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公开(公告)号：CN108242470B
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN201711346582.9
申请日：2017-12-15
Applicant: IMEC 非营利协会
IPC: H01L29/78 , H01L21/336 , B82Y30/00 , B82Y40/00
Abstract: 一种形成水平纳米线的方法，该方法包括提供基板，所述基板包括电介质层和鳍结构，所述鳍结构包括从电介质层突出的部分，所述突出的部分是部分未掩蔽的，且包含由第一材料层交替且重复地与第二材料层叠置构成的多层堆叠；通过进行一个循环来形成水平纳米线，所述循环包括选择性除去第一材料，直到第二材料的水平纳米线悬浮在部分未掩蔽的突出部分的剩余部分上方，在该剩余部分上形成牺牲层，同时保持悬浮的水平纳米线未被覆盖，在悬浮的水平纳米线上选择性设置覆盖层，然后除去牺牲层。水平纳米线从顶部开始悬浮，在底部水平纳米线悬浮后除去覆盖层。
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