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    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 그리고 기판 처리 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체
    4.
    发明公开
    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 그리고 기판 처리 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 审中-实审
    基板处理装置，基板处理方法和计算机可读存储介质基板处理程序

    公开(公告)号：KR1020140143700A

    公开(公告)日：2014-12-17

    申请号：KR1020140064547

    申请日：2014-05-28

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 가와부치요스케 ,  카와노히사시 ,  다나카사토루 ,  스즈키히로유키 ,  오오이시코타로 ,  시노하라카즈요시 ,  요시다유키

    IPC: H01L21/302 ,  H01L21/08 ,  H01L21/00

    CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/6715

    Abstract: 기판 처리에서의 스루풋의 향상과 런닝 코스트의 저감을 도모하는 것이다. 본 발명에서는, 기판(3)을 처리액으로 처리한 후에 상기 기판(3)을 건조시키는 기판 처리 장치(1)에 있어서, 상기 기판(3)을 회전시키는 기판 회전 기구(22)와, 상기 기판(3)에 대하여 처리액을 토출하는 처리액 토출부(13)와, 상기 기판(3)에 대하여 상대적으로 이동하면서, 상기 기판(3) 상의 처리액과 치환되는 치환액을 상기 기판(3)을 향해 토출하는 치환액 토출부(14)와, 상기 기판(3)에 대하여 상기 치환액 토출부(14)와는 상이한 방향으로 이동하면서 불활성 가스를 상기 기판(3)의 상방으로부터 상기 기판(3)에 대하여 외주 방향으로 비스듬하게 토출하는 불활성 가스 토출부(15)를 가지는 것으로 했다.

    Abstract translation: 提供本发明以提高处理基板的通过量并降低其运行成本。 一种用处理液处理基板（3）并干燥基板（3）的基板处理装置（1）包括：基板旋转装置（22），其构造成使基板（3）旋转; 处理液体排出单元（13），被配置为将处理液体朝向基板（3）排出; 置换液体排出单元（14），被配置为在衬底（3）上将由处理液体取代的取代液体朝向衬底3排出，同时相对于衬底（3）相对移动; 以及惰性气体排出单元（15），其构造成在与所述基板（3）的移动方向不同的方向上移动时，向所述基板（3）的周边部朝向所述基板（3）的上方沿着倾斜方向排出惰性气体， 放电单元（14）。

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