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    METHOD OF SELF-LATCHING FOR ADHESION DURING SELF-ASSEMBLY OF ELECTRONIC OR OPTICAL COMPONENTS
    1.
    发明申请
    METHOD OF SELF-LATCHING FOR ADHESION DURING SELF-ASSEMBLY OF ELECTRONIC OR OPTICAL COMPONENTS 审中-公开
    电子或光学元件自组装自粘式自粘式方法

    公开(公告)号：WO03028094A2

    公开(公告)日：2003-04-03

    申请号：PCT/US0230988

    申请日：2002-09-26

    Applicant: HRL LAB LLC ,  HUNTER ANDREW T ,  BREWER PETER D

    Inventor： HUNTER ANDREW T ,  BREWER PETER D

    IPC: B05D3/10 ,  B32B7/00 ,  C09J5/04 ,  G02B3/00 ,  H01L21/98 ,  H01L23/00 ,  H01Q21/00

    CPC classification number: H01L25/50 ,  H01L24/95 ,  H01L2224/95085 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/00

    Abstract: A method for assembling components on a substrate including the steps of: (a) selectively coating at least a first receptor site of the substrate with a liquid precursor that forms a solid adhesive upon contact with an initiator; (b) providing each of the components with an adhesion surface that has the initiator; and (c) depositing the components on the substrate in a manner that causes a first of the components to contact the at least first receptor site whereupon contact between the initiator and the liquid precursor causes formation of the adhesive which affixes the first compound to the first receptor site. In a preferred embodiment of the invention, the precursor is a liquid monomer and the initiator initiates a polymerization reaction upon contact with the monomer to form a solid polymer.

    Abstract translation: 一种用于在基板上组装部件的方法，包括以下步骤：（a）用与引发剂接触时形成固体粘合剂的液体前体选择性地涂覆基材的至少第一受体部位; （b）为每个组分提供具有引发剂的粘合表面; 和（c）以使得第一组分接触至少第一受体部位的方式将组分沉积在衬底上，因​​此引发剂和液体前体之间的接触导致粘合剂的形成，所述粘合剂将第一化合物固定到第一 受体位点。 在本发明的优选实施方案中，前体是液体单体，并且引发剂在与单体接触时引发聚合反应以形成固体聚合物。

    Method for assembly of complementary-shaped receptacle site and device microstructures
    3.
    发明专利
    Method for assembly of complementary-shaped receptacle site and device microstructures 未知

    公开(公告)号：AU2002336634A1

    公开(公告)日：2003-04-14

    申请号：AU2002336634

    申请日：2002-09-20

    Applicant: HRL LAB LLC

    Inventor： HUNTER ANDREW T ,  DECKARD LUISA M ,  BREWER PETER D

    IPC: H01L21/58 ,  H01L21/98 ,  H01L23/13 ,  H01L25/065 ,  H01L29/06

    Abstract: A method for assembly including the steps of: (a) providing a plurality of microstructure components with each of the components having a bottom with the same three dimensional shape; (b) forming a mold with at least one protuberance from a surface thereof so that the at least one protuberance has the same shape; (c) molding a moldable substrate with the mold to form a molded substrate having a surface with at least one recess having the same shape; and (d) positioning a first of the plurality of microstructure components into said at least one recess. Each of the microstructure components may be formed by a masking and etching process, with the mold being formed by the same masking and etching process. The positioning step may consist of mixing the microstructure components with a fluid to form a slurry; and depositing the slurry on the surface of the molded substrate to cause the first of the plurality of microstructure components to self-align in the recess.

    IMAGING ARRAY
    5.
    发明申请
    IMAGING ARRAY 审中-公开
    成像阵列

    公开(公告)号：WO03029772A3

    公开(公告)日：2003-06-19

    申请号：PCT/US0229962

    申请日：2002-09-19

    Applicant: HRL LAB LLC

    Inventor： POBANZ CARL W ,  MATLOUBIAN MEHRAN ,  BREWER PETER D

    IPC: G01V8/00 ,  H01L23/522 ,  H01L27/146 ,  H01L23/538

    CPC classification number: G01V8/005 ,  H01L23/5227 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

    Abstract: A focal plane array for millimeter wave imaging comprising a three dimensional stack of antenna elements and radiometer microwave monolithic integrated circuits (MMICs) embedded in polymer dielectric layers built on top of a silicon substrate. Each radiometer MMIC and antenna element comprise a radiometer pixel. The silicon substrate contains integrated circuits to collect and process the signals from each radiometer pixel and generate a full-frame video signal. The array can be fabricated on a single silicon wafer or can be constructed from structures fabricated on multiple silicon wafers.

