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公开(公告)号：CN107924144A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680047867.X
申请日：2016-08-10
Applicant: LTC有限公司
IPC: G03F7/42 , H01L21/311 , H01L21/02
Abstract: 本发明涉及一种用于LCD制造的光刻胶剥离剂组合物,以及一种能够用于制造一种TFT-LCD的所有过程的集成光刻胶剥离剂组合物。更具体地，本发明涉及一种水性光刻胶剥离剂组合物，其能够应用于所有过渡金属、电位金属和氧化物半导体电线中。所述的水性光刻胶剥离剂组合物包括(a)一种电位金属和金属氧化物缓蚀剂、(b)一种过渡金属缓蚀剂、(c)一种伯烷醇胺、(d)一种环醇、(e)水、(f)一种非质子极性有机溶剂、和(g)一种质子极性有机溶剂，其中所述的光刻胶剥离剂组合物在半导体或平面显示面板过程中，有优异去除在进行硬烘烤工艺、注入工艺和干法蚀刻工艺后产生的降解的光刻胶的能力，可以同时应用于铝(其为电位金属)、铜或银(其为过渡金属)、和同样地，金属氧化物电线，并且可以被引入有机膜和COA工艺中。
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公开(公告)号：CN103608295B
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201280031464.8
申请日：2012-07-13
Applicant: LTC有限公司
CPC classification number: G02B5/0294 , B82Y30/00 , C01G25/00 , C01P2002/72 , C01P2004/03 , C01P2004/04 , C01P2004/64 , G02B5/0268 , H01L2933/0091 , Y10T428/24364
Abstract: 本发明公开一种无机细粒散射膜以及其制造方法，其中包含孔隙的无机细粒层是形成于发光装置界面或透明衬底上以便经由光散射效应实现高光提取效应，且平坦化层是形成于所述无机细粒层上以便显示高平度和高硬度。所述公开的无机细粒散射膜的光提取效应、平度以及硬度极佳且因此可应用于多种领域中，如影像显示装置、发光元件、太阳能电池。
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公开(公告)号：CN107924144B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201680047867.X
申请日：2016-08-10
Applicant: LTC有限公司
IPC: G03F7/42 , H01L21/311 , H01L21/02
Abstract: 本发明涉及一种用于LCD制造的光刻胶剥离剂组合物,以及一种能够用于制造一种TFT‑LCD的所有过程的集成光刻胶剥离剂组合物。更具体地，本发明涉及一种水性光刻胶剥离剂组合物，其能够应用于所有过渡金属、电位金属和氧化物半导体电线中。所述的水性光刻胶剥离剂组合物包括(a)一种电位金属和金属氧化物缓蚀剂、(b)一种过渡金属缓蚀剂、(c)一种伯烷醇胺、(d)一种环醇、(e)水、(f)一种非质子极性有机溶剂、和(g)一种质子极性有机溶剂，其中所述的光刻胶剥离剂组合物在半导体或平面显示面板过程中，有优异去除在进行硬烘烤工艺、注入工艺和干法蚀刻工艺后产生的降解的光刻胶的能力，可以同时应用于铝(其为电位金属)、铜或银(其为过渡金属)、和同样地，金属氧化物电线，并且可以被引入有机膜和COA工艺中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105658702B
公开(公告)日：2018-08-07
申请号：CN201580002310.X
申请日：2015-08-28
Applicant: LTC有限公司
IPC: C08G77/16 , G02F1/1333 , H01L27/32 , G03F7/004
CPC classification number: C08G77/04 , C08G77/14 , C08G77/18 , G02F1/133345 , G02F1/136227 , G02F2001/133357 , G02F2202/02 , G03F7/0045 , G03F7/0233 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0757 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2002 , G03F7/322 , H01L27/3246 , H01L27/3258 , H01L2227/323
Abstract: 本发明涉及液晶显示装置或有机电致发光显示装置用高耐热性倍半硅氧烷(Silsesquioxane)类感光性树脂组合物及由其制备而成的正性光致抗蚀剂绝缘膜,详细地涉及高耐热性,低介电特性的倍半硅氧烷感光性树脂组合物,可用于形成薄膜晶体管(TFT)的导通孔(via hole)的绝缘膜,并且同时可用作用于区别形成有机电致发光显示装置的像素的分区(bank)图案的绝缘膜。
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公开(公告)号：CN103608295A
