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公开(公告)号：CN101799433B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201010113612.3
申请日：2010-02-05
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G01N21/956 , G03F1/84
Abstract: 图案检查方法及装置、光掩模制造方法以及图案转印方法。本发明的课题是提供适于简单且快速地检查光掩模有无图案不均的图案检查方法。作为解决手段，本发明的图案检查方法包括以下步骤：照射步骤，利用预定的光束照射重复图案；傅里叶变换像检测步骤，检测傅里叶变换像，该傅里叶变换像与通过光束照射重复图案而产生的衍射光对应；以及图案不均判定步骤，根据检测出的傅里叶变换像，判定光掩模有无图案不均，其中，在傅里叶变换像检测步骤中，以使得与光掩模的图案不均对应的傅里叶变换像和与正常图案对应的傅里叶变换像在空间上分离的方式，对与衍射光中的预定的高次衍射光对应的傅里叶变换像进行检测。
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公开(公告)号：CN102628804A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201210020423.0
申请日：2012-01-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供-种透射率测定装置和透射率测定方法，能够抑制由于内部反射光而导致的误差并高精度地对测定对象区域的透射率进行测定。透射率测定装置由以下部件构成：光源装置，其射出被检光；第-光学系统，其会聚该被检光并在测定对象上形成点；第二光学系统，其对透射过测定对象的被检光进行会聚，形成点的共轭像；光圈，其配置在共轭像的形成位置附近；以及光检测单元，其对透射过光圈的被检光进行检测。
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公开(公告)号：CN102628804B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201210020423.0
申请日：2012-01-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供?种透射率测定装置和透射率测定方法，能够抑制由于内部反射光而导致的误差并高精度地对测定对象区域的透射率进行测定。透射率测定装置由以下部件构成：光源装置，其射出被检光；第?光学系统，其会聚该被检光并在测定对象上形成点；第二光学系统，其对透射过测定对象的被检光进行会聚，形成点的共轭像；光圈，其配置在共轭像的形成位置附近；以及光检测单元，其对透射过光圈的被检光进行检测。
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公开(公告)号：CN101799433A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010113612.3
申请日：2010-02-05
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G01N21/956 , G03F1/00
Abstract: 图案检查方法及装置、光掩模制造方法以及图案转印方法。本发明的课题是提供适于简单且快速地检查光掩模有无图案不均的图案检查方法。作为解决手段，本发明的图案检查方法包括以下步骤：照射步骤，利用预定的光束照射重复图案；傅里叶变换像检测步骤，检测傅里叶变换像，该傅里叶变换像与通过光束照射重复图案而产生的衍射光对应；以及图案不均判定步骤，根据检测出的傅里叶变换像，判定光掩模有无图案不均，其中，在傅里叶变换像检测步骤中，以使得与光掩模的图案不均对应的傅里叶变换像和与正常图案对应的傅里叶变换像在空间上分离的方式，对与衍射光中的预定的高次衍射光对应的傅里叶变换像进行检测。
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