公开(公告)号：CN107820520B

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201680037459.6

申请日：2016-06-28

Applicant: 国际壳牌研究有限公司

Inventor： J·L·W·C·登伯斯特尔特 ,  S·维杰南斯

IPC: C23G5/032 ,  C11D7/26 ,  C07C68/06 ,  C07C69/96

CPC classification number: C23G5/032 ,  C07C68/06 ,  C07C69/96 ,  C11D7/266 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0041

Abstract: 公开一种用于去除化学设备的油污的方法。用按溶剂的重量计，包括至少50wt％的碳酸二烷基酯的溶剂漂洗容器和工艺管线。

公开(公告)号：CN109790028A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201780062080.5

申请日：2017-10-05

Applicant: 富士胶片电子材料美国有限公司

Inventor： 朴起永 ,  E·A·克内尔 ,  T·多瑞 ,  高桥智威

IPC: C01B21/14 ,  C11D3/30 ,  C11D7/50

CPC classification number: C11D7/20 ,  C11D3/0042 ,  C11D7/06 ,  C11D7/10 ,  C11D7/261 ,  C11D7/263 ,  C11D7/264 ,  C11D7/266 ,  C11D7/3245 ,  C11D7/34 ,  C11D7/50 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02063

Abstract: 本发明关于清洁组合物，其含有1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种有机溶剂，其选自由水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯、及水溶性醚所组成的组；3)至少一种含金属的添加剂；及4)水。

公开(公告)号：CN108865523A

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201810878627.5

申请日：2018-08-03

Applicant: 天津普罗米新材料有限公司

Inventor： 张东伟

IPC: C11D7/60 ,  C11D7/50 ,  C11D7/24 ,  C11D7/26

CPC classification number: C11D7/5022 ,  C11D3/0073 ,  C11D7/24 ,  C11D7/263 ,  C11D7/266 ,  C11D11/0023 ,  C11D11/0029 ,  C11D11/0064 ,  C11D11/007

Abstract: 本发明公开了一种安全环保碳氢清洗剂，包括如下重量份的各组分：C10H22：55‑65％、C11H24：5‑10％、醇醚溶剂：8‑15％、酯类溶剂：5‑32％，其中所述醇醚溶剂包括二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二丙二醇丁醚、乙二醇丁醚中的一种或多种，所述酯类溶剂为乙酸甲酯、乙酸丁酯、己二酸二甲酯中的一种或多种。本发明的目的是提供一种安全环保碳氢清洗剂，能够替代卤代烃类清洗产品，具有良好的洗净能力，能彻底清除油污(如冲压油、切削油、压延油)、灰尘、沥青、积炭等各类污物，并且可以完全挥发，不含破坏臭氧物质，无毒无害对环境友好。

公开(公告)号：CN108701608A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780014217.X

申请日：2017-03-01

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 并木拓海 ,  原口高之 ,  施仁杰

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  C11D17/08 ,  H01L21/027

CPC classification number: C11D7/3209 ,  C11D7/5009 ,  C11D7/5013 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0047 ,  C11D17/08 ,  G03F7/42 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/31111

Abstract: 本发明提供尤其是将由含有硅原子的无机物形成的残余物或膜除去的洗涤性能优异、且闪点高的用于半导体基板或装置的洗涤液及洗涤方法。洗涤液，其是含有水溶性有机溶剂、季铵氢氧化物、及水的用于半导体基板或装置的洗涤液，该水溶性有机溶剂是闪点为60℃以上的二醇醚系溶剂或非质子性极性溶剂。洗涤方法，所述洗涤方法包括下述步骤：使用该洗涤液，从半导体基板或装置将在该半导体基板上形成的残余物或膜、或者在该装置上附着的残余物或膜进行洗涤，所述残余物或膜是由选自由抗蚀剂、及含有硅原子的无机物组成的组中的至少1种形成的。

公开(公告)号：CN108026492A

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201680052243.7

申请日：2016-08-04

Applicant: 弗萨姆材料美国有限责任公司

Inventor： R·L-K·常 ,  G·E·帕里斯 ,  陈秀美 ,  李翊嘉 ,  刘文达 ,  陈天牛 ,  L·M·马兹 ,  R·L·C·洛 ,  孟令人

IPC: C11D11/00 ,  C11D3/39 ,  C11D3/34 ,  C11D3/00

CPC classification number: C11D11/0047 ,  C11D3/0073 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/34 ,  C11D7/5009 ,  C11D7/5013 ,  C11D7/5022 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/31133 ,  H01L24/02 ,  H01L24/03 ,  H01L24/05 ,  H01L24/11 ,  H01L24/13 ,  H01L24/94 ,  H01L2224/02311 ,  H01L2224/0345 ,  H01L2224/03452 ,  H01L2224/03462 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05073 ,  H01L2224/05082 ,  H01L2224/05147 ,  H01L2224/05155 ,  H01L2224/05171 ,  H01L2224/05614 ,  H01L2224/05624 ,  H01L2224/05644 ,  H01L2224/05647 ,  H01L2224/05655 ,  H01L2224/05664 ,  H01L2224/05666 ,  H01L2224/05671 ,  H01L2224/05672 ,  H01L2224/11462 ,  H01L2224/1147 ,  H01L2224/1148 ,  H01L2224/1181 ,  H01L2224/13082 ,  H01L2224/13083 ,  H01L2224/131 ,  H01L2224/13111 ,  H01L2224/13124 ,  H01L2224/13144 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13155 ,  H01L2224/81191 ,  H01L2224/94 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01028 ,  H01L2924/014 ,  H01L2224/11 ,  H01L2924/01047