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201280031464.8
申请日：2012-07-13
Applicant: LTC有限公司
IPC: C01G25/02 , B82B3/00 , H01L31/042 , B82Y30/00
CPC classification number: G02B5/0294 , B82Y30/00 , C01G25/00 , C01P2002/72 , C01P2004/03 , C01P2004/04 , C01P2004/64 , G02B5/0268 , H01L2933/0091 , Y10T428/24364
Abstract: 本发明公开一种无机细粒散射膜以及其制造方法，其中包含孔隙的无机细粒层是形成于发光装置界面或透明衬底上以便经由光散射效应实现高光提取效应，且平坦化层是形成于所述无机细粒层上以便显示高平度和高硬度。所述公开的无机细粒散射膜的光提取效应、平度以及硬度极佳且因此可应用于多种领域中，如影像显示装置、发光元件、太阳能电池。
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公开(公告)号：CN104662202B
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201380049569.0
申请日：2013-07-24
Applicant: LTC有限公司
CPC classification number: C11D11/0029 , C11D3/2003 , C11D3/2041 , C11D3/2068 , C11D7/3209 , C11D7/34 , C11D7/5004 , C11D7/5013 , C11D7/5022 , C11D11/0047 , C23C22/02 , C23C22/63 , C23F11/165 , C23G1/20 , H01L21/02068
Abstract: 本发明提供一种在制造半导体电路、有机发光二极管、LED或液晶显示器的过程中，去除形成在铜膜表面的氧化物，且不会引起更低层金属膜的腐蚀的方法。该组合物包括腐蚀性胺，可去除金属氧化物，这取决于范围为0.01‑10％的添加剂，而不论超纯水的含量为多少。当其同样含有水和0.01‑20％的添加剂时，除了腐蚀性胺以外，其它极性溶剂可有效去除金属表面的氧化物。
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公开(公告)号：CN105658702A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201580002310.X
申请日：2015-08-28
Applicant: LTC有限公司
IPC: C08G77/16 , G02F1/1333 , H01L27/32 , G03F7/004
CPC classification number: C08G77/04 , C08G77/14 , C08G77/18 , G02F1/133345 , G02F1/136227 , G02F2001/133357 , G02F2202/02 , G03F7/0045 , G03F7/0233 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0757 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2002 , G03F7/322 , H01L27/3246 , H01L27/3258 , H01L2227/323 , C08G77/80 , G03F7/004 , H01L27/32
Abstract: 本发明涉及液晶显示装置或有机电致发光显示装置用高耐热性倍半硅氧烷(Silsesquioxane)类感光性树脂组合物及由其制备而成的正性光致抗蚀剂绝缘膜，详细地涉及高耐热性，低介电特性的倍半硅氧烷感光性树脂组合物，可用于形成薄膜晶体管(TFT)的导通孔(via hole)的绝缘膜，并且同时可用作用于区别形成有机电致发光显示装置的像素的分区(bank)图案的绝缘膜。
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公开(公告)号：CN104662202A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201380049569.0
申请日：2013-07-24
Applicant: LTC有限公司
CPC classification number: C11D11/0029 , C11D3/2003 , C11D3/2041 , C11D3/2068 , C11D7/3209 , C11D7/34 , C11D7/5004 , C11D7/5013 , C11D7/5022 , C11D11/0047 , C23C22/02 , C23C22/63 , C23F11/165 , C23G1/20 , H01L21/02068
Abstract: 本发明提供一种在制造半导体电路、有机发光二极管、LED或液晶显示器的过程中，去除形成在铜膜表面的氧化物，且不会引起更低层金属膜的腐蚀的方法。该组合物包括腐蚀性胺，可去除金属氧化物，这取决于范围为0.01-10％的添加剂，而不论超纯水的含量为多少。当其同样含有水和0.01-20％的添加剂时，除了腐蚀性胺以外，其它极性溶剂可有效去除金属表面的氧化物。
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