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公开(公告)号：KR1020150043522A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：KR1020157008237
申请日：2013-09-16
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D17/06 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/004 , H05K3/007 , Y10T29/49117 , C25D17/08
Abstract: 제품 (5) 의처리를위한홀딩기기에관한것으로, 상기홀딩기기는제 1 홀딩부 (41) 및제 2 홀딩부 (42) 를포함한다. 제 1 홀딩부 (41) 는제품 (5) 의제 1 측면 (6) 과접촉을형성하기위해적어도하나의제 1 전기접촉요소 (13) 를포함한다. 제 2 홀딩부 (42) 는제품 (5) 의제 2 측면 (7) 과접촉을형성하기위해적어도하나의제 2 전기접촉요소 (14) 를포함하고, 제 2 측면은제 1 측면 (6) 과대향하게놓여있다. 제 1 홀딩부 (41) 와제 2 홀딩부 (42) 는, 제품 (5) 을홀딩하기위해탈착가능하게서로체결될수 있도록배열된다. 제품시일 (15, 16) 과하우징시일 (17) 은, 처리상태에서적어도하나의제 1 전기접촉요소 (13) 및적어도하나의제 2 전기접촉요소 (14) 로유체의침투를방지하도록실링배열체를제공한다.
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公开(公告)号：KR101740208B1
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：KR1020167025085
申请日：2015-10-30
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: H01L21/677 , H01L21/67 , B65G49/06
CPC classification number: H01L21/6776 , C03C17/002 , C23C18/1608 , C23C18/1632 , C23C18/165 , C23C18/1889 , C23C18/38 , H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 본발명은, 특히유리기판인대형기판의수평습식화학처리를위한장치의처리모듈에관한것으로서, 본처리모듈은, 하우징커버를갖는하우징; 및대형기판의수평프로세싱을위한복수의운송요소들을갖는운송디바이스를포함하고, 상기처리모듈은, 상기처리모듈의내부에처리액을축적하기위하여, 상기처리모듈의입구에서상기대형기판의운송레벨위에배치된적어도제 1 액체노즐과적어도가스노즐, 및상기처리모듈의출구에서상기대형기판의운송레벨위에배치된적어도다른제 1 액체노즐과적어도다른가스노즐을더 포함하고, 각가스노즐은개별제 1 액체노즐보다더 외부에배치되고, 상기처리모듈은상기대형기판의운송레벨보다아래에서각 제 1 액체노즐아래에배치된적어도액체위어를더 포함하고, 상기처리모듈은상기처리모듈의상기운송디바이스및 액체위어들을조정하기위한적어도조정디바이스를더 포함한다. 또한, 본발명은특히그러한처리모듈을포함하는수평장치에서대형기판을처리하는방법에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101631420B1
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：KR1020157008481
申请日：2013-11-12
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D7/0621 , B08B3/041 , B08B3/08 , C23C18/1619 , C23C18/1628 , C23C18/1669 , C23C18/1675 , C25D5/08 , C25D17/00 , C25D17/02 , C25D17/08 , C25D21/10 , C25D21/12 , H05K3/241
Abstract: 본발명에따른기기 (1) 는처리액체 (F) 로처리될플랫재료 (B) 를가볍게처리하기위해제안된다. 기기 (1) 는다음부품들: 처리액체 (F) 가욕 레벨 (M) 까지축적될수 있는적어도하나의처리챔버 (20), 적어도하나의처리챔버 (20) 로처리액체 (F) 를공급하기위한적어도하나의공급기기 (7), 적어도하나의수송기기 (30) 로서, 상기수송기기로처리될플랫재료 (B) 가적어도하나의처리챔버 (20) 를통하여욕 레벨 (M) 아래수송평면 (E) 에서수평위치로수송될수 있는, 상기적어도하나의수송기기 (30), 처리액체 (F) 를위한적어도하나의수용영역 (4), 및각각의배출율로적어도하나의처리챔버 (20) 로부터상기적어도하나의수용영역 (4) 으로처리액체를운반하기위해상기처리액체 (F) 를위한적어도하나의배출개구 (41) 를각각구비한적어도하나의배출기기 (40) 를갖는다. 적어도하나의배출기기 (40) 는각각적어도하나의조정시스템 (43) 을가지고, 상기조정시스템으로적어도하나의배출개구 (41) 를통하여처리액체 (F) 의배출율이조절가능하다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101630585B1
公开(公告)日：2016-06-14
申请号：KR1020157008237
申请日：2013-09-16
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D17/06 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/004 , H05K3/007 , Y10T29/49117
Abstract: 제품 (5) 의처리를위한홀딩기기에관한것으로, 상기홀딩기기는제 1 홀딩부 (41) 및제 2 홀딩부 (42) 를포함한다. 제 1 홀딩부 (41) 는제품 (5) 의제 1 측면 (6) 과접촉을형성하기위해적어도하나의제 1 전기접촉요소 (13) 를포함한다. 제 2 홀딩부 (42) 는제품 (5) 의제 2 측면 (7) 과접촉을형성하기위해적어도하나의제 2 전기접촉요소 (14) 를포함하고, 제 2 측면은제 1 측면 (6) 과대향하게놓여있다. 제 1 홀딩부 (41) 와제 2 홀딩부 (42) 는, 제품 (5) 을홀딩하기위해탈착가능하게서로체결될수 있도록배열된다. 제품시일 (15, 16) 과하우징시일 (17) 은, 처리상태에서적어도하나의제 1 전기접촉요소 (13) 및적어도하나의제 2 전기접촉요소 (14) 로유체의침투를방지하도록실링배열체를제공한다.
