표면 개질된 금속 입자 및 생분해성 고분자를 포함하는 생체 이식물, 이의 염증 억제용으로서의 용도 및 그 제조 방법
    3.
    发明公开
    표면 개질된 금속 입자 및 생분해성 고분자를 포함하는 생체 이식물, 이의 염증 억제용으로서의 용도 및 그 제조 방법 有权
    包含表面改性金属颗粒和生物可降解聚合物的生物医学植入物,其用于抑制炎症的方法及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020120029130A

    公开(公告)日:2012-03-26

    申请号:KR1020100091028

    申请日:2010-09-16

    Abstract: PURPOSE: Biomedical implants containing surface-modified metal particles and biodegradable polymers, the use of the same for suppressing inflammation, and a method for preparing the same are provided to improve the mechanical characteristic of the biodegradable polymers and to suppress the inflammation and cytotoxicity. CONSTITUTION: Biomedical implants contain surface-modified metal particles and biodegradable polymers. Acidic materials generated from the degradation of the biodegradable polymers are neutralized with basic metal particles to suppress inflammation. The basic metal particles are selected from a group including particles of a selected metal and particles of a selected metal compound. The metal is selected from a group including alkali metals and alkali earth metals. The metal compound is selected from a group including the hydroxide of alkali metals, the oxide of alkali metals, the hydroxide of alkali earth metal, and the oxide of alkali earth metal.

    Abstract translation: 目的:提供含有表面改性金属颗粒和可生物降解聚合物的生物医学植入物,其用于抑制炎症的方法及其制备方法,以改善可生物降解聚合物的机械特性并抑​​制炎症和细胞毒性。 构成:生物医学植入物含有表面改性的金属颗粒和可生物降解的聚合物。 由生物可降解聚合物的降解产生的酸性材料用碱性金属颗粒中和以抑制炎症。 碱性金属颗粒选自包括选定金属颗粒和所选金属化合物颗粒的组。 金属选自碱金属和碱土金属。 金属化合物选自碱金属的氢氧化物,碱金属的氧化物,碱土金属的氢氧化物和碱土金属的氧化物的组。

    약물 방출 스텐트 표면의 나노 코팅 방법
    4.
    发明公开
    약물 방출 스텐트 표면의 나노 코팅 방법 有权
    用于药物治疗的表面纳米技术的方法

    公开(公告)号:KR1020110121476A

    公开(公告)日:2011-11-07

    申请号:KR1020100041078

    申请日:2010-04-30

    Abstract: PURPOSE: A nano coating method of the surface of a drug releasing stent is provided to control the surface of a drug releasing stent in a nanometer scale. CONSTITUTION: A nano coating method of the surface of a drug releasing stent is constituted as follows. The surface of a stent is coated by spraying bio-degradable high molecule solvent containing biodegradable polymer on the surface of the stent by using an ultrasonic wave spray machine. The average drop size of the bio-degradable high molecule solvent is controlled in a size of 10-100 micrometers.

    Abstract translation: 目的:提供药物释放支架表面的纳米涂层方法,以纳米级控制药物释放支架的表面。 构成:药物释放支架的表面的纳米涂布方法如下构成。 通过使用超声波喷雾机在支架的表面上喷洒含有可生物降解的聚合物的生物降解性高分子溶剂来涂覆支架的表面。 将生物可降解高分子溶剂的平均滴定尺寸控制在10-100微米的尺寸。

    초고집적 반도체의 고해상도 레지스트 재료용 지환족 유도체 및그의 제조 방법
    5.
    发明公开
    초고집적 반도체의 고해상도 레지스트 재료용 지환족 유도체 및그의 제조 방법 失效
    用于超高集成度半导体高分辨率抗蚀剂材料的脂环衍生物及其制备方法

    公开(公告)号:KR1019990074239A

    公开(公告)日:1999-10-05

    申请号:KR1019980007697

    申请日:1998-03-09

    Abstract: 본 발명에는 하기 화학식 1로 표시되는 지환족 유도체 및 그의 제조 방법이 개시되어 있다.

