罗·威廉·斯科尔特斯-范埃克 , 鲍拉斯·安东尼斯·安德里亚斯·特尤尼森 , M·U·阿杰盖恩卡尔
IPC: H01S3/00 , H01S3/0804 , G01B11/27 , G01J1/04 , G01J1/42 , G01M11/00 , G03F7/20 , G02B1/00 , G02B6/02 , G02B6/42 , G02F1/365
Abstract: 公开了一种用于控制包括光子晶体光纤(PCF)的宽带光源的输出模式的模式控制系统和方法。模式控制系统包括：至少一个检测单元，被配置为测量从宽带光源发射的辐射的一个或多个参数以生成测量数据；和处理单元，被配置为通过所述测量数据评估从宽带光源发射的所述辐射的模式纯度。基于所述评估，所述模式控制系统被配置为生成用于优化所述宽带光源的一个或多个泵浦耦合条件的控制信号。所述泵浦耦合条件与泵浦激光束相对于所述光子晶体光纤的光纤芯部的所述耦合相关。
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公开(公告)号：CN114430875A
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN202080061680.1
申请日：2020-08-20
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： 彼得·马克西米兰·戈茨 , 塞巴斯蒂安·托马斯·鲍尔思科米特 , 帕特里克·塞巴斯蒂安·于贝尔 , 罗纳德·弗兰西斯克斯·赫尔曼·休格斯 , J·A·波尔 , E·J·C·博斯 , A·J·A·布朗兹 , V·普洛斯因特索夫 , 保罗·威廉·斯科尔特斯-范埃克 , 鲍拉斯·安东尼斯·安德里亚斯·特尤尼森 , M·U·阿杰盖恩卡尔
IPC: H01S3/00 , H01S3/08 , G01B11/27 , G01J1/04 , G01J1/42 , G01M11/00 , G03F7/20 , G02B1/00 , G02B6/02 , G02B6/42 , G02F1/365
Abstract: 公开了一种用于控制包括光子晶体光纤(PCF)的宽带光源的输出模式的模式控制系统和方法。模式控制系统包括：至少一个检测单元，被配置为测量从宽带光源发射的辐射的一个或多个参数以生成测量数据；和处理单元，被配置为通过所述测量数据评估从宽带光源发射的所述辐射的模式纯度。基于所述评估，所述模式控制系统被配置为生成用于优化所述宽带光源的一个或多个泵浦耦合条件的控制信号。所述泵浦耦合条件与泵浦激光束相对于所述光子晶体光纤的光纤芯部的所述耦合相关。
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公开(公告)号：CN116057462A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202180053608.9
申请日：2021-08-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·C·崔佛斯 , F·贝里 , M·C·布拉姆斯 , A·J·A·布朗司 , 罗纳德·弗兰西斯克斯·赫尔曼·休格斯
IPC: G02F1/01
Abstract: 一种宽带辐射源装置，包括光纤组件，所述光纤组件包括多个光纤，每个光纤填充有气体介质；其中所述宽带辐射源装置能够操作以使得能够独立地选择光纤的子集以用于接收输入辐射束，以便在任一时间仅从所述多个光纤的子集产生宽带输出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113424106B
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202080014088.6
申请日：2020-01-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 保罗·威廉·斯科尔特斯-范埃克 , 罗纳德·弗兰西斯克斯·赫尔曼·休格斯
Abstract: 公开了一种用于光刻制造工艺中的量测设备。该量测设备包括辐射源，该辐射源包括具有分裂成多个光学路径的输出的驱动激光器，所述多个光学路径中的每个都包括各自的宽带光产生器。该量测设备还包括：照射光学器件，所述照射光学器件用于照射结构；至少一个检测系统，所述至少一个检测系统用于检测已经由所述结构散射的散射辐射；以及处理器，所述处理器用于根据所述散射辐射确定所述结构的感兴趣的参数。
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公开(公告)号：CN114303102A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202080061133.3
申请日：2020-08-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 倪永锋 , 罗纳德·弗兰西斯克斯·赫尔曼·休格斯 , A·J·A·布朗
Abstract: 一种用于准直宽带辐射的组件，组件包括：凸折射单透镜，该凸折射单透镜具有用于将宽带辐射耦合到透镜的第一球形表面和用于将宽带辐射耦合出透镜的第二球形表面，其中第一球形表面和第二球形表面具有共同中心；以及安装部，用于在多个接触点处保持凸折射单透镜，该多个接触点的形心与共同中心重合。
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公开(公告)号：CN118567194A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410707349.2
申请日：2020-08-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 倪永锋 , 罗纳德·弗兰西斯克斯·赫尔曼·休格斯 , A·J·A·布朗
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于准直宽带辐射的组件，组件包括：凸折射单透镜，该凸折射单透镜具有用于将宽带辐射耦合到透镜的第一球形表面和用于将宽带辐射耦合出透镜的第二球形表面，其中第一球形表面和第二球形表面具有共同中心；以及安装部，用于在多个接触点处保持凸折射单透镜，该多个接触点的形心与共同中心重合。
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公开(公告)号：CN114303102B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202080061133.3
申请日：2020-08-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 倪永锋 , 罗纳德·弗兰西斯克斯·赫尔曼·休格斯 , A·J·A·布朗
Abstract: 一种用于准直宽带辐射的组件，组件包括：凸折射单透镜，该凸折射单透镜具有用于将宽带辐射耦合到透镜的第一球形表面和用于将宽带辐射耦合出透镜的第二球形表面，其中第一球形表面和第二球形表面具有共同中心；以及安装部，用于在多个接触点处保持凸折射单透镜，该多个接触点的形心与共同中心重合。
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公开(公告)号：CN113424106A
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202080014088.6
申请日：2020-01-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 保罗·威廉·斯科尔特斯-范埃克 , 罗纳德·弗兰西斯克斯·赫尔曼·休格斯
Abstract: 公开了一种用于光刻制造工艺中的量测设备。该量测设备包括辐射源，该辐射源包括具有分裂成多个光学路径的输出的驱动激光器，所述多个光学路径中的每个都包括各自的宽带光产生器。该量测设备还包括：照射光学器件，所述照射光学器件用于照射结构；至少一个检测系统，所述至少一个检测系统用于检测已经由所述结构散射的散射辐射；以及处理器，所述处理器用于根据所述散射辐射确定所述结构的感兴趣的参数。
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