公开(公告)号：US20090122281A1

公开(公告)日：2009-05-14

申请号：US12351998

申请日：2009-01-12

Applicant: Yasutomi IWAHASHI ,  Akio Koike

Inventor： Yasutomi IWAHASHI ,  Akio Koike

IPC: G03B27/00 ,  C03C3/04

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B19/1461 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54

Abstract: A silica glass containing TiO2, which has a fictive temperature of at most 1,200° C., a F concentration of at least 100 ppm and a coefficient of thermal expansion of 0±200 ppb/° C. from 0 to 100° C.A process for producing a silica glass containing TiO2, which comprises a step of forming a porous glass body on a target quartz glass particles obtained by flame hydrolysis of glass-forming materials, a step of obtaining a fluorine-containing porous glass body, a step of obtaining a fluorine-containing vitrified glass body, a step of obtaining a fluorine-containing formed glass body and a step of carrying out annealing treatment.

Abstract translation: 含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其假想温度为至多1200℃，F浓度为至少100ppm，热膨胀系数为0±200ppb /℃，为0〜100℃。 含有TiO 2的二氧化硅玻璃的制造方法，其包括在通过玻璃形成材料的火焰水解得到的目标石英玻璃粒子上形成多孔玻璃体的工序，得到含氟多孔玻璃体的工序， 获得含氟玻璃化玻璃体，获得含氟成形玻璃体的步骤和进行退火处理的步骤。

公开(公告)号：US20080274869A1

公开(公告)日：2008-11-06

申请号：US11597087

申请日：2005-05-11

Applicant: Wolfgang Englisch ,  Ralf Takke ,  Bodo Kuehn ,  Bruno Uebbing ,  Rainer Koeppler

Inventor： Wolfgang Englisch ,  Ralf Takke ,  Bodo Kuehn ,  Bruno Uebbing ,  Rainer Koeppler

IPC: C03C3/06 ,  C03B29/00

CPC classification number: C03B19/1469 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42

Abstract: The present invention relates to a quartz glass blank for an optical component for transmitting radiation of a wavelength of 15 nm and shorter, the blank consisting of highly pure quartz glass, doped with titanium and/or fluorine, which is distinguished by an extremely high homogeneity. The homogeneity relates to the following features: a) micro-inhomogeneities caused by a local variance of the TiO2 distribution (

Abstract translation: 本发明涉及一种用于传输波长为15nm和更短的辐射的光学部件的石英玻璃坯料，该坯料由掺杂有钛和/或氟的高纯石英玻璃组成，其特征在于极高的均匀性 。 均匀性涉及以下特征：a）由TiO 2分布（<0.05％TIO 2 2）的局部方差引起的微不均匀性，其平均值在 （5umum）相对于TiO 2含量的平均值），b）主要功能方向上的热膨胀系数Deltaalpha的绝对最大不均匀性（ <5ppb / K），c）在石英玻璃坯料的可用表面上的热膨胀系数的径向变化不大于0.4ppb /（K.cm）; d）具有特定进展的2nm / cm 2的主要功能方向的633nm处的最大应力双折射（SDB） 和e）根据（b）在光学表面上平均的Deltaalpha的特定进展。 所述石英玻璃坯料只能通过将含有硅，钛和/或氟的化合物的火焰水解获得的掺杂石英玻璃作为大体积的棒状起始体形成为均匀的石英玻璃坯料，其中使用几个成形步骤 并均质化。

公开(公告)号：US20080096756A1

公开(公告)日：2008-04-24

申请号：US11874373

申请日：2007-10-18

Applicant: Masanobu Ezaki ,  Masashi Kobata ,  Sachiko Kato

Inventor： Masanobu Ezaki ,  Masashi Kobata ,  Sachiko Kato

IPC: C04B35/14

CPC classification number: B82Y40/00 ,  B82Y10/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/42 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60

Abstract: To provide titania-silica glass which is transparent glass of low thermal expansion, in particular, is of a low thermal expansion coefficient over a wide range of temperatures of 0 to 100° C. (an operating temperature range) when it is used as a photomask or a mirror material in extreme ultraviolet ray lithography, and which is excellent in homogeneity within the field and stability. Titania-silica glass is used which has 8 to 10% by weight of titania and 90 to 92% by weight of silica, where a Ti3+ concentration is 10 to 60 ppm by weight.

