公开(公告)号：KR101196075B1

公开(公告)日：2012-11-01

申请号：KR1020107005342

申请日：2008-09-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오타료사쿠 ,  아다치히카루 ,  나카니시도시오 ,  우에다아츠시 ,  강송윤 ,  모로즈파울 ,  벤트젝피터

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/31

CPC classification number: H05H1/46 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/32229

Abstract: 슬롯 안테나 방식의 마이크로파 플라즈마 처리 장치(100)는, 편평한 도파관을 구성하는 평면 안테나판(31) 및 도전성 부재로 이루어지는 커버(34)를 구비한다. 커버(34)에, 편평한 도파관 내의 전계 분포를 조정하기 위한 제2 도파관으로서의 스터브(43)를 구비하고 있다. 스터브(43)에는, 도전성 부재로 이루어지는 커버(34)가 설치되어 있다. 스터브(43)는, 평면에서 보아, 평면 안테나판(31)의 최외주에 배열된 슬롯쌍을 구성하는 슬롯(32)과 겹쳐지는 위치에 배치되어 있다. 스터브(43)의 적정한 배치에 의해, 편평한 도파관 내의 전계 분포를 제어하여 균일한 플라즈마를 생성할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020100054826A

公开(公告)日：2010-05-25

申请号：KR1020107005342

申请日：2008-09-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오타료사쿠 ,  아다치히카루 ,  나카니시도시오 ,  우에다아츠시 ,  강송윤 ,  모로즈파울 ,  벤트젝피터

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/31

CPC classification number: H05H1/46 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/32229

Abstract: A microwave plasma processing device (100) of the slot antenna type includes a planar antenna plate (31) constituting a flat waveguide and a cover (34) formed by a conductive member. The cover (34) has a stub (43) as a second waveguide for adjusting field distribution in the flat waveguide. The stub (43) is arranged at a position superposed by slots (32) constituting a slot pair arranged at the outermost circumference of the planar antenna plate (31) when viewed from above. By appropriately arranging the stubs (43), it is possible to control the field distribution in the flat waveguide and generate a uniform plasma.

Abstract translation: 缝隙天线型微波等离子体处理装置（100）包括构成平坦波导的平面天线板（31）和由导电部件形成的盖（34）。 盖（34）具有作为用于调整平面波导中的场分布的第二波导的短截线（43）。 当从上方观察时，短截线体（43）被布置在叠置有构成设置在平面天线板（31）的最外周的槽对的槽（32）的位置。 通过适当地布置短截线（43），可以控制平坦波导中的场分布并产生均匀的等离子体。