一种真空炉
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105890345A

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201610380708.3

    申请日:2016-05-31

    Abstract: 本发明公开了一种真空炉,包括固定在操作箱的侧壁上的第一真空腔室、固定在操作箱的侧壁上的第二真空腔室、用于盖设第二真空腔室的腔盖。第二真空腔室容置于所述第一真空腔室内部;在第二真空腔室的内部设置有载物台,所述载物台上放置工件;而在所述第二真空腔室的外壁覆盖有密闭的加热腔室,在所述加热腔室内部设置有加热组件,所述加热组件沿所述第二真空腔室的外壁依次排列,用于对所述第二真空腔室进行加热,此结构可将加热组件和工件区分,进而避免加热组件对工件的污染,提高工件的质量。

    一种双温区开启式滑轨炉

    公开(公告)号:CN108151529A

    公开(公告)日:2018-06-12

    申请号:CN201711400523.5

    申请日:2017-12-22

    CPC classification number: F27B5/04 F27B5/02 F27B5/14 F27B5/16 F27B2005/169

    Abstract: 本发明提供一种双温区开启式滑轨炉,包括A炉、B炉、炉壳、真空气氛系统、温度控制系统和显示器,显示器设置在炉壳的中部,A炉和B炉均设置在炉壳内,A炉和B炉共用高纯度的石英管作为炉膛,石英管分别穿过A炉和B炉的加热腔,石英管的两端设置有用于密封炉膛的法兰,法兰的外侧设置有针阀,石英管的通气管道上还设置有真空压力表和扩展接口,A炉固定在B炉的一侧,B炉滑动设置在石英管上,A炉用于样品预热蒸发的工艺,B炉用于样品后续反应沉积的工艺,加热腔内的气体通过真空气氛系统控制形成反应气流,温度控制系统用于控制反应温度。本发明的方案能够使得周边拓展性好,加大对气体控制性。

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