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公开(公告)号：TW201741779A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106106742
申请日：2017-03-01
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 凡 力司特 雅得安 喬漢 , VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN , 柴特瑪司 艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 希尼 保羅 克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 麥克 納馬拉 艾略特 葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD , 沃馬 艾羅克 , VERMA, ALOK , 休威斯 湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 克瑞馬 雨果 奧格斯提納斯 約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH , 迪 拉 福恩特 范諾汀 瑪麗亞 伊莎貝爾 , DE LA FUENTE VALENTIN, MARIA ISABEL , 凡 維特明 柯恩 , VAN WITTEVEEN, KOEN , 薩爾 瑪蒂貞 瑪麗亞 , ZAAL, MARTIJN MARIA , 王淑錦 , WANG, SHU JIN
IPC: G03F7/20 , G01N21/88 , G01N21/95 , G06F17/50 , H01L21/308
CPC classification number: G06F17/5072 , G01B3/14 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8887 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/7003 , G06F17/5009 , G06F17/5081 , G06F2217/12 , H01L21/308 , H01L22/12
Abstract: 一種度量衡目標，其包括：一第一結構，其經配置以藉由一第一圖案化製程而產生；及一第二結構，其經配置以藉由一第二圖案化製程而產生，其中該第一結構及/或該第二結構並不用以產生一器件圖案之一功能態樣，且其中該第一結構及該第二結構一起形成一單位胞元之一或多個例項，該單位胞元在一標稱實體組態下具有幾何對稱性，且其中該單位胞元具有一特徵，該特徵在不同於該標稱實體組態之一實體組態下歸因於該第一圖案化製程、該第二圖案化製程及/或另一圖案化製程中之圖案置放之一相對移位而造成該單位胞元中之一不對稱性。
Abstract in simplified Chinese: 一种度量衡目标，其包括：一第一结构，其经配置以借由一第一图案化制程而产生；及一第二结构，其经配置以借由一第二图案化制程而产生，其中该第一结构及/或该第二结构并不用以产生一器件图案之一功能态样，且其中该第一结构及该第二结构一起形成一单位胞元之一或多个实例，该单位胞元在一标称实体组态下具有几何对称性，且其中该单位胞元具有一特征，该特征在不同于该标称实体组态之一实体组态下归因于该第一图案化制程、该第二图案化制程及/或另一图案化制程中之图案置放之一相对移位而造成该单位胞元中之一不对称性。
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公开(公告)号：TW201740213A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106106030
申请日：2017-02-23
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 范弗丹當克 麥可 喬漢斯 , VERVOORDELDONK, MICHAEL JOHANNES , 羅夫 傑瑞 , LOF, JOERI
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
CPC classification number: G03F7/7075 , G03F7/70733 , G03F7/70875
