Patent search ap:("도쿄엘렉트론가부시키가이샤") AND inv:"오츠타카히코" Page 1

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发明授权
기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 有权

公开(公告)号：KR102260913B1

公开(公告)日：2021-06-04

申请号：KR1020180115072

申请日：2018-09-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오노히로키 , 사토히데아키 , 이나다타카오 , 카와노히사시 , 니시와키요시노리 , 오츠타카히코

IPC: H01L21/67

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