Abstract translation: 为了提供作为低热膨胀的透明玻璃的二氧化钛 - 二氧化硅玻璃，特别是在0〜100℃的宽的温度范围（工作温度范围）中作为 光掩模或极光紫外线光刻中的镜面材料，其在场内的均匀性和稳定性方面优异。 使用二氧化钛 - 二氧化硅玻璃，其具有8至10重量％的二氧化钛和90至92重量％的二氧化硅，其中Ti 3+浓度为10至60重量ppm。

公开(公告)号：US20070137252A1

公开(公告)日：2007-06-21

申请号：US11445048

申请日：2006-05-31

Applicant: John Maxon ,  William Rosch

Inventor： John Maxon ,  William Rosch

IPC: C03C3/06 ,  C03B37/07

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/50 ,  Y02P40/57

Abstract: The invention is directed to a low expansion glass with reduced striae, the glass have a point-to-point variation in titania content is 0.1 wt % or less through its thickness and a CTE of 0±3 ppb/° C. in the temperature range 5-35° C. The invention is further directed to a method for producing the low expansion glass by using a method in which the time for repetition of the oscillation patterns used in the process are 10 minutes or less. In addition, the low expansion glass of the invention can have striae further reduced by heat-treating the glass at temperatures above 1600° C. for a time in the range of 48-160 hours.

Abstract translation: 本发明涉及一种具有减少条纹的低膨胀玻璃，玻璃的二氧化钛含量的点对点变化通过其厚度为0.1重量％或更小，并且在温度下为0±3ppb /℃的CTE 范围5-35℃。本发明还涉及通过使用在该方法中使用的振荡图案的重复时间为10分钟以下的方法来制造低膨胀玻璃的方法。 此外，本发明的低膨胀玻璃可以通过在高于1600℃的温度下将玻璃热处理48至160小时的时间来进一步降低条纹。

公开(公告)号：US20070134566A1

公开(公告)日：2007-06-14

申请号：US11634270

申请日：2006-12-06

Applicant: Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada

Inventor： Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada

IPC: G02B6/42 ,  B32B15/00 ,  C03B37/018 ,  C03B8/00 ,  B32B17/06 ,  G03F1/00 ,  G02B6/26

CPC classification number: C03B19/1407 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1446 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G21K2201/067

Abstract: A titania-doped quartz glass containing 3-12 wt % of titania at a titania concentration gradient less than or equal to 0.01 wt %/μm and having an apparent transmittance to 440 nm wavelength light of at least 30% at a thickness of 6.35 mm is of such homogeneity that it provides a high surface accuracy as required for EUV lithographic members, typically EUV lithographic photomask substrates.

Abstract translation: 在二氧化钛浓度梯度小于或等于0.01重量％/重量的情况下，含有3-12重量％的二氧化钛的二氧化钛掺杂的石英玻璃，并且对于440nm波长具有至多30％的表观透射率，厚度为6.35mm 具有这样的同质性，其提供了EUV光刻元件（通常为EUV光刻光掩模基板）所需的高表面精度。

公开(公告)号：US20070042892A1

公开(公告)日：2007-02-22

申请号：US11589584

申请日：2006-10-30

Applicant: Steven Dawes ,  Richard Fiacco ,  Kenneth Hrdina ,  Michael Wasilewski

Inventor： Steven Dawes ,  Richard Fiacco ,  Kenneth Hrdina ,  Michael Wasilewski

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03B19/06 ,  C03B19/02 ,  C03B19/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/20

Abstract: The present invention provides doped titania-doped silica glass articles having low thermal expansions and low variations in thermal expansion. According to one embodiment of the invention, a titania-doped silica glass article has a titania content of between about 5 wt % and about 9 wt %; a coefficient of thermal expansion of between about −30 ppb/° C. and about +30 ppb/° C. at a temperature between 15° C. and 30° C.; and a variation in coefficient of thermal expansion of less than about 5 ppb/° C. at a temperature between 15° C and 30° C.

Abstract translation: 本发明提供了具有低热膨胀和低膨胀变化的掺杂二氧化钛掺杂二氧化硅玻璃制品。 根据本发明的一个实施方案，二氧化钛掺杂的石英玻璃制品的二氧化钛含量为约5重量％至约9重量％; 在15℃和30℃之间的温度下，热膨胀系数在约-30ppb /℃和约+ 30ppb /℃之间。 和在15℃至30℃之间的温度下热膨胀系数的变化小于约5ppb /℃。

公开(公告)号：US20050245382A1

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：US11172872

申请日：2005-07-05

Applicant: Yasutomi Iwahashi ,  Akio Koike

Inventor： Yasutomi Iwahashi ,  Akio Koike

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C4/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42

Abstract: A silica glass containing TiO2, which has a fictive temperature of at most 1,200° C., an OH group concentration of at most 600 ppm and a coefficient of thermal expansion of 0±200 ppb/° C. from 0 to 100° C.

