公开(公告)号：US5908482A

公开(公告)日：1999-06-01

申请号：US927630

申请日：1997-09-11

Applicant: Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

Inventor： Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20 ,  C03B20/00 ,  C03C3/04

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

Abstract: A silica glass has a structure determination temperature of 1200K or lower and a hydrogen molecule concentration of 1.times.10.sup.17 molecules/cm.sup.3 or more. The silica glass is used together with light in a wavelength region of 400 nm or shorter. The silica glass is produced by heating a silica glass ingot having a hydrogen molecule concentration of 1.times.10.sup.17 molecules/cm.sup.3 or more to a temperature of 1200-1350K, retaining the ingot at that temperature for a given period of time, and then, cooling the ingot to a temperature of 1000K or lower at a temperature-lowering rate of 50K/hr or less to anneal the ingot.

Abstract translation: 石英玻璃的结构测定温度为1200K以下，氢分子浓度为1×10 17分子/ cm 3以上。 石英玻璃与波长400nm以下的光一起使用。 通过将氢分子浓度为1×10 17分子/ cm 3以上的二氧化硅玻璃锭加热至1200〜1350K的温度，将该锭保持在该温度下一定时间，然后冷却该锭 以50K /小时以下的降温速度升温至1000K以下的温度，对该锭进行退火。

公开(公告)号：US5523266A

公开(公告)日：1996-06-04

申请号：US286538

申请日：1994-08-05

Applicant: Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Toshikatsu Matsuya ,  Kyoichi Inaki ,  Toshiyuki Kato ,  Atsushi Shimada

Inventor： Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Toshikatsu Matsuya ,  Kyoichi Inaki ,  Toshiyuki Kato ,  Atsushi Shimada

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03C3/06 ,  G03F7/20 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B37/014 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/32 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  Y02P40/57 ,  Y10S501/90 ,  Y10S65/08

Abstract: A synthetic quartz glass optical member for an ultraviolet laser, where the quartz glass has a hydroxyl content of 10-100 ppm, a chlorine content of 200 ppm or less, a hydrogen content of 1.times.10.sup.16 molecules/cm.sup.3 or less, a homogeneity of refractive index of 5.times.10.sup.-6 or less in terms of .DELTA.n, and a birefringence of 5 nm/cm or less.

Abstract translation: 一种用于紫外线激光的合成石英玻璃光学构件，其中石英玻璃的羟基含量为10-100ppm，氯含量为200ppm以下，氢含量为1×1016分/ cm 3以下，折射率均匀性 在DELTA n方面为5×10 -6以下，双折射为5nm / cm以下。

公开(公告)号：US5364433A

公开(公告)日：1994-11-15

申请号：US977397

申请日：1993-05-15

Applicant: Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Toshikatsu Matsuya ,  Kyoichi Inaki ,  Toshiyuki Kato ,  Atsushi Shimada

Inventor： Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Toshikatsu Matsuya ,  Kyoichi Inaki ,  Toshiyuki Kato ,  Atsushi Shimada

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03C3/06 ,  G03F7/20

CPC classification number: C03B37/014 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/32 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  Y02P40/57 ,  Y10S501/90 ,  Y10S65/08

Abstract: A synthetic quartz glass optical member for an ultraviolet laser, suitably applicable as a stepper lens of a lithographer using an excimer laser beam and other optical members, wherein the quartz glass has a hydroxyl content of 10 to 100 ppm, a chlorine content of 200 ppm or less, a hydrogen content of 1.times.10.sup.16 molecules/cm.sup.3 or less, a homogeneity of refractive index of 5.times.10.sup.-6 or less in terms of .DELTA.n, and a birefringence of 5 nm/cm or less. The optical member can be produced by subjecting a volatile silicon compound to flame hydrolysis with oxyhydrogen flame, depositing the formed particulate silica on a heat-resistant support to prepare a porous silica matrix, heating the matrix in a vacuum as high as 1.times.10.sup.-2 Torr or above to a temperature of 1,400 .degree. C. or above to effect dehydration and degassing, homogenizing the resultant transparent quartz glass into highly homogeneous quartz glass free from striae in at last one direction, molding the highly homogeneous quartz glass, and annealing the molded glass.