    -(M
    a )
    x -(M
    b )
    y -(M
    c )
    u -(M
    d )
    v -


    식 중,
    M
    a 는 카르복시 또는 히드록시기를 함유한 노르보르넨 단량체로서 이고,
    M
    b 는 카르복시 또는 히드록시기를 함유한 디노르보르넨 단량체로서 이며,
    M
    c 는 전자 결핍성 단량체로서 이고,
    M
    d 는 (메트)아크릴산 에스테르 단량체로서 이며,
    R
    1 및 R
    2 는 서로 독립적으로 H 또는 산소 원자수 1 내지 4개를 갖는 이탈기, 예를 들면 H, COOH, CH
    2 OH, COOC
    2 H
    5 , COOC(CH
    3 )
    3 , 메틸 에스테르, 테트라히드로피라닐 에스테르, 테트라히드로푸라닐 에스테르, 1-에톡시에틸 에스테르 또는 t-부틸 카르보네이트이며,
    R
    3 은 O, NH 또는 N-CH
    2 CH
    3 이고,
    R
    4 는 H 또는 CH
    3 이고,
    R
    5 는 CH
    3 , CH
    2 CH
    3 , CH
    2 CH
    2 CH
    2 CH
    3 또는 C(CH
    3 )
    3 이며,
    x+y+u+v의 총 몰수를 기준으로,
    x는 0 내지 0.2, 바람직하게는 0.01 내지 0.1의 몰비를 갖는 값이고,
    y는 0.25 내지 0.5의 몰비를 갖는 값이며,
    u는 x+y이고,
    v는 0.1 내지 0.33의 몰비를 갖는 값이다.
    이러한 지환족 유도체는 ArF 엑시머 레이저 영역에서의 투명성, 고해상도 및 고감도를 갖고, 기존의 노볼락 수지와 대등한 건식 엣칭 내성을 가지며, 기존의 알칼리 현상액을 적용할 수 있고, 특히 웨이퍼에 대한 접착성 및 현상성이 개선된다. 그러므로, 이러한 지환족 유도체를 사용하여 ArF 엑시머 레이저 가공용 고해상도 레지스트 재료를 제조할 수 있다.

    보호된 안트라퀴논 유도체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법
    6.
    发明授权
    보호된 안트라퀴논 유도체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법 失效
    보호된안트라퀴논유도체와,이를이용한형광화상형성방보

    公开(公告)号:KR100367042B1

    公开(公告)日:2003-01-15

    申请号:KR1019990046512

    申请日:1999-10-26

    CPC classification number: Y02P20/55

    Abstract: PURPOSE: A method for forming a fine fluorescent image by using protected hydroxy group-containing anthraquinone derivatives or naphthacenequinone derivatives is provided. Thereby the obtained protected hydroxy group-containing compound can be applied to recording material and censor material because it can easily form a fine fluorescent image of micrometer units under the condition of a chemically amplified fine image forming process. CONSTITUTION: This method comprises the steps of: preparing a transparent solution by dissolving protected hydroxy group-containing anthraquinone derivatives of formula 1 or naphthacenequinone derivatives of formula 2 and a soluble polymer in an organic solvent; forming a thin film by coating the solution on a substrate; prebaking the thin film coated substrate; and removing a hydroxy protecting group of the anthraquinone derivatives or naphthacenequinone derivatives by treating under the condition of a chemically amplified fine image forming process.

    Abstract translation: 目的:提供一种通过使用被保护的含羟基蒽醌衍生物或并四苯醌衍生物来形成精细荧光图像的方法。 因此,所获得的被保护的含羟基化合物可以应用于记录材料和传感材料,因为它可以在化学放大的精细图像形成过程的条件下容易地形成微米单位的精细荧光图像。 构成:该方法包括以下步骤:通过将式1的受保护的含羟基蒽醌衍生物或式2的萘并萘醌衍生物和可溶性聚合物溶解在有机溶剂中制备透明溶液; 通过将溶液涂覆在基底上形成薄膜; 预烘烤薄膜涂覆的基材; 并通过在化学放大的精细图像形成过程的条件下处理除去蒽醌衍生物或萘并萘醌衍生物的羟基保护基。

    보호된 히드록시안트라퀴논 유도체 및 그의 공중합체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법
    7.
    发明授权
    보호된 히드록시안트라퀴논 유도체 및 그의 공중합체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법 失效
    保护的羟基蒽醌衍生物及其共聚物和使用其形成荧光图像的过程

    公开(公告)号:KR100341426B1

    公开(公告)日:2002-06-21

    申请号:KR1019990046511

    申请日:1999-10-26

    CPC classification number: Y02P20/55

    Abstract: 본발명은미세형광화상형성용재료의전구물질로서유용한히드록시보호된 1,4-디히드록시안트라퀴논유도체및 그의공중합체와, 이공중합체를이용한미세형광화상형성방법에관한것이다. 본발명의히드록시보호된 1,4-디히드록시안트라퀴논공중합체는히드록시기의분자내수소결합을한시적으로차단한다음, 산, 열또는광 등에의해탈보호되어색 및형광의변화를일으키기때문에, 화학증폭성미세화상형성공정조건에서쉽게미크론미터단위의미세형광화상을형성할수 있어서, 색화상및 형광화상물질과같은기록용재료, 그리고센서재료로응용될수 있다.

