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公开(公告)号：CN1879005A
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN200480033048.7
申请日：2004-11-17
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G01B11/30
CPC classification number: G03F1/84 , G01N21/956 , G01N2021/95676
Abstract: 一种图形的不匀缺陷检查方法和装置，其能高精度检查在被检查体表面所形成图形上产生的多种不匀缺陷。不匀缺陷检查装置(10)具有：光源(12)，其对表面具备有单位图形(53)有规律排列的重复图形(51)的光掩膜(50)进行光照射；感光部(13)，其接受来自所述光掩膜的散射光并把它转换成感光数据，本方法和装置观察该感光数据并检查所述重复图形上产生的不匀缺陷，其特征在于：具有从多个波段的光中选择抽取一个或多个希望波段光的波长滤波器(14)，并使用该选择抽取的波段的光来检查所述重复图形的不匀缺陷。
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公开(公告)号：CN101046624A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200710089091.0
申请日：2007-03-29
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口升
IPC: G03F1/00 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 一种图案缺陷检查装置(10)，其检查表面具备单位图案规则排列而构成的重复图案的光掩模(50)的所述重复图案上产生的缺陷，所述图案缺陷检查装置(10)具有：光源装置(12)，其以期望的入射角向光掩模(50)的分割检查区域(58)照射光；载物台，其具备支承所述光掩模的支承面；观察装置(13)，其接受来自所述光掩模的重复图案的n次衍射光；旋转装置(16)，其为了从不同的方向向所述光掩模照射光，而使光源装置的准直透镜(19)在与载物台的支承面平行的面内旋转规定角度。
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公开(公告)号：CN101339360B
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200810002122.9
申请日：2008-01-15
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/00 , G01N21/956 , G01N21/88
Abstract: 本发明提供一种图案缺陷检查方法，对具备单位图案周期性排列而成的重复图案的被检查体的、产生于所述重复图案中的缺陷进行检查，其中，具有：对所述重复图案以规定的入射角照射光而产生衍射光的工序；对来自所述重复图案的衍射光进行受光而成像的工序；通过对使所述衍射光成像后的图像进行观察，而检测产生于所述重复图案上的缺陷的工序。在对所述衍射光进行受光而成像的工序中，对来自所述重复图案的衍射光中绝对值为45级～1600级的超高级衍射光进行受光。
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公开(公告)号：CN101339360A
公开(公告)日：2009-01-07
申请号：CN200810002122.9
申请日：2008-01-15
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/00 , G01N21/956 , G01N21/88
Abstract: 本发明提供一种图案缺陷检查方法，对具备单位图案周期性排列而成的重复图案的被检查体的、产生于所述重复图案中的缺陷进行检查，其中，具有：对所述重复图案以规定的入射角照射光而产生衍射光的工序；对来自所述重复图案的衍射光进行受光而成像的工序；通过对使所述衍射光成像后的图像进行观察，而检测产生于所述重复图案上的缺陷的工序。在对所述衍射光进行受光而成像的工序中，对来自所述重复图案的衍射光中绝对值为45级～1600级的超高级衍射光进行受光。
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公开(公告)号：CN100573042C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200480033048.7
申请日：2004-11-17
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G01B11/30
CPC classification number: G03F1/84 , G01N21/956 , G01N2021/95676
Abstract: 一种图形的不匀缺陷检查方法和装置，其能高精度检查在被检查体表面所形成图形上产生的多种不匀缺陷。不匀缺陷检查装置(10)具有：光源(12)，其对表面具备有单位图形(53)有规律排列的重复图形(51)的光掩模(50)进行光照射；感光部(13)，其接受来自所述光掩模的散射光并把它转换成感光数据，本方法和装置观察该感光数据并检查所述重复图形上产生的不匀缺陷，其特征在于：具有从多个波段的光中选择抽取一个或多个希望波段光的波长滤波器(14)，并使用该选择抽取的波段的光来检查所述重复图形的不匀缺陷。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101275920A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810086585.8
