有机薄膜晶体管
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108878650A

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201710324191.0

    申请日:2017-05-10

    Abstract: 本发明公开了一种有机薄膜晶体管,包含基板、源极/漏极层、第一缓冲层、半导体层、栅极绝缘层与栅极。源极/漏极层位于基板上。源极/漏极层具有源极区与漏极区。第一缓冲层位于源极区与漏极区之间,且第一缓冲层覆盖至少部分的源极区与至少部分的漏极区。半导体层位于源极/漏极层与第一缓冲层上。第一缓冲层位于半导体层、源极区、漏极区与基板之间。栅极绝缘层覆盖源极/漏极层与半导体层。栅极位于栅极绝缘层上,且栅极绝缘层的一部分位于栅极与半导体层之间。第一缓冲层可用来填补源极区与漏极区之间的空间,避免半导体层形成在源极区与漏极区的楔形底切结构上,使半导体层具有均匀的厚度,能提升有机薄膜晶体管的电性稳定性。

    一种金属量子点/有机半导体复合导电沟道薄膜晶体管的制备方法

    公开(公告)号:CN104882541A

    公开(公告)日:2015-09-02

    申请号:CN201510281075.6

    申请日:2015-05-28

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种金属量子点/有机半导体复合导电沟道薄膜晶体管的制备方法,在硅/二氧化硅衬底上,依次制备出金属量子点层、有机半导体层,随后,通过图形化掩膜覆盖蒸镀工艺技术金属量子点/有机半导体复合导电沟道层表面及其硅片衬底背面上分别形成Cr/Au复合金属电极,作为相应的源极、漏极和栅极,再通过旋涂有机物实现对量子点导电沟道的有效封装和保护,从而制备出新型的金属量子点/有机半导体复合导电沟道薄膜晶体管。本发明制备方法新,制作成本低,制备工艺简单,精确可控,有效提高了金属量子点/有机半导体复合导电沟道薄膜晶体管的开关比及其电流值,因此,在新型光电器件中将具有非常重要的应用价值。

    电子器件、图像显示装置和用于构成图像显示装置的基板

    公开(公告)号:CN104425624A

    公开(公告)日:2015-03-18

    申请号:CN201410397278.7

    申请日:2014-08-13

    Applicant: 索尼公司

    Inventor: 秋山龙人

    CPC classification number: H01L51/107 H01L51/0545

    Abstract: 本发明涉及电子器件、图像显示装置以及用于构成图像显示装置的基板。所述电子器件包括:单独地形成于基底上的第一电极和第二电极;功能层,其包括有机半导体材料层并形成于在所述第一电极与第二电极之间的所述基底上;功能层延伸部,其包括所述有机半导体材料层并从所述功能层延伸;保护膜,其至少形成于所述功能层上;以及绝缘层,其覆盖整个表面,其中,所述保护膜被图案化成至少包括以锐角彼此交叉的两条侧边,且所述保护膜的所述两条侧边彼此交叉的顶点部被倒角。本发明可以使得包括有机半导体材料层的功能层得到可靠地保护,且能够在覆盖电子器件的整个表面的绝缘层中确保高的粘附性。

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