Abstract translation: 含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其具有至多1200℃的假想温度，至多600ppm的OH基浓度和0±200ppb /℃的热膨胀系数 0至100℃

公开(公告)号：US20050241338A1

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：US11180458

申请日：2005-07-12

Applicant: Kenneth Hrdina ,  John Maxon ,  Brent Mclean

Inventor： Kenneth Hrdina ,  John Maxon ,  Brent Mclean

IPC: G02B1/00 ,  C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1446 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/62 ,  C03B2207/66 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70958

Abstract: Titania-containing silica glass bodies and extreme ultraviolet elements having low levels of striae are disclosed. Methods and apparatus for manufacturing and measuring striae in glass elements and extreme ultraviolet elements are also disclosed.

Abstract translation: 公开了含有二氧化钛的二氧化硅玻璃体和具有低水平条纹的极紫外线元件。 还公开了用于制造和测量玻璃元件和极紫外元件中的条纹的方法和装置。

公开(公告)号：US20050032622A1

公开(公告)日：2005-02-10

申请号：US10638004

申请日：2003-08-08

Applicant: Steven Dawes ,  Richard Fiacco ,  Kenneth Hrdina ,  Michael Wasilewski

Inventor： Steven Dawes ,  Richard Fiacco ,  Kenneth Hrdina ,  Michael Wasilewski

IPC: C03B19/02 ,  C03B19/06 ,  C03B19/12 ,  C03C3/06 ,  C03B8/00 ,  C03B23/04

CPC classification number: C03B19/06 ,  C03B19/02 ,  C03B19/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/20

Abstract: The present invention provides doped titania-doped silica glass articles having low thermal expansions and low variations in thermal expansion. According to one embodiment of the invention, a titania-doped silica glass article has a titania content of between about 5 wt % and about 9 wt %; a coefficient of thermal expansion of between about −30 ppb/° C. and about +30 ppb/° C. at a temperature between 15° C. and 30° C.; and a variation in coefficient of thermal expansion of less than about 5 ppb/° C. at a temperature between 15° C. and 30° C.

Abstract translation: 本发明提供了具有低热膨胀和低膨胀变化的掺杂二氧化钛掺杂二氧化硅玻璃制品。 根据本发明的一个实施方案，二氧化钛掺杂的石英玻璃制品的二氧化钛含量为约5重量％至约9重量％; 在15℃和30℃之间的温度下，热膨胀系数在约-30ppb /℃和约+ 30ppb /℃之间。 和在15℃至30℃之间的温度下热膨胀系数的变化小于约5ppb /℃。

公开(公告)号：US20040234762A1

公开(公告)日：2004-11-25

申请号：US10481895

申请日：2004-01-05

Inventor： Laurent Molins

IPC: B32B019/00

CPC classification number: C03C13/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/42 ,  D01F9/08 ,  Y10T428/29 ,  Y10T428/2933

Abstract: The invention relates to a silica yarn and to woven or nonwoven fabrics produced from said yarn, which comprises 30 to 1500 ppm by weight of aluminum and 10 to 200 ppm by weight of titanium in oxidized form, the sum of the mass of the chemical elements different from Si and 0 being less than 5000 ppm by weight, the following elements being absent or present in a very small quantity: boron, sodium, calcium, potassium and lithium. The fabrics comprising this silica yarn have an excellent high-temperature withstand and thus retain their flexibility for a long time at above 600null C. They are useful especially in uses requiring good high-temperature flexibility, such as for furnace seals.

Abstract translation: 本发明涉及一种二氧化硅丝以及由所述纱线制成的机织或非织造织物，其包含30至1500重量ppm的铝和10至200重量ppm的氧化形式的钛，化学元素的质量之和 不同于Si和0小于5000重量ppm，以下元素不存在或以非常少的量存在：硼，钠，钙，钾和锂。 包含该二氧化硅纱线的织物具有优异的耐高温性，因此在600℃以上长时间保持其柔韧性。它们特别适用于要求良好的高温柔韧性的用途，例如炉密封。