公开(公告)号：CN110500963B

公开(公告)日：2022-02-11

申请号：CN201910414005.1

申请日：2019-05-17

Applicant: 大塚电子株式会社

Inventor： 新家俊辉 ,  川口史朗 ,  井上展幸

IPC: G01B11/06

Abstract: 本公开涉及一种光学测定装置以及光学测定方法，其要解决的问题在于，在对试样中的一方的表面照射光的光学测定装置中，测定探头与试样之间的距离和试样的膜厚。本公开的厚度测定装置包括：探头，包括具有参照面的透射光学构件，经由所述参照面将光照射至试样，接受来自所述参照面的第一反射光、来自所述试样的表面的第二反射光以及来自所述试样的背面的第三反射光；以及运算部，使用由所述第一反射光和所述第二反射光产生的第一反射干渉光，计算出从所述参照面到所述试样的表面的第一距离，使用由所述第二反射光和所述第三反射光产生的第二反射干渉光，计算出所述试样的厚度。

公开(公告)号：CN112710393A

公开(公告)日：2021-04-27

申请号：CN202011149855.2

申请日：2020-10-23

Applicant: 大塚电子株式会社

Inventor： 新家俊辉 ,  井上展幸 ,  大川内真 ,  冈本宗大 ,  川口史朗 ,  水口勉

IPC: G01J3/28

Abstract: 本发明通过一种光学测定装置、波长校正方法以及标准试样。光学测定装置包括以下单元：理论干涉谱获取单元，其获取基于标准试样的已知的厚度、折射率以及消光系数进行数学计算得出的、关于该标准试样的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为理论干涉谱；实测干涉谱获取单元，其获取利用受光器经由衍射光栅接收对标准试样照射测定光而产生的反射光或透过光所生成的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为实测干涉谱；关联信息获取单元，其获取用于决定理论干涉谱与实测干涉谱的关于波长的关联的关联信息；以及波长校正单元，其参照关联信息将用于规定多个受光元件的波长值的波长校正式决定为使对实测干涉谱应用波长校正式所得到的结果与理论干涉谱一致。

公开(公告)号：CN110500963A

公开(公告)日：2019-11-26

申请号：CN201910414005.1

申请日：2019-05-17

Applicant: 大塚电子株式会社

Inventor： 新家俊辉 ,  川口史朗 ,  井上展幸

IPC: G01B11/06

Abstract: 本公开涉及一种光学测定装置以及光学测定方法，其要解决的问题在于，在对试样中的一方的表面照射光的光学测定装置中，测定探头与试样之间的距离和试样的膜厚。本公开的厚度测定装置包括：探头，包括具有参照面的透射光学构件，经由所述参照面将光照射至试样，接受来自所述参照面的第一反射光、来自所述试样的表面的第二反射光以及来自所述试样的背面的第三反射光；以及运算部，使用由所述第一反射光和所述第二反射光产生的第一反射干渉光，计算出从所述参照面到所述试样的表面的第一距离，使用由所述第二反射光和所述第三反射光产生的第二反射干渉光，计算出所述试样的厚度。