    α-아미노안트라센 유도체 및 그의 공중합체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법
    8.
    发明授权
    α-아미노안트라센 유도체 및 그의 공중합체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법 失效
    - 氨基蒽衍生物及其共聚物及使用其形成荧光图像的方法

    公开(公告)号:KR100324644B1

    公开(公告)日:2002-02-27

    申请号:KR1019990046513

    申请日:1999-10-26

    Abstract: 본발명은미세형광화상형성용재료의전구물질로서유용한, α-아미노안트라센유도체및 그의공중합체와, 이공중합체를이용한미세형광화상형성방법에관한것이다. 본발명의α-아미노안트라센함유공중합체는유기산또는무기산에의해형광이변하고, 광산발생제와혼합하여박막상태에서노광할경우쉽게미크론미터단위의미세형광화상을형성할수 있으며, 용액, 필름및 입자상태에서센서기능이우수하여기록용재료및 센서재료로응용될수 있다.

    보호된 안트라퀴논 유도체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법
    9.
    发明公开
    보호된 안트라퀴논 유도체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법 失效
    具有保护性羟基的蒽醌和萘醌衍生物及其使用形成荧光图像的方法

    公开(公告)号:KR1020010038525A

    公开(公告)日:2001-05-15

    申请号:KR1019990046512

    申请日:1999-10-26

    CPC classification number: Y02P20/55

    Abstract: PURPOSE: A method for forming a fine fluorescent image by using protected hydroxy group-containing anthraquinone derivatives or naphthacenequinone derivatives is provided. Thereby the obtained protected hydroxy group-containing compound can be applied to recording material and censor material because it can easily form a fine fluorescent image of micrometer units under the condition of a chemically amplified fine image forming process. CONSTITUTION: This method comprises the steps of: preparing a transparent solution by dissolving protected hydroxy group-containing anthraquinone derivatives of formula 1 or naphthacenequinone derivatives of formula 2 and a soluble polymer in an organic solvent; forming a thin film by coating the solution on a substrate; prebaking the thin film coated substrate; and removing a hydroxy protecting group of the anthraquinone derivatives or naphthacenequinone derivatives by treating under the condition of a chemically amplified fine image forming process.

    Abstract translation: 目的:提供通过使用保护的含羟基蒽醌衍生物或并四苯醌衍生物形成精细荧光图像的方法。 由此,可以在化学放大精细图像形成工序的条件下容易地形成微米单位的微细荧光图像,将得到的保护的含羟基化合物施加到记录材料和检查材料上。 构成:该方法包括以下步骤:通过将保护的含羟基的式1的蒽醌衍生物或式2的并四苯醌衍生物和可溶性聚合物溶解在有机溶剂中来制备透明溶液; 通过将溶液涂布在基材上形成薄膜; 预烘烤薄膜涂布基材; 并通过在化学放大的精细成像方法的条件下处理除去蒽醌衍生物或萘并醌衍生物的羟基保护基。

    보호 포스파젠 화합물을 용해억제제로 사용한 삼성분계 감광성 수지조성물
    10.
    发明授权
    보호 포스파젠 화합물을 용해억제제로 사용한 삼성분계 감광성 수지조성물 失效
    三元光敏树脂组合物,使用保护性磷腈化合物作为溶解抑制剂

    公开(公告)号:KR1019950004198B1

    公开(公告)日:1995-04-27

    申请号:KR1019920015242

    申请日:1992-08-25

    Abstract: The three component photosensitive resin compsn. used in the formation of a micropattern for the mfr of semiconductor devices is composed of 100 wt. pts. of an alkali-soluble resin i.e. novolac resin contg. an aromatic ring, 5˜40 wt. pts. of a phosphagen cpd. of formula (I) [R=-COO(CCH3)3; x=3 or 4 protected with a t-butoxy carbonyl (t-BOC) gp. as a disslution inhibitor, and 1˜20 wt. pts. of an onium salt of formula ArnX+Y- [Ar=aromatic hydrocarbon gp.; n=1˜3; X=halogen or S; Y=BF4, PF6, AsF6, SbF6, CF3 or SO3 , an organic sulfonic ester or a pyrogallol sulfonic ester cpd. as a photoacid generator.

    Abstract translation: 三组分感光树脂组合物。 用于半导体器件制造的微图案的形成由100重量% 点。 的碱溶性树脂,即酚醛清漆树脂。 芳香环,5〜40重量% 点。 的磷酸酯cpd。 的式(I)[R = -COO(CCH 3)3; x = 3或4用叔丁氧基羰基(t-BOC)gp保护。 作为消毒抑制剂,和1〜20重量% 点。 的式ArnX + Y- [Ar =芳烃gp; N = 1〜3; X =卤素或S; Y = BF 4,PF 6,AsF 6,SbF 6,CF 3或SO 3,有机磺酸酯或连苯三酚磺酸酯cpd。 作为光致酸发生器。

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