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公开(公告)号：KR1020160113303A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：KR1020167025085
申请日：2015-10-30
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: H01L21/677 , H01L21/67 , B65G49/06
CPC classification number: H01L21/6776 , C03C17/002 , C23C18/1608 , C23C18/1632 , C23C18/165 , C23C18/1889 , C23C18/38 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , B65G49/064 , B65G2201/022 , H01L21/67017 , H01L21/6715 , H01L21/67706 , H01L21/67709
Abstract: 본발명은, 특히유리기판인대형기판의수평습식화학처리를위한장치의처리모듈에관한것으로서, 본처리모듈은, 하우징커버를갖는하우징; 및대형기판의수평프로세싱을위한복수의운송요소들을갖는운송디바이스를포함하고, 상기처리모듈은, 상기처리모듈의내부에처리액을축적하기위하여, 상기처리모듈의입구에서상기대형기판의운송레벨위에배치된적어도제 1 액체노즐과적어도가스노즐, 및상기처리모듈의출구에서상기대형기판의운송레벨위에배치된적어도다른제 1 액체노즐과적어도다른가스노즐을더 포함하고, 각가스노즐은개별제 1 액체노즐보다더 외부에배치되고, 상기처리모듈은상기대형기판의운송레벨보다아래에서각 제 1 액체노즐아래에배치된적어도액체위어를더 포함하고, 상기처리모듈은상기처리모듈의상기운송디바이스및 액체위어들을조정하기위한적어도조정디바이스를더 포함한다. 또한, 본발명은특히그러한처리모듈을포함하는수평장치에서대형기판을처리하는방법에관한것이다.
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6.发明授权
公开(公告)号：KR101612242B1
公开(公告)日：2016-04-26
申请号：KR1020157017342
申请日：2013-12-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C25D17/00 , C25D17/12 , C25D17/06 , C25D5/08 , H01L21/768
CPC classification number: C25D17/001 , C25D5/08 , C25D7/123 , C25D17/004 , C25D17/06 , C25D17/12
Abstract: 본발명은기판상에수직갈바닉금속, 바람직하게는구리, 성막을위한디바이스, 이러한디바이스및 처리할기판을수용하는데적합한적어도기판홀더를수용하는데적합한컨테이너, 기판상에갈바닉금속, 특히구리, 성막을위해상기컨테이너의내측에서이러한디바이스의용도에관한것이다.
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7.发明公开기판상에 수직 갈바닉 금속, 바람직하게는 구리, 성막을 위한 디바이스 및 이 디바이스를 수용하는데 적합한 컨테이너 有权用于垂直气体金属，优选铜，底物沉积的装置和适用于接收这种装置的容器
公开(公告)号：KR1020150086547A
公开(公告)日：2015-07-28
申请号：KR1020157017342
申请日：2013-12-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C25D17/00 , C25D17/12 , C25D17/06 , C25D5/08 , H01L21/768
CPC classification number: C25D17/001 , C25D5/08 , C25D7/123 , C25D17/004 , C25D17/06 , C25D17/12
Abstract: 본발명은기판상에수직갈바닉금속, 바람직하게는구리, 성막을위한디바이스, 이러한디바이스및 처리할기판을수용하는데적합한적어도기판홀더를수용하는데적합한컨테이너, 기판상에갈바닉금속, 특히구리, 성막을위해상기컨테이너의내측에서이러한디바이스의용도에관한것이다.
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公开(公告)号：KR1020150084780A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：KR1020157008481
申请日：2013-11-12
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D7/0621 , B08B3/041 , B08B3/08 , C23C18/1619 , C23C18/1628 , C23C18/1669 , C23C18/1675 , C25D5/08 , C25D17/00 , C25D17/02 , C25D17/08 , C25D21/10 , C25D21/12 , H05K3/241
Abstract: 본발명에따른기기 (1) 는처리액체 (F) 로처리될플랫재료 (B) 를가볍게처리하기위해제안된다. 기기 (1) 는다음부품들: 처리액체 (F) 가욕 레벨 (M) 까지축적될수 있는적어도하나의처리챔버 (20), 적어도하나의처리챔버 (20) 로처리액체 (F) 를공급하기위한적어도하나의공급기기 (7), 적어도하나의수송기기 (30) 로서, 상기수송기기로처리될재료 (B) 가적어도하나의처리챔버 (20) 를통하여욕 레벨 (M) 아래수송평면 (E) 에서수평위치로수송될수 있는, 상기적어도하나의수송기기 (30), 처리액체 (F) 를위한적어도하나의수용영역 (4), 및각각의배출율로적어도하나의처리챔버 (20) 로부터상기적어도하나의수용영역 (4) 으로처리액체를운반하기위해상기처리액체 (F) 를위한적어도하나의배출개구 (41) 를각각구비한적어도하나의배출기기 (40) 를갖는다. 적어도하나의배출기기 (40) 는각각적어도하나의조정시스템 (43) 을가지고, 상기조정시스템으로적어도하나의배출개구 (41) 를통하여처리액체 (F) 의배출율이조절가능하다.
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