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公开(公告)号：CN112710393A
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN202011149855.2
申请日：2020-10-23
Applicant: 大塚电子株式会社
IPC: G01J3/28
Abstract: 本发明通过一种光学测定装置、波长校正方法以及标准试样。光学测定装置包括以下单元：理论干涉谱获取单元，其获取基于标准试样的已知的厚度、折射率以及消光系数进行数学计算得出的、关于该标准试样的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为理论干涉谱；实测干涉谱获取单元，其获取利用受光器经由衍射光栅接收对标准试样照射测定光而产生的反射光或透过光所生成的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为实测干涉谱；关联信息获取单元，其获取用于决定理论干涉谱与实测干涉谱的关于波长的关联的关联信息；以及波长校正单元，其参照关联信息将用于规定多个受光元件的波长值的波长校正式决定为使对实测干涉谱应用波长校正式所得到的结果与理论干涉谱一致。
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公开(公告)号：CN100494924C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN01811473.3
申请日：2001-06-19
Applicant: 大塚电子株式会社
CPC classification number: G01J3/2803 , G01J3/28
Abstract: 在本发明的光谱测量仪中，检测器(13)的检测表面(13a)是一个二维检测表面并且从衍射光栅出来的谱光照射在检测表面(13a)上的A区。在检测表面(13a)除了谱光照射的A区以外其它区的信号强度从A区的信号强度中被减去。因此有可能以这样的方式来处理检测信号以获取准确的光谱强度信号，即消除在光谱测量仪内产生的漫射光和由在检测单元表面发生的反射及衍射所产生的无用光的不利影响。
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公开(公告)号：CN1541331A
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：CN01811473.3
申请日：2001-06-19
Applicant: 大塚电子株式会社
CPC classification number: G01J3/2803 , G01J3/28
Abstract: 在本发明的光谱测量仪中，检测器(13)的检测表面(13a)是一个二维检测表面并且从分光镜出来的谱光照射在检测表面(13a)上的A区。在检测表面(13a)除了谱光照射的A区以外其它区的信号强度从A区的信号强度中被减去。因此有可能以这样的方式来处理检测信号以获取准确的光谱强度信号，即消除在光谱测量仪内产生的漫射光和由在检测单元表面发生的反射及衍射所产生的无用光的不利影响。
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公开(公告)号：CN113494889A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110378953.1
申请日：2021-04-08
Applicant: 大塚电子株式会社
Abstract: 一种光学测定系统和光学测定方法。光学测定系统包括：光源，其用于产生测定光；受光部，其接收对试样照射测定光而产生的反射光或透射光来作为观测光；获取单元，其获取观测光中包含的波长范围内的、被设定为两端的相位相同的波长区间的观测光光谱；初始值决定单元，其基于在对观测光光谱进行傅立叶变换而得到的功率谱中出现的峰的位置，来决定试样的膜厚的初始值；拟合单元，其以使根据包含膜厚作为参数的试样的模型计算出的干涉光谱与观测光光谱一致的方式对模型的参数进行更新，来决定试样的膜厚；以及判断单元，其判断所决定的该膜厚是否满足基于先前获取到的膜厚的条件。
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