Abstract: 本發明提供一種用於處置一基板之基板處置系統，其包含一固持器、一旋轉裝置及一移動器。該固持器係用於固持該基板。該旋轉裝置係用於使該固持器圍繞垂直於一平面之一軸線旋轉。該移動器係用於使該固持器相對於該軸線沿著該平面中之一路徑移動。另外，提供一種包含該基板處置系統之微影設備。該基板處置系統可包含經配置以在一第一情形下將該固持器耦接至該移動器及該旋轉裝置中之一者之一耦接裝置。該耦接裝置可經配置以在一第二情形下將該固持器與該移動器及該旋轉裝置中之該者解耦。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于处置一基板之基板处置系统，其包含一固持器、一旋转设备及一移动器。该固持器系用于固持该基板。该旋转设备系用于使该固持器围绕垂直于一平面之一轴线旋转。该移动器系用于使该固持器相对于该轴线沿着该平面中之一路径移动。另外，提供一种包含该基板处置系统之微影设备。该基板处置系统可包含经配置以在一第一情形下将该固持器耦接至该移动器及该旋转设备中之一者之一耦接设备。该耦接设备可经配置以在一第二情形下将该固持器与该移动器及该旋转设备中之该者解耦。
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公开(公告)号：TW201740211A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106105219
申请日：2017-02-17
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 希可利 哈奇 爾金 , CEKLI, HAKKI ERGUN , 石橋真史 , ISHIBASHI, MASASHI , 凡 迪傑克 里昂 保羅 , VAN DIJK, LEON PAUL , 凡 哈倫 理查 喬哈奈 法蘭西卡斯 , VAN HAREN, RICHARD JOHANNES FRANCISCUS , 柳星蘭 , LIU, XING LAN , 強布洛特 雷納 瑪麗亞 , JUNGBLUT, REINER MARIA , 艾凡德斯奇吉 賽德利克 馬可 , AFFENTAUSCHEGG, CEDRIC MARC , 歐頓 羅納德 亨利克斯 喬哈奈 , OTTEN, RONALD HENRICUS JOHANNES
CPC classification number: G03F9/7034 , G03F7/70258 , G03F7/70633 , G03F7/70783 , G03F9/7011
Abstract: 一種微影程序，其包括：將一基板(W)夾持(CL)至一基板支撐件(WT)上；量測(AS)橫越該經夾持基板之標記之位置；及使用經量測之該等位置將一圖案施加至該經夾持。基於橫越該基板而量測之該等位置中的一翹曲誘發性特性(402、404、406)之辨識而將一校正(WCOR)應用於該經施加圖案在該基板之局域化區中之定位。在一項實施例中，首先藉由使用該等經量測位置及其他資訊(CDAT)推斷該翹曲基板之一或多個形狀特性(FFW)來產生該校正。接著，基於該等經推斷形狀特性，應用一夾持模型(WCM)以回應於夾持而模擬該翹曲基板之變形。第三，基於該經模擬變形計算該校正(LCOR)。可由一查找表整合及/或實施此等步驟中的一些或全部。
Abstract in simplified Chinese: 一种微影进程，其包括：将一基板(W)夹持(CL)至一基板支撑件(WT)上；量测(AS)横越该经夹持基板之标记之位置；及使用经量测之该等位置将一图案施加至该经夹持。基于横越该基板而量测之该等位置中的一翘曲诱发性特性(402、404、406)之辨识而将一校正(WCOR)应用于该经施加图案在该基板之局域化区中之定位。在一项实施例中，首先借由使用该等经量测位置及其他信息(CDAT)推断该翘曲基板之一或多个形状特性(FFW)来产生该校正。接着，基于该等经推断形状特性，应用一夹持模型(WCM)以回应于夹持而仿真该翘曲基板之变形。第三，基于该经仿真变形计算该校正(LCOR)。可由一查找表集成及/或实施此等步骤中的一些或全部。
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公开(公告)号：TW201740209A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106100929
申请日：2017-01-12
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 裘寧克 安德烈 伯納德斯 , JEUNINK, ANDRE BERNARDUS , 馬汀斯 羅比 法蘭西斯科斯 喬瑟夫司 , MARTENS, ROBBY FRANCISCUS JOSEPHUS , 丹 佛絲 葉瑟芙 卡倫 馬莉雅 , DE VOS, YOUSSEF KAREL MARIA , 凡 朵斯特 雷哥 彼德斯 康納利斯 , VAN DORST, RINGO PETRUS CORNELIS , 譚 柏格 傑哈德 艾伯特 , TEN BRINKE, GERHARD ALBERT , 珊登 德爾克 杰洛米 安德烈 , SENDEN, DIRK JEROME ANDRE , 柏提斯 寇音 修伯特 邁修斯 , BALTIS, COEN HUBERTUS MATHEUS , 傑利森 賈斯汀 裘漢斯 赫馬努斯 , GERRITZEN, JUSTIN JOHANNES HERMANUS , 卡敏加 吉而摩 馬修斯 , KAMMINGA, JELMER MATTHEUS , 帕西提 伊芙琳 瓦莉斯 , PACITTI, EVELYN WALLIS , 波伊茲 湯瑪士 , POIESZ, THOMAS , 西柏利奇 艾利 可尼利斯 , SCHEIBERLICH, ARIE CORNELIS , 史古登 伯特 德克 , SCHOLTEN, BERT DIRK , 史卡德 安卓列 , SCHREUDER, ANDRE , 索薩德 雅伯罕 亞歷山卓 , SOETHOUDT, ABRAHAM ALEXANDER , 特洛普 塞弗烈德 亞歷山德 , TROMP, SIEGFRIED ALEXANDER , 凡 迪 威弗 尤里 喬哈奈 賈瑞爾 , VAN DE VIJVER, YURI JOHANNES GABRIEL