申请日：2008-03-20
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口升
IPC: G01N21/956 , G03F1/00
Abstract: 提供一种图案缺陷检查方法，对具备单位图案被周期性排列的重复图案的被检查体的，在重复图案产生的缺陷进行检查，其中，其具备：以规定的入射角将光照射向重复图案，产生衍射光的工序；接收来自重复图案的衍射光并使其成像的工序；以及通过观察使衍射光成像后的像，检测出在重复图案产生的缺陷的工序，单位图案的排列间距为1μm～8μm。
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公开(公告)号：CN101046625A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200710091454.4
申请日：2007-03-30
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口升
IPC: G03F1/00 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种缺陷检查方法，所述缺陷检查方法适于检查在光掩模(50)的主要图案(56)中产生的缺陷。主要图案(56)包括其中周期性排列有单元图案的重复图案。所述方法与主要图案(56)的形成同时形成用于检查的辅助图案(57)。辅助图案(57)包括其周期不同于主要图案(56)的周期的重复图案(51)。所述方法将光线以预定的入射角辐射到辅助图案(57)上，并由观察设备接收由辅助图案(57)所产生的衍射光以检测辅助图案(57)的缺陷，从而确定主要图案(56)的缺陷的存在。
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公开(公告)号：CN101046625B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN200710091454.4
申请日：2007-03-30
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口升
Abstract: 本发明提供一种缺陷检查方法，所述缺陷检查方法适于检查在制造显示装置基板的光掩模或者显示装置基板中的光掩模(50)的主要图案(56)中产生的缺陷。主要图案包括其中周期性排列有单元图案的重复图案。在除所述主要图案之外的区域内与通过激光束扫描来刻画所述主要图案同时形成用于检查的辅助图案，由此在刻画所述主要图案中出现的位置或线宽的改变以相同的改变量出现在所述辅助图案中。辅助图案的周期小于主要图案的周期。所述方法将光线以预定的入射角辐射到辅助图案上，并由观察设备接收由辅助图案所产生的衍射光以检测所述辅助图案的刻画过程中所述改变的出现，从而确定主要图案的缺陷的存在。
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公开(公告)号：CN101046624B
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：CN200710089091.0
申请日：2007-03-29
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口升
IPC: G03F1/00 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 一种图案缺陷检查装置(10)，其检查表面具备单位图案规则排列而构成的重复图案的光掩模(50)的所述重复图案上产生的缺陷，所述图案缺陷检查装置(10)具有：光源装置(12)，其以期望的入射角向光掩模(50)的分割检查区域(58)照射光；载物台，其具备支承所述光掩模的支承面；观察装置(13)，其接受来自所述光掩模的重复图案的n次衍射光；旋转装置(16)，其为了从不同的方向向所述光掩模照射光，而使光源装置的准直透镜(19)在与载物台的支承面平行的面内旋转规定角度。
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公开(公告)号：CN1940540A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610154371.0
申请日：2006-09-26
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G01N21/956 , H01L21/66 , H01L21/027 , G01R31/26 , G03F7/20
CPC classification number: G01N21/956 , G01N21/8806 , G01N2021/95676 , G03F1/84 , H01L21/67294
Abstract: 一种用于检查具有重复图案的被检查目标的不规则缺陷检查装置，以检测在重复图案中出现的不规则缺陷，所述重复图案包括在其表面上规则设置的单元图案。该装置包括光源装置，所述光源装置具有光源，所述光源用于将光以期望的入射角施加至包括被检查目标的检查区域在内的区域；以及观察装置，所述观察装置具有光接收光学系统，所述光接收光学系统用于在所述光源装置施加光时，接收从与其垂直的被检查目标的检查表面产生的光。该光源装置光源，该光源设有具有2度或更小的平行度、以及300000Lx或更高的亮度。
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