커플된 양자점 구조 및 그 형성방법
    6.
    发明授权
    커플된 양자점 구조 및 그 형성방법 有权
    耦合量子点结构及其形成方法

    公开(公告)号:KR100577738B1

    公开(公告)日:2006-05-10

    申请号:KR1020040075667

    申请日:2004-09-21

    Abstract: 본 발명은 전하운반자를 포획하는 성질을 가진 자발형성 양자점을 포함하는 단층 혹은 다층 구조의 반도체층 상부에 금속탐침을 위치시켜 금속탐침과 반도체간에 전계를 인가함으로써 자발형성 양자점 상부의 반도체층에 반전 영역이 형성되도록 함으로써 자발형성 양자점과 국소 반전층에 따른 인공 양자점 사이의 커플된 양자 구조를 형성한다. 본 발명에 따르면, 새로운 커플된 양자구조가 가능하며, 이를 이용한 새로운 양자소자가 가능하다.
    커플된 양자점, 인공 양자점, 자발형성 양자점, 금속탐침, 국소 반전층.

    Abstract translation: 反转为自发形成量子点顶部的半导体层的本发明通过将金属探针放置到半导体层的单层或多层结构的上部包括一个自发形式施加在金属之间的电场具有俘获电荷载体末端的性质和半导体区的量子点 从而根据自发形成量子点和局部反转层在人造量子点之间形成耦合的量子结构。 根据本发明,新的耦合量子结构是可能的,并且使用它的新量子器件是可能的。

    커플된 양자점 구조 및 그 형성방법
    8.
    发明公开
    커플된 양자점 구조 및 그 형성방법 有权
    耦合量子点结构的形成方法

    公开(公告)号:KR1020060026797A

    公开(公告)日:2006-03-24

    申请号:KR1020040075667

    申请日:2004-09-21

    CPC classification number: H01L29/66977

    Abstract: 본 발명은 전하운반자를 포획하는 성질을 가진 자발형성 양자점을 포함하는 단층 혹은 다층 구조의 반도체층 상부에 금속탐침을 위치시켜 금속탐침과 반도체간에 전계를 인가함으로써 자발형성 양자점 상부의 반도체층에 반전 영역이 형성되도록 함으로써 자발형성 양자점과 국소 반전층에 따른 인공 양자점 사이의 커플된 양자 구조를 형성한다. 본 발명에 따르면, 새로운 커플된 양자구조가 가능하며, 이를 이용한 새로운 양자소자가 가능하다.
    커플된 양자점, 인공 양자점, 자발형성 양자점, 금속탐침, 국소 반전층.

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