IPC: G03F7/20 , H01L21/683 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/6838 , G03F7/707 , G03F7/70733 , H01L21/68742
Abstract: 一種用於自經組態以支撐一基板之一支撐台卸載該基板之方法，該方法包含：經由該支撐台中之複數個氣流開口將氣體供應至該支撐台之一基座表面與該基板之間的一間隙，其中在卸載之一初始階段期間，經由該支撐台之一外部區域中之至少一個氣流開口供應該氣體，並且不經由該支撐台之在該外部區域徑向內部之一中心區域中之任一氣流開口供應該氣體；及在卸載之一後續階段期間，經由該外部區域中之至少一個氣流開口及該中心區域中之至少一個氣流開口供應該氣體。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于自经组态以支撑一基板之一支撑台卸载该基板之方法，该方法包含：经由该支撑台中之复数个气流开口将气体供应至该支撑台之一基座表面与该基板之间的一间隙，其中在卸载之一初始阶段期间，经由该支撑台之一外部区域中之至少一个气流开口供应该气体，并且不经由该支撑台之在该外部区域径向内部之一中心区域中之任一气流开口供应该气体；及在卸载之一后续阶段期间，经由该外部区域中之至少一个气流开口及该中心区域中之至少一个气流开口供应该气体。
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公开(公告)号：TW201740077A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106114027
申请日：2017-04-27
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 林楠 , LIN, NAN , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 盧波 山德 巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 吉朋 尼爾斯 , GEYPEN, NIELS
CPC classification number: G03F7/70616 , G01B11/24 , G01N21/9501 , G02F1/3551 , G02F1/37 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , H01S3/0092 , H01S3/1305 , H01S3/1625 , H01S3/1636
Abstract: 本發明揭示一種在一檢測裝置中執行一量測之方法，及一種相關聯檢測裝置及高諧波產生(HHG)源。該方法包含：組態一高諧波產生輻射源之至少一個驅動雷射脈衝之一或多個可控制特性以控制由該高諧波產生輻射源提供的照明輻射之輸出發射光譜；及運用該照明輻射照明一目標結構。該方法可包含組態該驅動雷射脈衝使得該輸出發射光譜包含複數個離散諧波波峰。替代地，該方法可包含使用具有不同波長之複數個驅動雷射脈衝使得該輸出發射光譜係實質上單色的。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种在一检测设备中运行一量测之方法，及一种相关联检测设备及高谐波产生(HHG)源。该方法包含：组态一高谐波产生辐射源之至少一个驱动激光脉冲之一或多个可控制特性以控制由该高谐波产生辐射源提供的照明辐射之输出发射光谱；及运用该照明辐射照明一目标结构。该方法可包含组态该驱动激光脉冲使得该输出发射光谱包含复数个离散谐波波峰。替代地，该方法可包含使用具有不同波长之复数个驱动激光脉冲使得该输出发射光谱系实质上单色的。
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公开(公告)号：TW201736948A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106108493
申请日：2017-03-15
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 莫依司特 比爾愛曲 , MOEST, BEARRACH , 貝克 羅威爾 蘭尼 , BAKER, LOWELL LANE , 道尼斯 詹姆士 羅伯特 , DOWNES, JAMES ROBERT , 侯堤加 威京南德 , HOITINGA, WIJNAND , 潘 赫爾曼 佛肯 , PEN, HERMEN FOLKEN
