公开(公告)号：CN114080569A

公开(公告)日：2022-02-22

申请号：CN202080048483.6

申请日：2020-07-06

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

Inventor： N·梅塔 ,  J·科塔尔 ,  帕特里克·华纳 ,  M·范德斯卡 ,  M·G·M·M·范卡拉埃吉 ,  H·A·J·克瑞姆 ,  O·V·兹维尔

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/42

Abstract: 公开了一种图案形成装置和使用该图案形成装置进行图案化的辅助衬底，该图案形成装置用于将产品结构图案化到衬底上。该图案形成装置包括目标图案化元件，其用于图案化至少一个目标，从至少一个目标能够推断感兴趣参数。目标图案化元件和用于图案化产品结构的产品图案化元件。目标图案化元件和产品图案化元件被配置为使得所述至少一个目标具有至少一个边界，该至少一个边界既不平行也不垂直于所述衬底上的所述产品结构。

公开(公告)号：CN112639621A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN201980057270.7

申请日：2019-08-01

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： D·M·斯劳特布姆 ,  H·T·海梅里克斯 ,  J·罗伊萨里瓦斯 ,  J·科塔尔

IPC: G03F7/20

Abstract: 根据本发明的一方面，提供一种对横跨用于将图案曝光至衬底上的图案形成装置扫描光子束或粒子束的步骤进行配置的方法，其中所述方法包括：确定被配置成改善所述曝光的品质的图案化校正的空间分辨率；和基于所确定的所述图案化校正的空间分辨率来确定所述束的空间尺寸。

公开(公告)号：CN112639621B

公开(公告)日：2025-03-04

申请号：CN201980057270.7

申请日：2019-08-01

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： D·M·斯劳特布姆 ,  H·T·海梅里克斯 ,  J·罗伊萨里瓦斯 ,  J·科塔尔

IPC: G03F7/20

Abstract: 根据本发明的一方面，提供一种对横跨用于将图案曝光至衬底上的图案形成装置扫描光子束或粒子束的步骤进行配置的方法，其中所述方法包括：确定被配置成改善所述曝光的品质的图案化校正的空间分辨率；和基于所确定的所述图案化校正的空间分辨率来确定所述束的空间尺寸。

公开(公告)号：CN114902139A

公开(公告)日：2022-08-12

申请号：CN202080088308.X

申请日：2020-11-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H-K·尼恩惠斯 ,  T·J·克嫩 ,  S·B·罗博尔 ,  J·科塔尔 ,  S·I·马萨瓦特 ,  N·基鹏 ,  S·C·斯科尔茨 ,  C·L·波特

IPC: G03F7/20 ,  G01N21/95 ,  G06N20/00

Abstract: 公开了一种量测方法。方法包括：将辐射照射到衬底上；获得与衬底上的一个或多个结构中的每个结构的至少一个测量值相关的测量数据；使用傅里叶相关变换将测量数据变换为经变换的测量数据；以及从经变换的测量数据提取衬底的特征或者消除妨害性参数的影响。

公开(公告)号：CN114651214A

公开(公告)日：2022-06-21

申请号：CN202080077676.4

申请日：2020-10-20

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·赖宁克 ,  J·科塔尔 ,  S·N·L·多纳斯 ,  谢特·泰门·范德波斯特

IPC: G03F7/20 ,  G01B11/27 ,  G01N21/956

Abstract: 用于使用从辐射源(100)发射并且被引导到衬底(300)上的源辐射来测量所述衬底(300)的一个或更多个参数的设备和方法。所述设备包括至少一个反射元件(710a)和至少一个检测器(720，721)。所述至少一个反射元件被配置成接收由所述源辐射从所述衬底的反射所产生的反射辐射，并且还将所述反射辐射反射成另外的反射辐射。至少一个检测器被配置成用于对所述另外的反射辐射进行测量，以用于确定至少所述源辐射和/或所述衬底的对准。

公开(公告)号：CN108369390B

公开(公告)日：2021-05-18

申请号：CN201680073173.3

申请日：2016-11-17

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： B·范霍夫 ,  J·科塔尔

IPC: G03F9/00

Abstract: 描述了一种平台和水平传感器的组合，配置成感测物体上的目标部位(T)处的高度水平，所述平台包括：配置成保持物体的物体台；和定位装置，该定位装置用于沿第一方向(Y)相对于水平传感器移位所述物体台，所述水平传感器包括：投影系统，配置成将测量束(820)投影到所述物体的测量区域上，所述测量区域具有沿所述第一方向的测量区域长度(L)；检测器系统(850)，配置成在所述测量束的不同部分被测量区域内的不同子区域反射离开之后接收所述测量束的不同部分(P11、P12、P21、P22、P31、P32)，所述不同子区域沿所述第一方向布置，并且配置成提供代表所接收的不同部分的输出信号；信号处理系统(890)，配置成处理来自所述检测器系统的输出信号。

公开(公告)号：CN108369390A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201680073173.3

申请日：2016-11-17

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： B·范霍夫 ,  J·科塔尔

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7034 ,  G03F9/7092

Abstract: 描述了一种平台和水平传感器的组合，配置成感测物体上的目标部位(T)处的高度水平，所述平台包括：配置成保持物体的物体台；和定位装置，该定位装置用于沿第一方向(Y)相对于水平传感器移位所述物体台，所述水平传感器包括：投影系统，配置成将测量束(820)投影到所述物体的测量区域上，所述测量区域具有沿所述第一方向的测量区域长度(L)；检测器系统(850)，配置成在所述测量束的不同部分被测量区域内的不同子区域反射离开之后接收所述测量束的不同部分(P11、P12、P21、P22、P31、P32)，所述不同子区域沿所述第一方向布置，并且配置成提供代表所接收的不同部分的输出信号；信号处理系统(890)，配置成处理来自所述检测器系统的输出信号。