-
公开(公告)号：CN109212912A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201711261402.7
申请日：2017-12-04
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: H01L27/0207 , G03F1/14 , G03F1/36 , G03F1/54 , G03F7/2002 , G03F7/70125 , G03F7/70283 , G03F7/70441 , G03F7/70566 , G03F7/70958 , G03F7/70325
Abstract: 半导体装置的制造方法包含在基底上方提供具有图案化的吸收层的光掩模，使用具有横向电(TE)波和横向磁(TM)波混合的光束照射光掩模，照射包含在图案化的吸收层的侧壁上产生表面等离子体电磁极化子(SPP)，表面等离子体电磁极化子用于抑制横向磁波，同时反射横向电波，将目标基底暴露于横向电波。
-
公开(公告)号：CN106133609B
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201580015584.2
申请日：2015-02-27
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： M.帕特拉
CPC classification number: G03F7/70025 , G03F7/70566 , H01S3/0903 , H01S4/00 , H05G2/00 , H05H7/04
Abstract: 本发明涉及一种用于微光刻投射曝光设备的照明装置的EUV光源，其中EUV光源具有用于产生电子束的电子源(110)、用于加速电子束的加速器单元(120)以及用于通过偏转电子束来产生EUV光的波动器布置(100)，其中，波动器布置(100)具有：第一波动器(101)，用于产生具有第一偏振状态的EUV光；以及至少一个第二波动器(102)，用于产生具有第二偏振状态的EUV光，其中第二偏振状态与第一偏振状态不同，其中所述第二波动器(102)沿电子束的传播方向布置在所述第一波动器(101)的下游，其中波动器布置(100)构造成其具有第一操作模式和至少一个第二操作模式，在第一操作模式中，第一波动器(101)关于EUV光的产生处于饱和，在至少一个第二操作模式中，第一波动器(101)关于EUV光的产生不处于饱和。
-
公开(公告)号：CN103842883B
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201280047616.3
申请日：2012-09-28
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70233 , G02B17/06 , G02B17/0663 , G03F7/7015 , G03F7/70566
Abstract: 一种反射式成像光学单元(7)，具有至少四个反射镜(M1至M4)，该反射镜将物平面(5)中的物场(4)成像于像平面(9)中的像场(8)中。利用中心物场点的主光线(16)在该反射镜之一(M1)处的反射期间的传播，指定该光学单元的第一主光线平面(yz)。利用中心物场点的主光线(16)在其它反射镜之一(M3、M4)处的反射期间的传播，指定该光学单元的第二主光线平面(xz)。这两个主光线平面(yz、xz)包括不同于0的角度。在一替代或附加方面，通过像场(8)考虑，该成像光学单元(7)具有最大衰减率(D)为10％或具有针对分别考虑的照明角优选切向偏振成像光的衰减率。这两个方面的结果是在成像光在成像光学单元反射镜处反射期间减少恼人的偏振影响的成像光学单元。
-
公开(公告)号：CN104246616B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201380020363.5
申请日：2013-03-26
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B5/3066 , G02B5/3075 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70566
Abstract: 本发明涉及一种尤其在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的光学系统，包含：至少一个偏振影响布置(100,200,...)，其具有第一反射表面(110,210,...)和第二反射表面(120,220,...)，其中该第一反射表面(110,210,...)和该第二反射表面(120,220,...)相对于彼此以0°±10°的角度或90°±10°的角度布置；其中在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面(110,210,...)上的光与该第一反射表面形成45°±5°的角度；及其中该偏振影响布置(100,200,...)可绕着旋转轴(A)旋转，该旋转轴平行于在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面(110,210,...)上的光的光传播方向延伸。
-
公开(公告)号：CN102033436B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201110020152.4
申请日：2006-04-27
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： 汉斯-于尔根.曼
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70233 , G02B27/286 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70566
Abstract: 本发明涉及一种微光刻投射系统，用于将物体平面中的物体投射成像平面中的图像。所述微光刻投射系统包括：第一镜、第二镜、第三镜、第四镜、第五镜、第六镜、第七镜和第八镜，这些镜位于从所述物体平面到所述像平面的光路中，其中所述投射系统具有清楚的出射光瞳，并且其中，所述第一镜、所述第二镜、所述第三镜、所述第四镜、所述第五镜、所述第六镜、所述第七镜、和所述第八镜中的每一个都具有占用空间，并且其中，所有占用空间在与所述投射系统的对称轴平行的方向上可延伸，而不会与所述投射系统的其它镜的任何占用空间互相交叉，且不会与在所述投射系统中从所述物体平面到所述像平面传播的光的光路互相交叉。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104169800A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201380013861.7
申请日：2013-03-05
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： I.桑格