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/705 , G03F7/70783
Abstract: 本發明係關於一種裝置，其包括：一照明系統，其用以調節一輻射光束；一支撐件，其用以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其用以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上；及一控制系統，其經組態以：接收特性化一圖案分佈之圖案資料；接收特性化該輻射光束之輻射資料；基於該圖案資料及該輻射資料判定該圖案之一耗散分佈；藉由在該圖案化器件之一熱機械模型中應用該耗散分佈來判定該圖案之變形；及基於該圖案之該變形判定用以控制該裝置之一組件之一控制信號。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种设备，其包括：一照明系统，其用以调节一辐射光束；一支撑件，其用以支撑一图案化器件，该图案化器件能够在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其用以将该经图案化辐射光束投影至该基板之一目标部分上；及一控制系统，其经组态以：接收特性化一图案分布之图案数据；接收特性化该辐射光束之辐射数据；基于该图案数据及该辐射数据判定该图案之一耗散分布；借由在该图案化器件之一热机械模型中应用该耗散分布来判定该图案之变形；及基于该图案之该变形判定用以控制该设备之一组件之一控制信号。
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公开(公告)号：TW201734627A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106120860
申请日：2012-07-02
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 科提羅吉爾 漢特李庫斯 馬格達雷納 , CORTIE,ROGIER HENDRIKUS MAGDALENA , 添 凱特尼可拉斯 , TEN KATE,NICOLAAS , 羅賽特耐可 賈可伯斯 喬漢 , ROSET,NIEK JACOBUS JOHANNES , 瑞潘米歇爾 , RIEPEN,MICHEL , 卡泰恩司亨利克斯 裘塞夫 , CASTELIJNS,HENRICUS JOZEF , 羅伯茲康納利 馬利亞 , ROPS,CORNELIUS MARIA , 奧維卡皮金 文森 , OVERKAMP,JIM VINCENT
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341
Abstract: 一種用於一微影裝置之流體處置結構，該流體處置結構在自經組態以含有浸潤流體之一空間至在該流體處置結構外部之一區的一邊界處具有：一彎液面牽制特徵，其用以抵抗自該空間在一徑向向外方向上浸潤流體之傳遞；及呈一線性陣列之複數個氣體供應開口，其至少部分地環繞該一或多個彎液面牽制特徵且自該一或多個彎液面牽制特徵徑向地向外，其中呈一線性陣列之該複數個氣體供應開口具有一相似或相同大小。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于一微影设备之流体处置结构，该流体处置结构在自经组态以含有浸润流体之一空间至在该流体处置结构外部之一区的一边界处具有：一弯液面牵制特征，其用以抵抗自该空间在一径向向外方向上浸润流体之传递；及呈一线性数组之复数个气体供应开口，其至少部分地环绕该一或多个弯液面牵制特征且自该一或多个弯液面牵制特征径向地向外，其中呈一线性数组之该复数个气体供应开口具有一相似或相同大小。
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公开(公告)号：TW201734435A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105142407
申请日：2016-12-21
Applicant: ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 薛瑪 葉伊慈 康斯坦那屈 , SHMAREV, YEVGENIY KONSTANTINOVICH , 史莫諾夫 史塔尼拉夫 , SMIRNOV, STANISLAV , 曾倩虹 , TSENG, CHIEN-HUNG , 柯蘭 愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT
IPC: G01N21/88 , G01N21/95 , G01N21/956 , G03F7/20
CPC classification number: G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8822 , G01N2021/95676 , G01N2201/0638 , G03F7/70625 , G03F7/70641