Abstract: 本文公开了用于剥离膜厚度为3‑150μm的光刻胶图案的光刻胶清洁组合物，其包含(a)季铵氢氧化物、(b)水溶性有机溶剂的混合物、(c)至少一种腐蚀抑制剂和(d)水，及用该光刻胶清洁组合物处理衬底的方法。

公开(公告)号：CN107868728A

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：CN201710889275.9

申请日：2017-09-27

Applicant: 荒川化学工业株式会社

Inventor： 西垣泰志 ,  井内洋介 ,  田中俊

IPC: C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  C11D7/60 ,  C11D7/12 ,  B08B3/08

CPC classification number: C11D7/263 ,  B08B3/08 ,  C11D7/12 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3227 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0023 ,  C11D11/0047

Abstract: 本发明提供共沸清洗剂及其再生方法、清洗方法以及清洗剂试剂盒。使用包含含有通式：R-O-CH2-CHX-O-H(式中，X表示氢原子时，R表示选自由甲基、乙基、正丙基、异丙基、异丁基、仲丁基和叔丁基组成的组中的基团，X表示甲基时，R表示选自由甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基和叔丁基组成的组中的基团)所示的二醇醚和水的共沸混合物的共沸清洗剂。

公开(公告)号：CN107530739A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680025763.9

申请日：2016-03-24

Applicant: 生命技术公司

Inventor： J.鲍尔 ,  P.瓦戈纳 ,  S.帕克

IPC: B08B3/08 ,  C11D3/16 ,  G01N27/414 ,  H01L21/02 ,  C11D7/50 ,  C11D11/00 ,  C11D3/43 ,  C11D1/22 ,  B08B9/08 ,  C11D7/34 ,  C11D3/34 ,  B05D3/00 ,  B05D5/12

CPC classification number: B08B3/08 ,  B05D3/00 ,  B05D5/12 ,  B08B9/08 ,  C11D1/22 ,  C11D3/162 ,  C11D3/3418 ,  C11D3/43 ,  C11D7/34 ,  C11D7/5013 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0047 ,  G01N27/414 ,  G01N27/4145 ,  G01N27/4148 ,  H01L21/02057

Abstract: 一种处理传感器阵列的方法，所述传感器阵列包括多个传感器，优选CHEMFET，以及隔离结构，其中所述多个传感器的一个传感器具有暴露在所述传感器阵列的表面处的传感器垫且所述隔离结构安置于所述传感器垫与所述多个传感器的其它传感器的传感器垫之间，所述方法包含使所述传感器垫和所述隔离结构暴露于包括有机硅化合物，优选聚二甲基硅氧烷(PDMS)和第一非水性载体的非水性有机硅溶液；将包括有机酸，优选十二烷基苯磺酸(DBSA)，以及第二非水性载体的酸溶液施加到所述传感器垫；以及从所述传感器垫和所述隔离结构冲洗所述酸溶液。

公开(公告)号：CN107338135A

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：CN201710424598.0

申请日：2017-06-07

Applicant: 常州凯奥机电科技有限公司

Inventor： 张晶 ,  杨阳 ,  孙冬

IPC: C11D7/10 ,  C11D7/50 ,  C11D7/60

CPC classification number: C11D7/5022 ,  C11D7/105 ,  C11D7/5027 ,  C11D11/0041

Abstract: 本发明公开了一种发动机积碳燃烧清洗剂，属于清洗剂技术领域。本发明首先以硅藻土、醋酸镍为原料，制得镍基催化剂，并催化轻质油在氢气氛围下反应制得加氢母液，再将加氢母液纯化、蒸馏处理，得碳氢油，随后将硝酸钾、亚硝酸钠、硝酸钠分别干燥后混磨过筛得复合粉料，再将乙醇、异丙醇等搅拌后加入苯并三氮唑、甲苯混合，得复合液料，最后与碳氢油、复合粉料混合过滤，收集滤液即可得发动机积碳燃烧清洗剂，本发明制得的清洗剂能够高效、彻底地清除发动机各部位顽固性积碳，使发动机恢复正常的功能，且本发明清洗剂腐蚀性极微，使用后不会对机动车零部件造成损伤，具有广阔的应用前景。

公开(公告)号：CN106967534A

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：CN201710217702.9

申请日：2017-04-05

Applicant: 国网四川省电力公司宜宾供电公司

Inventor： 谢光彬

IPC: C11D7/50 ,  C11D7/26 ,  C11D7/24 ,  C11D7/60 ,  B08B3/08

CPC classification number: C11D7/5022 ,  B08B3/08 ,  C11D3/227 ,  C11D7/244 ,  C11D7/247 ,  C11D7/266 ,  C11D11/0023

Abstract: 本发明公开了一种绝缘子串的清洁剂及其制备方法及清洁方法，所述绝缘子串的清洁剂按重量计，包括丁二烯10～100g，苯乙烯30～80g，丙烯酸酯40～90g，丙二醇甲醚醋酸酯10～20g，壳聚糖10～25g，足量水组成，解决了现有的清洁方式效率较低，清洁效果较差的技术问题，实现了清洁效率较高，清洁效果较好的技术效果。

公开(公告)号：CN106929227A

公开(公告)日：2017-07-07

申请号：CN201710113833.2

申请日：2017-02-28

Applicant: 苏州博洋化学股份有限公司

Inventor： 王国洪 ,  王润杰 ,  钱海书

IPC: C11D7/60 ,  C11D7/26 ,  C11D7/50

CPC classification number: C11D7/261 ,  C11D7/264 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0047

Abstract: 本发明属于化学制剂技术领域，涉及一种酒精混合溶剂，配方包括86.9～88.9wt％无水乙醇，9.5～10.9wt％异丙醇和余量的丁酮。本酒精混合溶剂相比普通的无水乙醇对电容焊接材料溶解度更高，而且溶解效率翻倍，非常适合电子工业等精密用途，具有相当好的市场竞争力。