    Abstract translation: 一种用于毫米波成像的焦平面阵列，包括嵌入在硅衬底顶部上的聚合物介电层中的天线元件和辐射计微波单片集成电路（MMIC）的三维堆叠。 每个辐射计MMIC和天线元件包括辐射计像素。 硅基板包含集成电路，用于收集和处理来自每个辐射计像素的信号并生成全帧视频信号。 该阵列可以制造在单个硅晶片上，或者可以由制造在多个硅晶片上的结构构成。

    Method of self-assembly of electronic or optical components using an adhesive
    7.
    发明专利
    Method of self-assembly of electronic or optical components using an adhesive 未知

    公开(公告)号：AU2002337764A1

    公开(公告)日：2003-04-07

    申请号：AU2002337764

    申请日：2002-09-26

    Applicant: HRL LAB LLC

    Inventor： BREWER PETER D ,  HUNTER ANDREW T

    IPC: B05D3/10 ,  B32B7/00 ,  C09J5/04 ,  G02B3/00 ,  H01L21/98 ,  H01L23/00 ,  H01Q21/00

    Abstract: A method for assembling components on a substrate including the steps of: (a) selectively coating at least a first receptor site of the substrate with a liquid precursor that forms a solid adhesive upon contact with an initiator; (b) providing each of the components with an adhesion surface that has the initiator; and (c) depositing the components on the substrate in a manner that causes a first of the components to contact the at least first receptor site whereupon contact between the initiator and the liquid precursor causes formation of the adhesive which affixes the first compound to the first receptor site. In a preferred embodiment of the invention, the precursor is a liquid monomer and the initiator initiates a polymerization reaction upon contact with the monomer to form a solid polymer.

    Verfahren zum Herstellen einer Brennstoffzellenkomponente
    8.
    发明专利
    Verfahren zum Herstellen einer Brennstoffzellenkomponente 未知

    公开(公告)号：DE102012208978B4

    公开(公告)日：2020-10-08

    申请号：DE102012208978

    申请日：2012-05-29

    Applicant: GM GLOBAL TECH OPERATIONS LLC ,  HRL LAB LLC

    Inventor： ROCK JEFFREY A ,  LAI YEH-HUNG ,  NEWMAN KEITH E ,  FLY GERALD W ,  LIU PING ,  JACOBSEN ALAN J ,  CARTER WILLIAM B ,  BREWER PETER D

    IPC: H01M8/0202 ,  B29C35/08

    Abstract: Verfahren zum Herstellen einer Brennstoffzellenkomponente (100), mit den Schritten:Bereitstellen einer Maske (102) mit einer Mehrzahl strahlungstransparenter Durchbrechungen (104), wobei die Mehrzahl strahlungstransparenter Durchbrechungen (104) erlaubt, dass eine Mehrzahl von Strahlungsbündeln (106) hindurchgeführt werden kann;Aufbringen einer Opferfreigabeschicht (148) auf die Maske (102), wobei die Opferfreigabeschicht (148) transparent für die Mehrzahl von Strahlungsbündeln (106) ist und wobei die Opferfreigabeschicht (148) eine vorgegebene Dicke aufweist;Bereitstellen eines strahlungssensitiven Materials (108) mit einer Sensitivität gegenüber der Mehrzahl von Strahlungsbündeln (106);Aufbringen des strahlungssensitiven Materials (108) auf die Opferfreigabeschicht (148), so dass die Opferfreigabeschicht (148) zwischen der Maske (102) und dem strahlungssensitiven Material (108) angeordnet ist;Bereitstellen einer Strömungsfeldschicht (116);Anordnen des strahlungssensitiven Materials (108) an der Strömungsfeldschicht (116); undAussetzen des strahlungssensitiven Materials (108) der Mehrzahl von Strahlungsbündeln (106) durch die strahlungstransparenten Durchbrechungen (104) in der Maske (102), um eine Diffusionsmediumschicht (114) mit einer Mikrofachwerkstruktur zu bilden.

    Verfahren zur Herstellung eines Brennstoffzellenströmungsfeldes mit Photopolymerwänden
    9.
    发明专利
    Verfahren zur Herstellung eines Brennstoffzellenströmungsfeldes mit Photopolymerwänden 未知

    公开(公告)号：DE102012204316A1

    公开(公告)日：2012-09-27

    申请号：DE102012204316

    申请日：2012-03-19

    Applicant: GM GLOBAL TECH OPERATIONS INC ,  HRL LAB LLC

    Inventor： ROCK JEFFREY A ,  WILLIAMS JEFF D ,  JACOBSEN ALAN J ,  BREWER PETER D ,  CARTER WILLIAM B

    IPC: H01M8/02

    Abstract: s für eine Brennstoffzelle umfasst die Schritte, dass: ein Substrat vorgesehen wird; eine Vielzahl von Strahlungsquellen die ausgestaltet sind, um eine Vielzahl von Strahlen zu erzeugen, vorgesehen wird; ein strahlungsempfindliches Material auf dem Substrat angeordnet wird; eine Abbildungsmaske zwischen der Vielzahl von Strahlungsquellen und dem strahlungsempfindlichen Material angeordnet wird; und das strahlungsempfindliche Material durch einen ersten Abschnitt der strahlungsdurchlässigen Durchbrechungen und einen zweiten Abschnitt der strahlungsdurchlässigen Durchbrechungen in der Abbildungsmaske hindurch der Vielzahl von Strahlen ausgesetzt wird, um die Vielzahl von Fachwerkelementen und die Vielzahl von Wandelementen in dem strahlungsempfindlichen Material zu bilden, wobei die Fachwerkelemente eine Vielzahl von Fachwerken bilden, die ausgestaltet sind, um eine benachbarte Diffusionsmediumschicht zu tragen, und die Wandelemente einen Fluidpfad entlang einer Länge des Substrats definieren.

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