Abstract: 本發明係關於一種檢測設備，其包括：一基板固持器，其經組態以固持一基板；一孔徑裝置；及一光學系統，其經組態以將一第一量測輻射光束導向至該基板上，該第一量測光束具有一第一強度分佈，且該光學系統經組態以在與將該第一量測光束導向於該基板上之時間相同的一時間將一第二聚焦輻射光束導向至該基板上，該第二聚焦光束具有一第二強度分佈，其中該第二強度分佈之至少部分至少在該基板及/或該孔徑裝置處與該第一強度分佈空間上分離。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种检测设备，其包括：一基板固持器，其经组态以固持一基板；一孔径设备；及一光学系统，其经组态以将一第一量测辐射光束导向至该基板上，该第一量测光束具有一第一强度分布，且该光学系统经组态以在与将该第一量测光束导向于该基板上之时间相同的一时间将一第二聚焦辐射光束导向至该基板上，该第二聚焦光束具有一第二强度分布，其中该第二强度分布之至少部分至少在该基板及/或该孔径设备处与该第一强度分布空间上分离。
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公开(公告)号：TW201732454A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105142104
申请日：2016-12-19
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 史拉特伯恩 唐恩 毛瑞斯 , SLOTBOOM, DAAN MAURITS , 庫柏斯 米切爾 , KUPERS, MICHIEL
CPC classification number: G03F7/70525 , G03F7/705 , G03F7/70633 , G03F9/7073
Abstract: 在處理數個基板之後使用效能量測目標來量測一微影製程之效能。在一設定階段中，方法參考圖案化製程之預期參數自複數個候選標記類型當中選擇一對準標記類型及對準配方。在使用該圖案化製程曝光數個測試基板之後，藉由比較由一參考技術所量測之該圖案化製程之效能之經量測效能(例如，疊對)而選擇一較佳度量衡目標類型及度量衡配方。基於在該圖案化製程之實際執行之後對位置量測標記及效能量測目標之量測，可修正該對準標記類型及/或配方，由此共同最佳化該等對準標記及度量衡目標。亦可在該製程之後續操作期間比較替代性批次回饋策略。
Abstract in simplified Chinese: 在处理数个基板之后使用性能量测目标来量测一微影制程之性能。在一设置阶段中，方法参考图案化制程之预期参数自复数个候选标记类型当中选择一对准标记类型及对准配方。在使用该图案化制程曝光数个测试基板之后，借由比较由一参考技术所量测之该图案化制程之性能之经量测性能(例如，叠对)而选择一较佳度量衡目标类型及度量衡配方。基于在该图案化制程之实际运行之后对位置量测标记及性能量测目标之量测，可修正该对准标记类型及/或配方，由此共同最优化该等对准标记及度量衡目标。亦可在该制程之后续操作期间比较替代性批次回馈策略。
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公开(公告)号：TW201732450A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105141585
申请日：2016-12-15
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 陳駿 , CHEN, JUN , 瓦倫 湯瑪士 I , WALLOW, THOMAS I. , 雷那司 巴特 , LAENENS, BART , 彭 意行 , PENG, YI-HSING
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70625 , G03F7/705
Abstract: 一種方法，其包括：針對一圖案化程序獲得複數個量規圖案之複數個量規，每一量規圖案經組態以在該圖案化程序之一參數作為該圖案化程序之部分產生時用於量測該圖案化程序之該參數；及自該複數個量規產生一或多個量規之一選擇，其中倘若該同一量規圖案之一量規及若存在的所有其他量規或連結至該量規的該同一量規圖案之該一或多個量規中之所有者通過一量規可印刷性檢查，則該量規包括在該選擇中。
Abstract in simplified Chinese: 一种方法，其包括：针对一图案化进程获得复数个量规图案之复数个量规，每一量规图案经组态以在该图案化进程之一参数作为该图案化进程之部分产生时用于量测该图案化进程之该参数；及自该复数个量规产生一或多个量规之一选择，其中倘若该同一量规图案之一量规及若存在的所有其他量规或链接至该量规的该同一量规图案之该一或多个量规中之所有者通过一量规可印刷性检查，则该量规包括在该选择中。
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