Abstract translation: PCT No.PCT / JP92 / 00821 Sec。 371日期1993年3月15日 102（e）1993年3月15日PCT提交1992年6月29日PCT公布。 公开号WO93 / 00307 日期：1993年1月7日。一种用于紫外线激光的合成石英玻璃光学元件，适用于使用准分子激光束和其它光学部件的平版印刷机的步进透镜，其中石英玻璃的羟基含量为10〜100ppm ，氯含量为200ppm以下，氢含量为1×1016分/ cm 3以下，折射率均匀性为DELTA n为5×10 -6以下，双折射为5nm / cm以下。 光学构件可以通过使挥发性硅化合物用氢氧焰火焰水解，将形成的颗粒二氧化硅沉积在耐热载体上以制备多孔二氧化硅基质来制造，在高达1×10 -2乇的真空中加热基质 以上至1400℃以上的温度进行脱水脱气，将得到的透明石英玻璃均匀化成最后一个方向不含条纹的高度均匀的石英玻璃，成型高度均匀的石英玻璃，退火成型玻璃 。

公开(公告)号：US5349456A

公开(公告)日：1994-09-20

申请号：US9677

申请日：1993-01-27

Applicant: Toshihiko Iwanaga ,  Kazuyoshi Yoshida ,  Takusei Sato

Inventor： Toshihiko Iwanaga ,  Kazuyoshi Yoshida ,  Takusei Sato

IPC: C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/136 ,  G02F1/1368

CPC classification number: G02F1/1333 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40 ,  G02F1/1368 ,  Y10S501/90

Abstract: A synthetic quartz glass substrate (1) supporting active elements is formed of high-purity synthetic quartz glass having, a hydroxyl group content of 200 ppm or below and chlorine group content of 50 ppm or below. The substrate (1) may have an impurity level of 1 ppm or less sodium and 1 ppm or less aluminum. TFTs (6), i.e., active elements, and picture element electrodes (7) are formed on the surface of the synthetic quartz glass substrate (1) to construct a driving panel for a liquid crystal display of an active matrix type. A liquid crystal panel is formed by disposing the driving panel and a counter substrate (2) opposite to each other and sandwiching a liquid crystal layer (3) between the driving panel and the counter substrate (2).

Abstract translation: 支承有源元件的合成石英玻璃基板（1）由羟基含量为200ppm以下，氯基含量为50ppm以下的高纯度合成石英玻璃形成。 衬底（1）可以具有1ppm或更少的钠和1ppm或更少的铝的杂质水平。 在合成石英玻璃基板（1）的表面上形成TFT（6）即有源元件和像素电极（7），构成有源矩阵型液晶显示器的驱动面板。 通过将驱动面板和对置基板（2）相对配置并将液晶层（3）夹在驱动面板和对置基板（2）之间来形成液晶面板。

公开(公告)号：US5326729A

公开(公告)日：1994-07-05

申请号：US13396

申请日：1993-02-04

Applicant: Susumu Yaba ,  Shinya Kikugawa

Inventor： Susumu Yaba ,  Shinya Kikugawa

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/54 ,  Y10S65/08 ,  Y10S65/90

Abstract: Quartz glass obtained by flame-hydrolyzing a glass-forming raw material to obtain fine particles of quartz glass, having the fine particles of quartz glass deposited and grown on a substrate to obtain a porous quartz glass product and heating the porous quartz glass product to obtain a transparent quartz glass product, which has an OH content of not more than 10 ppm and a halogen content of at least 400 ppm and which contains hydrogen.

Abstract translation: 通过对形成玻璃的原料进行火焰水解获得的石英玻璃，得到石英玻璃微粒，将石英玻璃微粒沉积生长在基板上，得到多孔石英玻璃制品，加热多孔石英玻璃制品，得到 透明的石英玻璃制品，其OH含量不超过10ppm，卤素含量为至少400ppm，并含有氢。