荧光X射线分析装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1739023B

    公开(公告)日:2012-01-04

    申请号:CN200480002434.X

    申请日:2004-03-11

    CPC classification number: G21K1/06 G01N23/223 G01N2223/076

    Abstract: 本发明的课题提供一种荧光X射线分析装置,其采用单一检测器,形成简单、低价格的结构,同时,可在较宽的波长范围内以充分的灵敏度,测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。在包括X射线源(3)、发散细缝(5)、分光元件(7)、单一检测器(9)的荧光X射线分析装置中,分光元件(7)采用多个弯曲分光元件(7A,7B),该多个弯曲分光元件(7A,7B)沿从试样(1)和检测器(9)观看,2次X射线的光路(6,8)扩展的方向并排地固定,由此,测定波长不同的多条2次X射线(8a,8b)的相应强度。

    荧光X射线分析装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1877312B

    公开(公告)日:2010-12-01

    申请号:CN200610083463.4

    申请日:2006-05-30

    CPC classification number: G01N23/223 G01N2223/076

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种荧光X射线分析装置等,其可针对包含多个非测定元素的无法指定其原子序数的各种试样,在更宽的适合范围内充分而正确地进行分析。设置算出机构,其根据假定的元素的浓度计算由试样中的各元素产生的2次X射线的理论强度,按照该理论强度和通过检测机构测定的测定强度一致的方式,对上述假定的元素的浓度进行最佳化计算,算出试样的元素的浓度,上述算出机构针对不测定荧光X射线的非测定元素假定多个非测定元素的浓度,并且代替从试样中的非测定元素产生的2次X射线,采用其数量至少与假定浓度的非测定元素相同的1次X射线的散射线,所采用的1次X射线的散射线包含用试样散射之前的波长不同的散射线。

    荧光X射线分析装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101416047B

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN200680054176.9

    申请日:2006-11-24

    CPC classification number: G01N23/223 G01N2223/076

    Abstract: 一种分析试样中包含的硫磺的荧光X射线分析装置,其目的在于通过大幅度地减少来自X射线管的连续X射线的试样的散射X射线和比例计数管的氩气的逃逸峰值,提高极微量的硫磺的分析精度。一种荧光X射线分析装置(1),其对试样(S)照射来自X射线管的一次X射线,通过分光元件,对从试样(S)产生的荧光X射线进行分光,通过X射线检测器进行检测,由此,对试样(S)进行分析,该装置包括X射线管(11),该X射线管(11)具有含铬的靶;X射线滤波器(13),其设置于X射线管(11)和试样(S)之间的X射线通路,相对来自X射线管(11)的Cr-Kα射线,具有规定的透射率,采用在S-Kα射线和Cr-Kα射线的能量之间不存在吸收端的元素的材质;比例计数管(18),其具有含氖气或氦气的检测器气体,该装置对试样(S)中包含的硫磺进行分析。

    荧光X射线分析装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116472452A

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN202180072774.3

    申请日:2021-09-10

    Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置所具有的排除机构(21):对于基底层中不含测定元素的成分,针对每条相应的测定线,假定该成分单独构成薄膜来计算其附着量,将最大附着量设定为该成分的附着量的初始值;对于基底层中包含测定元素的成分,针对每条相应的测定线,基于基底层中不包含测定元素的每个成分的附着量的初始值来计算其附着量;在所有对应的测定线的计算结果均有误差的情况下,将该成分作为不能定量的成分从分析对象中排除,在除此以外的情况下,将最大的附着量设定为该成分的附着量的初始值。

    荧光X射线分析装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107076687A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201680003309.3

    申请日:2016-07-01

    CPC classification number: G01N23/223 G01N23/207 G01N2223/076 G01N2223/0766

    Abstract: 测定线评价机构(23)根据针对薄膜而指定的组成和/或厚度,对于已指定的全部的测定线,通过理论计算而计算出推算测定强度,以规定量改变仅仅一个测定线的推算测定强度,针对每个变化的测定线,通过基本参数法,求出推算测定强度变化后的薄膜的组成和/或厚度的定量值,根据该定量值和已指定的组成和/或厚度,进行定量误差的推算和/或分析的可否的判断。

    荧光X射线分析装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101520423B

    公开(公告)日:2011-01-19

    申请号:CN200910132665.7

    申请日:2004-03-11

    CPC classification number: G21K1/06 G01N23/223 G01N2223/076

    Abstract: 本发明的课题提供一种荧光X射线分析装置,其采用单一检测器,形成简单、低价格的结构,同时,可在较宽的波长范围内以充分的灵敏度,测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。在包括X射线源(3)、发散细缝(5)、分光元件(7)、单一检测器(9)的荧光X射线分析装置中,分光元件(7)采用多个弯曲分光元件(7A,7B),该多个弯曲分光元件(7A,7B)沿从试样(1)和检测器(9)观看,2次X射线的光路(6,8)扩展的方向并排地固定,由此,测定波长不同的多条2次X射线(8a,8b)的相应强度。

    荧光X射线分析装置
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112378938B

    公开(公告)日:2025-01-17

    申请号:CN202011009411.9

    申请日:2016-07-01

    Abstract: 测定线评价机构(23)根据针对薄膜而指定的组成和/或厚度,对于已指定的全部的测定线,通过理论计算而计算出推算测定强度,以规定量改变仅仅一个测定线的推算测定强度,针对每个变化的测定线,通过基本参数法,求出推算测定强度变化后的薄膜的组成和/或厚度的定量值,根据该定量值和已指定的组成和/或厚度,进行定量误差的推算和/或分析的可否的判断。

    荧光X射线分析装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN116472452B

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN202180072774.3

    申请日:2021-09-10

    Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置所具有的排除机构(21):对于基底层中不含测定元素的成分,针对每条相应的测定线,假定该成分单独构成薄膜来计算其附着量,将最大附着量设定为该成分的附着量的初始值;对于基底层中包含测定元素的成分,针对每条相应的测定线,基于基底层中不包含测定元素的每个成分的附着量的初始值来计算其附着量;在所有对应的测定线的计算结果均有误差的情况下,将该成分作为不能定量的成分从分析对象中排除,在除此以外的情况下,将最大的附着量设定为该成分的附着量的初始值。

    荧光X射线分析装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112378938A

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN202011009411.9

    申请日:2016-07-01

    Abstract: 本发明涉及一种荧光X射线分析装置。测定线评价机构(23)根据针对薄膜而指定的组成和/或厚度,对于已指定的全部的测定线,通过理论计算而计算出推算测定强度,以规定量改变仅仅一个测定线的推算测定强度,针对每个变化的测定线,通过基本参数法,求出推算测定强度变化后的薄膜的组成和/或厚度的定量值,根据该定量值和已指定的组成和/或厚度,进行定量误差的推算和/或分析的可否的判断。

    荧光X射线分析装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101520423A

    公开(公告)日:2009-09-02

    申请号:CN200910132665.7

    申请日:2004-03-11

    CPC classification number: G21K1/06 G01N23/223 G01N2223/076

    Abstract: 本发明的课题提供一种荧光X射线分析装置,其采用单一检测器,形成简单、低价格的结构,同时,可在较宽的波长范围内以充分的灵敏度,测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。在包括X射线源(3)、发散细缝(5)、分光元件(7)、单一检测器(9)的荧光X射线分析装置中,分光元件(7)采用多个弯曲分光元件(7A,7B),该多个弯曲分光元件(7A,7B)沿从试样(1)和检测器(9)观看,2次X射线的光路(6,8)扩展的方向并排地固定,由此,测定波长不同的多条2次X射线(8a,8b)的相应强度。

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