图案检查方法及装置、光掩模制造方法以及图案转印方法

    公开(公告)号:CN101799433B

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201010113612.3

    申请日:2010-02-05

    Abstract: 图案检查方法及装置、光掩模制造方法以及图案转印方法。本发明的课题是提供适于简单且快速地检查光掩模有无图案不均的图案检查方法。作为解决手段,本发明的图案检查方法包括以下步骤:照射步骤,利用预定的光束照射重复图案;傅里叶变换像检测步骤,检测傅里叶变换像,该傅里叶变换像与通过光束照射重复图案而产生的衍射光对应;以及图案不均判定步骤,根据检测出的傅里叶变换像,判定光掩模有无图案不均,其中,在傅里叶变换像检测步骤中,以使得与光掩模的图案不均对应的傅里叶变换像和与正常图案对应的傅里叶变换像在空间上分离的方式,对与衍射光中的预定的高次衍射光对应的傅里叶变换像进行检测。

    图案检查方法及装置、光掩模制造方法以及图案转印方法

    公开(公告)号:CN101799433A

    公开(公告)日:2010-08-11

    申请号:CN201010113612.3

    申请日:2010-02-05

    Abstract: 图案检查方法及装置、光掩模制造方法以及图案转印方法。本发明的课题是提供适于简单且快速地检查光掩模有无图案不均的图案检查方法。作为解决手段,本发明的图案检查方法包括以下步骤:照射步骤,利用预定的光束照射重复图案;傅里叶变换像检测步骤,检测傅里叶变换像,该傅里叶变换像与通过光束照射重复图案而产生的衍射光对应;以及图案不均判定步骤,根据检测出的傅里叶变换像,判定光掩模有无图案不均,其中,在傅里叶变换像检测步骤中,以使得与光掩模的图案不均对应的傅里叶变换像和与正常图案对应的傅里叶变换像在空间上分离的方式,对与衍射光中的预定的高次衍射光对应的傅里叶变换像进行检测。

    光掩模的制造方法、光掩模、图形转印方法

    公开(公告)号:CN1238764C

    公开(公告)日:2006-01-25

    申请号:CN02123090.0

    申请日:2002-06-13

    Inventor: 东文明

    CPC classification number: G03F1/50 G03F7/70383 Y10S430/146

    Abstract: 本发明提供一种光掩模制造方法。根据该方法,可获得重复图形区域中形状等均匀性高、斑纹少的灰调掩模。而且可减少描绘数据的容量。该方法包含用沿描绘装置的头的扫描方向(Y方向)的规定扫描单位和沿与扫描方向垂直的方向(X方向)的规定进给单位进行描绘的描绘工序,其特征在于,所述光掩模的图形包含重复图形,所述描绘工序包含下述工序:对包含相同重复图形的图形单位(例如像素单位20),用分别相同的进给条件描绘各图形单位(例如把格栅的头17a与各描绘单位20的左端对齐以便总是从各描绘单位20的左端开始描绘)。

Patent Agency Ranking