CPC classification number: G02B26/0858 , G02B5/3066 , G02B19/0023 , G02B19/0095 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70191 , G03F7/70566
Abstract: 一种投射曝光设备的照明光学单元(25)，用于将照明光(16)引向照明场(5)，光刻掩模(7)可布置在照明场(5)中。第一分面反射镜(19)具有多个单独反射镜(26)，所述多个单独反射镜(26)提供将照明光部分束(16i)引向照明场(5)的照明通道。单独反射镜(26)各具有多层反射涂层。第二分面反射镜(20)在照明光(16)的光束路径中布置在第一分面反射镜(19)的下游。第二分面反射镜(20)的相应分面(35)连同第一分面反射镜(19)的单独反射镜(26)的至少一个一起使将照明光部分束(16i)引向照明场(5)的照明通道完整。单独反射镜(26)布置成使相应照明光部分束(16i)以入射角(I)入射于单独反射镜(26)上，由此限定入射平面。入射角(I)被预定成使入射平面中偏振的照明光(16)的反射率Rp与垂直于入射平面偏振的照明光(16)的反射率Rs之间的Rp/Rs比小于0.8。这导致照明可适用于在投射曝光期间获得最佳解析能力的照明光学单元。
-
公开(公告)号：CN103842883A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201280047616.3
申请日：2012-09-28
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70233 , G02B17/06 , G02B17/0663 , G03F7/7015 , G03F7/70566
Abstract: 一种反射式成像光学单元(7)，具有至少四个反射镜(M1至M4)，该反射镜将物平面(5)中的物场(4)成像于像平面(9)中的像场(8)中。利用中心物场点的主光线(16)在该反射镜之一(M1)处的反射期间的传播，指定该光学单元的第一主光线平面(yz)。利用中心物场点的主光线(16)在其它反射镜之一(M3、M4)处的反射期间的传播，指定该光学单元的第二主光线平面(xz)。这两个主光线平面(yz、xz)包括不同于0的角度。在一替代或附加方面，通过像场(8)考虑，该成像光学单元(7)具有最大衰减率(D)为10％或具有针对分别考虑的照明角优选切向偏振成像光的衰减率。这两个方面的结果是在成像光在成像光学单元反射镜处反射期间减少恼人的偏振影响的成像光学单元。
-
公开(公告)号：CN103777471A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201410019498.6
申请日：2008-10-23
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 谷津修
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G02B27/0927 , F21V9/14 , F21V13/02 , F21V14/003 , G02B27/0938 , G02B27/1086 , G02B27/126 , G02B27/286 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70566
Abstract: 一种照明光学设备具有光学单元(3)。所述光学单元具有：分光器(35)，用以使入射射束分裂成两个射束；第一空间光调制器(33)，其可布置于第一射束的光学路径中；第二空间光调制器(34)，其可布置于第二射束的光学路径中；和光组合器(36)，其将已通过所述第一空间光调制器的射束与已通过所述第二空间光调制器的射束组合；所述第一空间光调制器和所述第二空间光调制器中的每一者具有二维地布置且个别地被控制的多个光学元件(33a、34a)。
-
公开(公告)号：CN102549461A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080043764.9
申请日：2010-09-27
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70233 , G02B27/0905 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70566 , G21K1/06 , G21K1/16 , G21K2201/06 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 一种包括反射镜聚光器的照明光学单元，在该照明光学单元工作期间，该反射镜聚光器产生施加到第一分面光学元件的偏振分布，其中存在至少两个施加了具有不同偏振的辐射的第一分面元件，并且第一分面光学元件具有至少一个第一状态，在第一状态中，选择第一分面元件的反射表面的法向矢量，使得在该照明光学单元工作期间，在物场的位置处产生第一预定偏振分布。
-
公开(公告)号：CN101359215B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200810129467.0
申请日：2008-07-31
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 松原功
IPC: G03H1/08 , G03F7/20 , G02B27/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03H1/08 , G02B5/32 , G03F7/70108 , G03F7/70566 , G03H1/0244 , G03H1/0272 , G03H1/0891 , G03H1/2249 , G03H2001/0495 , G03H2001/2276 , G03H2210/20 , G03H2222/31 , G03H2223/20 , G03H2240/24 , G03H2240/41 , G03H2240/42 , G03H2240/43 , G03H2260/63 , G03H2270/52
Abstract: 本发明公开了一种计算机生成的全息图元件、曝光设备以及器件制造方法。本发明提供一种计算机生成的全息图元件，其通过向入射光的波阵面给出相位分布而在预定平面上形成光强分布，所述计算机生成的全息图元件包括：各向异性层，该各向异性层相对于第一方向上的线性偏振光的折射率不同于该各向异性层相对于第二方向上的线性偏振光的折射率，其中，第二方向上的线性偏振光与第一方向上的线性偏振光垂直，以及各向同性层，该各向同性层相对于第一方向上的线性偏振光的折射率等于该各向同性层相对于第二方向上的线性偏振光的折射率。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
213
records
(took 0.021 seconds)
