公开(公告)号：KR1019950004198B1

公开(公告)日：1995-04-27

申请号：KR1019920015242

申请日：1992-08-25

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 안광덕 ,  강종희 ,  박영철 ,  김성주 ,  김상태

IPC: G03F7/004

Abstract: The three component photosensitive resin compsn. used in the formation of a micropattern for the mfr of semiconductor devices is composed of 100 wt. pts. of an alkali-soluble resin i.e. novolac resin contg. an aromatic ring, 5˜40 wt. pts. of a phosphagen cpd. of formula (I) [R=-COO(CCH3)3; x=3 or 4 protected with a t-butoxy carbonyl (t-BOC) gp. as a disslution inhibitor, and 1˜20 wt. pts. of an onium salt of formula ArnX+Y- [Ar=aromatic hydrocarbon gp.; n=1˜3; X=halogen or S; Y=BF4, PF6, AsF6, SbF6, CF3 or SO3 , an organic sulfonic ester or a pyrogallol sulfonic ester cpd. as a photoacid generator.

Abstract translation: 三组分感光树脂组合物。 用于半导体器件制造的微图案的形成由100重量％ 点。 的碱溶性树脂，即酚醛清漆树脂。 芳香环，5〜40重量％ 点。 的磷酸酯cpd。 的式（I）[R = -COO（CCH 3）3; x = 3或4用叔丁氧基羰基（t-BOC）gp保护。 作为消毒抑制剂，和1〜20重量％ 点。 的式ArnX + Y- [Ar =芳烃gp; N = 1〜3; X =卤素或S; Y = BF 4，PF 6，AsF 6，SbF 6，CF 3或SO 3，有机磺酸酯或连苯三酚磺酸酯cpd。 作为光致酸发生器。

公开(公告)号：KR1019940004385A

公开(公告)日：1994-03-15

申请号：KR1019920015242

申请日：1992-08-25

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 안광덕 ,  강종희 ,  박영철 ,  김성주 ,  김상태

IPC: G03F7/004

Abstract: 방향환을 포함하는 알칼리 가용성 수지 100중량부에 대하여 t-BOC기로 보호된 포스파젠화합물을 5내지 40중량부와 광산 발생제를 1내지 20중량부로 조성된 보호 포스파젠 화합물을 용해억제제로 사용한 삼성분계 감광성 수지 조성물.

公开(公告)号：KR100086913B1

公开(公告)日：1995-07-18

申请号：KR1019920015242

申请日：1992-08-25

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 안광덕 ,  강종희 ,  박영철 ,  김성주 ,  김상태

IPC: G03F7/004